公开(公告)号：CN1680510A

公开(公告)日：2005-10-12

申请号：CN200510067780.2

申请日：2005-03-16

Applicant: 三星康宁株式会社

Inventor： 赵允珠 ,  郑钟植 ,  崔东泉

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02

Abstract: 一种不附聚的氧化铈含水浆料，其具有良好的分散稳定性和优异的抛光生产率并产生较少的划痕，其包含体积平均颗粒尺寸为0.1到0.2μm的氧化铈颗粒，且其特征在于当在1970g0的平均离心力(g)的作用下离心2分钟后，所述含水浆料中的固体含量降低20重量％或更少，其中g0代表重力加速度。

公开(公告)号：CN1543492A

公开(公告)日：2004-11-03

申请号：CN02816212.9

申请日：2002-08-20

Applicant: 三星康宁株式会社

Inventor： 李鳞渊 ,  金尚太 ,  赵允珠 ,  朴商圭 ,  金炅俊

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1445 ,  H01L21/31053 ,  Y10T428/325

Abstract: 一种用于CMP的抛光淤浆组合物，包括0.5－5重量％的分散在水介质中的二氧化硅涂覆铈土粉末，其可有利地用于平整各种半导体和场致发光器件的薄膜层。

公开(公告)号：CN1295291C

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN02816212.9

申请日：2002-08-20

Applicant: 三星康宁株式会社

Inventor： 李鳞渊 ,  金尚太 ,  赵允珠 ,  朴商圭 ,  金炅俊

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1445 ,  H01L21/31053 ,  Y10T428/325

Abstract: 一种用于CMP的抛光淤浆组合物，包括0.5-5重量%的分散在水介质中的二氧化硅涂覆铈土粉末，其可有利地用于平整各种半导体和场致发光器件的薄膜层。

公开(公告)号：CN1840602A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610058484.0

申请日：2006-03-28

Applicant: 三星康宁株式会社

Inventor： 赵允珠 ,  李鳞渊 ,  田勋秀 ,  洪德泳 ,  金兑映 ,  李相益 ,  朴恩敬

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明涉及一种用于制备抛光浆料的改进方法，该方法包括：将抛光颗粒和阴离子聚合酸分散在水中；然后按抛光颗粒的重量份数为100份计将以重量份数为0.1到8份的量的碱性材料添加到所得分散体系中。通过本发明方法得到的抛光浆料显示出了良好的分散稳定性和非－Prestonian抛光性能，这能有益地用在各种精密电子器件的化学机械抛光中。