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公开(公告)号：CN101548465B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200780045176.7
申请日：2007-12-04
Applicant: 明锐有限公司
IPC: H03H9/24
CPC classification number: H03H3/0072 , H03H3/0073 , H03H9/02244 , H03H9/2463 , H03H2009/02511 , H03H2009/02519
Abstract: 本发明涉及用于MEMS振荡器的方法及设备。一种谐振器包括CMOS基底，其包括第一电极及第二电极。所述CMOS基底设置成向所述第一电极提供一个或更多控制信号。所述谐振器还包括谐振器结构，其包括硅材料层。所述谐振器结构连接至所述CMOS基底并设置成响应于所述一个或更多控制信号而发生谐振。
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公开(公告)号：CN101542717B
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200780044181.6
申请日：2007-09-27
Applicant: 明锐有限公司
IPC: H01L23/02
CPC classification number: B81C1/0096 , B81B3/0005 , B81B2201/042 , B81C2201/112 , G02B26/0833
Abstract: 本发明涉一种微机械器件组件，包括：包封在处理区域内的微机械器件；以及润滑剂通道，其被形成在所述处理区域的内壁上并与所述处理区域流体连通。润滑剂经由毛细力注入到所述润滑剂通道中，并且通过所述润滑剂对所述润滑剂通道的内表面的表面张力保持在所述润滑剂通道内。容纳润滑剂的润滑剂通道提供了新鲜润滑剂的现用供应，防止了在布置在处理区域中的微机械器件的相互作用的元件之间发生粘连。
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公开(公告)号：CN101542717A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200780044181.6
申请日：2007-09-27
Applicant: 明锐有限公司
IPC: H01L23/02
CPC classification number: B81C1/0096 , B81B3/0005 , B81B2201/042 , B81C2201/112 , G02B26/0833
Abstract: 本发明涉及一种微机械器件组件，包括：包封在处理区域内的微机械器件；以及润滑剂通道，其被形成在所述处理区域的内壁上并与所述处理区域流体连通。润滑剂经由毛细力注入到所述润滑剂通道中，并且通过所述润滑剂对所述润滑剂通道的内表面的表面张力保持在所述润滑剂通道内。容纳润滑剂的润滑剂通道提供了新鲜润滑剂的现用供应，防止了在布置在处理区域中的微机械器件的相互作用的元件之间发生粘连。
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公开(公告)号：CN101316790A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200680044605.4
申请日：2006-09-27
Applicant: 明锐有限公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: G02B26/0841
Abstract: 本发明公开了制造具有高对比率的反射空间光调制器的方法。通过将诸如支撑柱和可动铰链之类的非反射元件布置在像素的反射表面后面，可以增强空间光调制器器件所提供的对比度。根据一个实施例，由牺牲层中的间隙所限定的反射材料的一体的肋将反射表面悬挂在下层的包含铰链的层之上。根据可替换的实施例，由在诸如氧化物之类的介入层中形成的间隙将反射表面与下层铰链分离。在任一实施例中，将相邻像素区域分离的壁可以在反射表面之下凹进，以进一步减少对入射光的不期望的散射并从而增强对比度。
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公开(公告)号：CN101297228A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200680040298.2
申请日：2006-10-26
Applicant: 明锐有限公司
CPC classification number: G02B26/0841
Abstract: 一种显示系统包括光源和第一光学系统，所述第一光学系统光耦合到所述光源，并且适于沿着照明路径而提供照明光束。所述显示系统还包括位于所述照明路径中的空间光调制器。所述空间光调制器包括半导体基底和铰链结构，所述半导体基底包括多个电极器件，所述铰链结构耦接到所述半导体基底。所述铰链结构包括硅材料。所述空间光调制器还包括镜柱和镜板，所述镜柱耦接到所述铰链结构，并且延伸到离半导体基底预定距离的位置，所述镜板耦接到所述镜柱，并且覆盖所述多个电极器件。所述显示系统还包括第二光学系统，其光耦合到所述空间光调制器，并且适于将图像投影到投影表面上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101297227A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200680040202.2
申请日：2006-10-26
Applicant: 明锐有限公司
IPC: G02B26/00
CPC classification number: G02B26/0841 , G02B26/008
Abstract: 一种用于显示应用的光偏转器件。所述光偏转器件包括具有上表面区域的半导体基底(105)以及一个或多个电极器件(112)，电极器件被设置以覆在上表面区域之上。该光偏转器件还包括铰链器件(214)，铰链器件包括硅材料并连接至所述上表面区域。该光偏转器件还包括：间隙，其界定在上表面区域与铰链器件(214)之间；以及镜子结构，其包括连接至铰链器件(214)的柱部分(208)，以及连接至柱部分(208)并覆在铰链器件(214)之上的镜板部分(212)。
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公开(公告)号：CN101073144A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200580042247.9
申请日：2005-12-05
Applicant: 明锐有限公司
CPC classification number: B81C1/00873 , B81B2201/047 , H01L24/05 , H01L33/483 , H01L2224/04042 , H01L2224/48463 , H01L2924/0002 , H01L2924/14 , H01L2924/1461 , H01L2924/00
Abstract: 一种多层集成光学和电路装置具有包括至少一个集成电路芯片的第一衬底(101)，所述集成电路芯片包括单元区域(107)和周边区域(106)。优选地，周边区域具有包括具有一个或多个接合焊盘(115)的接合焊盘区域(109)和围绕所述一个或多个接合焊盘(115)中各个接合焊盘的抗粘着区域(112)。该装置具有耦合到第一衬底(101)的第二衬底(114)，第二衬底上带有至少一个或多个偏转器件(103)。将第一衬底(101)上至少一个或多个接合焊盘(115)暴露。该装置具有透明部件(201)，透明部件覆盖于第二衬底(114)上方并同时形成空腔区域以形成夹层结构，空腔区域允许所述一个或多个偏转器件(103)在部分空腔区域中运动，夹层结构包括至少部分第一衬底(101)、部分第二衬底(114)、以及部分透明部件(201)。使所述一个或多个接合焊盘(115)以及抗粘着区域(112)暴露，而将所述一个或多个偏转器件(103)保持在所述的部分空腔区域中。
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公开(公告)号：CN1732506A
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN03801745.8
申请日：2003-05-30
Applicant: 明锐有限公司
CPC classification number: G02B26/0841
Abstract: 本发明是空间光调节器(100)，具有选择性地反射的可偏转微镜阵列(103)板(202)，由第一衬底(105)制造。在另一衬底上，有用于微镜阵列(103)的寻址和控制电路(106)，其使得控制电路(106)控制施加到与微镜板(204)相关的选定的电极(126)的电压。通常，控制电路(106)包括显示控制(108)、线路存储缓存(110)、脉宽调制阵列(112)和用于视频信号(120)和图形信号(122)的输入。镜阵列衬底(105)进一步具有隔离支持框架(210)和铰链(206)，其中当静电力施加到微镜阵列板(204)时，与其相连的铰链使得镜板(204)相对于隔离支持框架(210)旋转。该旋转在选定的方向为反射光产生角度偏转。第一衬底和第二衬底压焊到一起。
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公开(公告)号：CN101923215B
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201010248133.2
申请日：2006-10-26
Applicant: 明锐有限公司
IPC: G02B26/08
CPC classification number: G02B26/0841
Abstract: 本发明涉及用于形成复合基底结构的方法。一种显示系统包括光源和第一光学系统，所述第一光学系统光耦合到所述光源，并且适于沿着照明路径而提供照明光束。所述显示系统还包括位于所述照明路径中的空间光调制器。所述空间光调制器包括半导体基底和铰链结构，所述半导体基底包括多个电极器件，所述铰链结构耦接到所述半导体基底。所述铰链结构包括硅材料。所述空间光调制器还包括镜柱和镜板，所述镜柱耦接到所述铰链结构，并且延伸到离半导体基底预定距离的位置，所述镜板耦接到所述镜柱，并且覆盖所述多个电极器件。所述显示系统还包括第二光学系统，其光耦合到所述空间光调制器，并且适于将图像投影到投影表面上。
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公开(公告)号：CN101837944A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200910246882.9
申请日：2009-11-19
Applicant: 明锐有限公司
IPC: B81C1/00 , B81C3/00 , B81B7/02 , G01C19/00 , G01P15/125
Abstract: 本发明提供一种用于制备陀螺仪和加速度计的方法。其中，用于制备微机电装置的方法包括提供包括控制电路的第一衬底。该第一衬底具有上表面和下表面。该方法也包括在第一衬底的上表面上形成绝缘层，去除绝缘层的第一部分，从而形成多个突起结构，以及结合第二衬底至第一衬底。该方法进一步包括薄化第二衬底成预定厚度，以及在第二衬底中形成多个沟槽。多个沟槽的每一个延伸至第一衬底的上表面。此外，该方法包括将多个沟槽的每一个的至少一部分填充导电材料，在第二衬底中形成微机电装置，以及结合第三衬底至第二衬底。
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