公开(公告)号：CN111844736A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201910340369.X

申请日：2019-04-25

Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 韩春芳 ,  杨颖 ,  张瑾 ,  温源

IPC: B29C64/135 ,  B29C64/336 ,  B29C64/245 ,  B29C64/194 ,  B22F3/105 ,  C12M3/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00

Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括：输送透明薄膜传送带输送的传送机构，上料机构，设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带；所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印，还可以在薄膜衬底上制作微納结构，并且还可以制作金属微納结构。

公开(公告)号：CN110321780A

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201910364298.7

申请日：2019-04-30

Applicant: 苏州大学

Inventor： 张瑾 ,  汪一鸣 ,  吴澄

IPC: G06K9/00

Abstract: 本发明涉及一种基于时空运动特性的异常摔倒行为检测方法。在基于图像信息的条件下，提炼体现人体姿态的五点倒立摆模型，进而构建体现时间、空间双特性的运动标准时空模型；再以标准时空图为基础，应用动力学原理研究运动本质特征，构建定轴运动模型，以旋转能量实现特征量化，构建摔倒行为、正常行走或站立态的特征编码数据集并进行训练，形成二类分类器，用于对处理后的实时采集的视频数据进行识别，判断是否为异常摔倒行为。本发明采用单视角场景，算法实时性更强，避免了多视角在场景融合方面的同步性等难题；以旋转能量为特征，避免了形态类特征对于顺向摔倒姿态的局限性，提升了检测有效性，对典型摔倒姿态具有较好的普适性。

公开(公告)号：CN106980829B

公开(公告)日：2019-09-20

申请号：CN201710161500.7

申请日：2017-03-17

Applicant: 苏州大学

Inventor： 张瑾 ,  汪一鸣 ,  吴澄

IPC: G06K9/00 ,  G06T7/269 ,  G06T7/246

Abstract: 本发明公开了一种基于视频分析的打架斗殴异常行为自动检测方法，包括：S1、输入视频序列中的原始图像；S2、采用金字塔L‑K光流法，计算图像中所有像素点的运动矢量；S3、在运动速度矩阵的基础上增加视角调整系数矩阵DM的修正；S4、对修正后的运动速度矩阵进行聚类分析，动态提取每一帧图像不同行为下的有效像素点；S5、结合运动矢量关于运动速度和运动方向的信息，提出异常行为的综合特征指标；S6、确定运动特征指标发生打架斗殴异常行为的判定阈值，并根据该阈值进行打架斗殴异常行为的判断。本发明在现有的光流方法计算结果的基础上，增加视角调整系数矩阵，经过改进后的光流矢量将更加准确的体现出具有纵向透视视角场景下目标的运动特征。

公开(公告)号：CN110175547A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201910407947.7

申请日：2019-05-16

Applicant: 苏州大学

Inventor： 吴澄 ,  盛洁 ,  张瑾 ,  汪一鸣 ,  柏柳

IPC: G06K9/00

Abstract: 本发明公开了一种多域信息的人群密度预警方法。对场所空间配置图进行空间坐标系建模，依据地形选取不同的特征区域，确定人群密度阈值，得到人群密度阈值面；建立个体模型，设定空间吸引点，计算个人空间变化趋势，对场所进行个人空间建模，再依据不同地形特征区域，对人群分布进行密度拟合，得到人群密度吸引面；对场景内视频帧图像进行运动目标前景提取，分级显示人群密度，得到场景实时检测人群密度面。本发明提供的预警方法，是将得到的实时人群密度面与场所密度阈值面及场所的人群密度吸引面进行对比分析，可在时间和空间上对人群密度进行分析和安全预警，为人群聚集地的安全管控提供理论支持和信息交流，提高了人群聚集地的管理水平和安全性。

公开(公告)号：CN109932869A

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201711375723.X

申请日：2017-12-19

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 朱鹏飞 ,  张瑾 ,  朱鸣 ,  浦东林 ,  邵仁锦 ,  陈林森

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种数字光刻方法，包括以下步骤：包括以下步骤：S1：生成三维形貌数据；S2：沿着竖直方向将三维形貌数据分切成N层二维矢量图数据；S3：将二维矢量图数据转换成二维数字化像素图像；S4：将二维数字化像素图像分割成n条等间距的基础长条带图像数据；S5：根据分切层数N，分割的条数n，对分割后的基础长条带图像数据重组，形成新的长条带图像数据；以及S6：将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻。本发明的数字光刻方法能够方便地形成大尺寸微结构形貌的光学薄膜。本发明还涉及一种数字光刻系统。

公开(公告)号：CN106842606B

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201710222207.7

申请日：2017-04-06

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 邵仁锦 ,  浦东林 ,  朱鹏飞 ,  张瑾 ,  朱鸣 ,  陈林森

IPC: G02B27/42 ,  G02B27/46 ,  G02B27/22 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。

公开(公告)号：CN106967098A

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201710305182.7

申请日：2017-05-03

Applicant: 苏州大学

Inventor： 李亚红 ,  张瑾 ,  秦亚茹 ,  崔燕峰 ,  陆宁 ,  潘样丹 ,  姜志垒

IPC: C07D519/00 ,  C07D471/04 ,  C07F1/08 ,  C07F15/04 ,  C07F15/02 ,  C07F13/00

CPC classification number: C07D519/00 ,  C07B2200/13 ,  C07D471/04 ,  C07F1/005 ,  C07F13/005 ,  C07F15/025 ,  C07F15/045

Abstract: 本发明公开了咪唑并[1,5‑α]吡啶衍生物DH2PIP及其配合物的制备方法，先称取2,6‑吡啶二甲酸放入烧瓶中，加入正丁酸乙酯搅拌溶解，滴加2‑氨甲基吡啶边搅拌，加入三丙基磷酸酐等，得到中间产物M，然后加入正丁酸乙酯，加入三丙基磷酸酐，通过反应制得产物DH2PIP，然后通过DH2PIP与金属氯化物或金属溴化物反应获得DH2PIP配合物。该方法制备的DH2PIP及其配合物，制备过程简单，操作安全，原料来源广泛，成本低廉。

公开(公告)号：CN106967097A

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201710304730.4

申请日：2017-05-03

Applicant: 苏州大学

Inventor： 李亚红 ,  张瑾 ,  秦亚茹 ,  崔燕峰 ,  陆宁 ,  潘样丹 ,  姜志垒

IPC: C07D519/00

CPC classification number: C07D519/00 ,  C07B2200/13

Abstract: 本发明公开了咪唑并[1,5‑α]吡啶衍生物DBr2PIP及其配合物的制备方法，先称取CH2Cl2、DH2PIP放入烧瓶中，加入N‑溴代丁二酰亚胺，通氮气，避光，在室温下反应十个小时，然后加入饱和硫代硫酸钠的水溶液猝灭，将所述饱和碳酸氢钠的水溶液调节pH到中性，之后用CH2Cl2萃取，得到淡黄色清液，加入无水硫酸钠进行干燥、旋干溶剂，用硅胶柱过柱分离，CH2Cl2作展开剂，得到DBr2PIP，然后通过DBr2PIP与金属氯化物反应获得DBr2PIP配合物。该方法制备的DBr2PIP及其配合物，采用的水热合成法反应时间短，重现性好。

公开(公告)号：CN106681106A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201710206374.2

申请日：2017-03-31

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 浦东林 ,  陈林森 ,  朱鹏飞 ,  张瑾 ,  朱鸣 ,  魏国军

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70383 ,  G03F7/70408 ,  G03F7/7045

Abstract: 一种混合光刻系统，包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件，光束整形器用于整形光源发出的光束；光场调制器用于将整形后的光束生成图形光；成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻；位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能，可进行混合光刻，提高了纳米光刻效率，推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。

公开(公告)号：CN101930207A

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN201010238377.2

申请日：2010-07-28

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 魏国军 ,  浦东林 ,  胡进 ,  陈林森 ,  温源 ,  张瑾

IPC: G03H1/02 ,  G03H1/04

Abstract: 本发明公开了一种微光栅亚像素三维光学图像，由排列于平面上的像素阵列结构构成，含有多个视角的分视角图像信息，其特征在于：每一像素由多个亚像素构成，每一亚像素对应于一个视角在该像素处的图像，每一亚像素为一光栅状图像单元，光栅状图像的条纹取向对应于视角，条纹的周期代表颜色信息。其制作方法包括如下步骤：设计三维衍射光学图像数据；设计具有亚像素体视结构的模板图像；根据图像数据和模板，生成体像素图像；微缩光刻亚像素体视图像单元，得到由亚像素体视单元构成的三维衍射光学图像。本发明可以数字化地输出立体图像。