公开(公告)号：CN103838037A

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：CN201310263488.2

申请日：2013-06-27

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 宇津木洋 ,  伊藤泰则 ,  二藤学 ,  三谷真丈

IPC: G02F1/1339

Abstract: 本发明涉及电子装置用构件和电子装置的制造方法、以及电子装置用构件，该制造方法包括如下的工序：层叠工序，将一对层叠体夹着第一密封材料和第二密封材料在减压下层叠，所述层叠体具有基板和可剥离地贴合于前述基板的加强板，所述基板具有用于形成电子装置的一个以上元件形成区域，所述第一密封材料配置于前述元件形成区域的周囲，所述第二密封材料配置于前述第一密封材料的聚集区域的外侧且具有框状形状；固化工序，将前述第一密封材料和前述第二密封材料固化；剥离工序，从前述基板剥离前述加强板。

公开(公告)号：CN103827050A

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201280046874.X

申请日：2012-09-20

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 森谷幸纪 ,  林知治 ,  堀内浩平 ,  吉国启介

IPC: C03B11/08 ,  C03B11/00 ,  C03B11/12

CPC classification number: C03B11/122 ,  C03B35/142 ,  C03B40/00 ,  C03B2215/06 ,  C03B2215/44 ,  C03B2215/80 ,  C03B2225/00

Abstract: 本发明的加压成型装置是将玻璃坯料进行加压成型的加压成型装置，具备：载置玻璃坯料的载置板、将载置板上的玻璃坯料加热至可加压成型的温度的加热机构、和将利用加热机构加热的玻璃坯料在与载置板之间进行加压成型的模具。

公开(公告)号：CN103782370A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201280043222.0

申请日：2012-08-23

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 吉田伊织 ,  竹宫聪 ,  朝长浩之

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/30625 ,  H01L29/1608

Abstract: 本发明以高研磨速度对碳化硅单晶基板等非氧化物单晶基板进行研磨，得到平滑的表面。本发明提供一种研磨剂，其中含有氧化还原电位为0.5V以上的含过渡金属的氧化剂、平均二次粒径为0.2μm以下的二氧化硅粒子、分散介质；所述氧化剂的含有比例为0.25质量％以上5质量％以下，且所述二氧化硅粒子的含有比例为0.01质量％以上且小于20质量％。

公开(公告)号：CN103694397A

公开(公告)日：2014-04-02

申请号：CN201310415145.3

申请日：2013-09-12

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 阿部香织 ,  相田茂

IPC: C08F214/26 ,  C08F216/14 ,  C08F6/08 ,  C08J11/02

CPC classification number: C08F214/262 ,  B01D1/0064 ,  C08F214/26 ,  C08F228/02 ,  Y02P20/121

Abstract: 本发明提供可高效地将从包含含氟共聚物和未反应单体的混合物中回收的未反应单体再次用于聚合的含氟共聚物的制造方法。该含氟共聚物的制造方法包括：(Ⅰ)在聚合引发剂的存在下将具有羧酸型官能团或磺酸型官能团的含氟单体与含氟烯烃在聚合介质中聚合，获得包含含氟共聚物、未反应单体和聚合介质的混合物的工序；(Ⅱ)将该混合物连续或间断地移送至带搅拌机的蒸发容器中的同时，在该蒸发容器中一边搅拌一边加热，从而使未反应单体和聚合介质蒸发并进行回收的工序；(Ⅲ)加热该回收混合液，对聚合引发剂进行分解处理的工序。

公开(公告)号：CN103687922A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201280035877.3

申请日：2012-07-19

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 福岛正人

IPC: C09K5/04 ,  C07C21/18 ,  F25B1/00 ,  F28D15/02

CPC classification number: C09K5/044 ,  C09K5/045 ,  C09K2205/12 ,  C09K2205/122 ,  F25B1/00 ,  F25B2400/12

Abstract: 本发明提供一种燃烧性得到抑制、对臭氧层的影响小、对温室效应的影响小、并且能提供循环性能(效率)优异的热循环系统的热循环用工作介质，以及安全性得以确保、循环性能(效率)优异的热循环系统。将含有1,1-二氯-2,3,3,3-四氟丙烯的热循环用工作介质用于热循环系统(朗肯循环系统、热泵循环系统、制冷循环系统(10)、热输送系统等)。

公开(公告)号：CN103650222A

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN201280035106.4

申请日：2012-07-26

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 丰田瑞菜 ,  巨势丈裕 ,  长井宏树

IPC: H01M4/62 ,  H01G11/28 ,  C08F214/26 ,  C08L27/18

CPC classification number: H01M4/623 ,  C08F214/18 ,  C08F214/265

Abstract: 本发明提供可获得良好的密合性并且很好地抑制由电解液引起的电极的膨胀、可实现二次电池中的良好的充放电特性的蓄电装置用粘合剂。蓄电装置用粘合剂由含氟共聚物形成，该含氟共聚物中，基于四氟乙烯的重复单元(a)与基于丙烯的重复单元(b)的摩尔比率(a)/(b)为60/40～75/25，且全部重复单元中的所述重复单元(a)和(b)的总计为90摩尔％以上。

公开(公告)号：CN102007002B

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN200980113719.3

申请日：2009-04-16

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 柏木王明 ,  冈野邦子

IPC: B32B27/30 ,  B32B9/00 ,  B32B27/34 ,  H01G7/02 ,  H04R19/01 ,  H04R19/04

CPC classification number: H01G7/021 ,  H01G7/028 ,  H04R19/016 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31515 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31544 ,  Y10T428/31551 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/3158 ,  Y10T428/31721 ,  Y10T428/31728 ,  Y10T428/3175 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31797 ,  Y10T428/31909 ,  Y10T428/31913 ,  Y10T428/3192 ,  Y10T428/31928 ,  Y10T428/31935 ,  Y10T428/31938

Abstract: 本发明提供表面电位高的驻极体及具备该驻极体的静电感应型转换元件。该驻极体的特征在于，具有含树脂(a)的层(A)和含所述树脂(a)以外的树脂(b)或无机物(c)的层(B)直接层叠而得的层叠体，所述树脂(a)为含氟树脂(a1)或具有脂肪族环结构的不含氟原子的树脂(a2)，所述层(B)配置在向所述层叠体注入电荷而形成驻极体时的注入电荷一侧的相反侧的最外层表面。

公开(公告)号：CN103630552A

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：CN201310372689.6

申请日：2013-08-23

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 木村宏 ,  平石雅裕

IPC: G01N21/958

Abstract: 本发明提供一种检查板状体的缺陷并且能够获取缺陷的产生和附着位置的板状体的缺陷检查方法以及缺陷检查装置。根据本发明，首先，将玻璃板以靠基座放置的方式搭载于基座。接着，获取坐标原点。即，获取对玻璃板的四个角部中的一个角部照射来自激光指针的点光的位置作为坐标原点。接着，使与基座相对置地配置的观察光学部沿着滑轨水平移动，并且使基座升降移动，通过观察光学部发现搭载于基座的玻璃板的缺陷。接着，从激光指针向由观察光学部发现的缺陷的位置照射点光。而且，通过控制部计算点光在玻璃板的表面上的照射位置的坐标位置并存储到RAM。

公开(公告)号：CN102089860B

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：CN200980127898.6

申请日：2009-07-10

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 林和幸 ,  宇野俊之 ,  海老原健

IPC: G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明提供来自掩模图案区域外侧的区域的反射光所造成的影响得到抑制的EUV掩模及用于该EUV掩模的制造的EUV掩模基板。EUV光刻(EUVL)用反射型掩模在衬底上具有掩模图案区域和位于该掩模图案区域的外侧的EUV光吸收区域，所述掩模图案区域中在所述衬底上具有反射EUV光的反射层，该反射层上存在包括吸收EUV光的吸收体层的部位和不包括所述吸收体层的部位，包括所述吸收体层的部位和不包括所述吸收体层的部位的配置形成掩模图案，该掩模的特征在于，来自所述吸收体层表面的EUV反射光的反射率为5～15％，来自所述EUV光吸收区域表面的EUV反射光的反射率在1％以下。

公开(公告)号：CN103570242A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201310311006.6

申请日：2013-07-23

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 萱场德克

IPC: C03C3/068 ,  G02B1/00 ,  C03B11/08

CPC classification number: C03C3/068

Abstract: 本发明涉及光学玻璃、加压成形用预成形体及由预成形体制作的光学元件。本发明涉及一种光学玻璃，其中，以基于氧化物的质量%计，含有：10～20%的B2O3、0.5～12%的SiO2、5～19%的ZnO、3～17%的Ta2O5、0.2～3%的Li2O、0.6～4.9%的ZrO2、6.1～20%的WO3、32.5～50%的La2O3、0.2%以上且小于1.5%的Y2O3，La2O3的含量相对于Y2O3的含量的质量百分率(La2O3/Y2O3)为40%以上，并且具有折射率nd为1.83～1.88、阿贝数νd为39～42的光学常数。