非平面硅衬底LED器件及其制作方法

    公开(公告)号:CN106558637A

    公开(公告)日:2017-04-05

    申请号:CN201611027044.9

    申请日:2016-11-16

    CPC classification number: H01L33/0066 H01L33/0075 H01L33/16 H01L33/22

    Abstract: 一种非平面硅衬底LED器件及其制作方法,其中,所述方法包括:处理硅衬底,得到包含有斜侧面的非平面硅衬底;在斜侧面上生长第一外延层;在下平面上依次生长N电极和隔离层;在第一外延层上生长第二外延层;在N电极和隔离层上生长P电极;所述器件包括:基底和倒坑阵列结构,所述基底为非平面硅衬底,包含下平面和斜侧面,所述倒坑阵列结构包括:斜侧面上生长的自内而外的第一外延层和第二外延层;所述下平面上依次叠置的N电极、隔离层和P电极。本发明利用非平面硅衬底制作LED器件,具有工艺成熟、低成本、大尺寸和和实现高质量氮化物外延等诸多优点。

    氮化物纳米带的制备方法
    84.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106952856A

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201710063306.5

    申请日:2017-01-26

    Abstract: 本发明提供了一种氮化物纳米带的制备方法,包括:刻蚀硅衬底,得到图形化硅衬底;在图形化硅衬底的壁面上生长氮化物外延层;对粘连在一起的图形化硅衬底与氮化物外延层结构,进行腐蚀去除图形化硅衬底,得到氮化物纳米带。本发明对Si衬底的晶向没有苛刻的要求,在Si(100)和Si(111)衬底上皆可进行降低生产成本,采用图形化衬底生长氮化物,生长氮化物的尺寸可控。

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