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公开(公告)号:CN105552187A
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201510940416.6
申请日:2015-12-16
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: H01L33/12 , B82Y40/00 , H01L33/0075
Abstract: 一种采用GaN纳米图形衬底同质外延制备GaN薄膜及方法,其中采用GaN纳米图形衬底同质外延制备GaN薄膜,包括:一衬底材料层;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底材料层上;一GaN薄膜层,其制作在缓冲层上;一纳米尺寸同质外延层,其制作在GaN薄膜层上表面内;一GaN层,其制作在纳米尺寸同质外延层上。本发明可以提高氮化镓外延薄膜的质量。
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公开(公告)号:CN106229396A
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201610753068.6
申请日:2016-08-29
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: H01L33/06 , H01L33/007 , H01L33/32
Abstract: 本发明提供了一种III族氮化物生物探针及其制备方法,属于半导体材料制备及生物医学交叉领域。本发明采用具有潜在应用前景的III-V族材料作为探针基本材料,通过调节多组量子阱的材料组分、厚度及组数,得到可调的量子线结构,满足发光强度和波长一定范围内可调的要求,又由于成熟的制备工艺,使得生物探针在生物体内高度稳定,不易淬灭,寿命长,可代谢。
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公开(公告)号:CN106558637A
公开(公告)日:2017-04-05
申请号:CN201611027044.9
申请日:2016-11-16
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: H01L33/0066 , H01L33/0075 , H01L33/16 , H01L33/22
Abstract: 一种非平面硅衬底LED器件及其制作方法,其中,所述方法包括:处理硅衬底,得到包含有斜侧面的非平面硅衬底;在斜侧面上生长第一外延层;在下平面上依次生长N电极和隔离层;在第一外延层上生长第二外延层;在N电极和隔离层上生长P电极;所述器件包括:基底和倒坑阵列结构,所述基底为非平面硅衬底,包含下平面和斜侧面,所述倒坑阵列结构包括:斜侧面上生长的自内而外的第一外延层和第二外延层;所述下平面上依次叠置的N电极、隔离层和P电极。本发明利用非平面硅衬底制作LED器件,具有工艺成熟、低成本、大尺寸和和实现高质量氮化物外延等诸多优点。
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公开(公告)号:CN106952856A
公开(公告)日:2017-07-14
申请号:CN201710063306.5
申请日:2017-01-26
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/683 , H01L33/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供了一种氮化物纳米带的制备方法,包括:刻蚀硅衬底,得到图形化硅衬底;在图形化硅衬底的壁面上生长氮化物外延层;对粘连在一起的图形化硅衬底与氮化物外延层结构,进行腐蚀去除图形化硅衬底,得到氮化物纳米带。本发明对Si衬底的晶向没有苛刻的要求,在Si(100)和Si(111)衬底上皆可进行降低生产成本,采用图形化衬底生长氮化物,生长氮化物的尺寸可控。
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