非氧化物单晶基板的研磨方法

    公开(公告)号:CN103493183B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201280020186.6

    申请日:2012-04-19

    CPC classification number: H01L21/30625 C09G1/04 H01L21/02024 H01L29/1608

    Abstract: 本发明提供一种用于以高研磨速度对碳化硅单晶基板等非氧化物单晶基板进行研磨、得到平滑且表面性状优异的高品质的表面的研磨方法。该研磨方法是向不包含磨粒的研磨垫供给研磨液、使非氧化物单晶基板的被研磨面和所述研磨垫接触、通过两者间的相对运动进行研磨的方法,其特征在于,所述研磨液含有氧化还原电势为0.5V以上的含过渡金属的氧化剂、和水,且不含磨粒。

    非氧化物单晶基板的研磨方法

    公开(公告)号:CN103493183A

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:CN201280020186.6

    申请日:2012-04-19

    CPC classification number: H01L21/30625 C09G1/04 H01L21/02024 H01L29/1608

    Abstract: 本发明提供一种用于以高研磨速度对碳化硅单晶基板等非氧化物单晶基板进行研磨、得到平滑且表面性状优异的高品质的表面的研磨方法。该研磨方法是向不包含磨粒的研磨垫供给研磨液、使非氧化物单晶基板的被研磨面和所述研磨垫接触、通过两者间的相对运动进行研磨的方法,其特征在于,所述研磨液含有氧化还原电势为0.5V以上的含过渡金属的氧化剂、和水,且不含磨粒。

    附有红外线阻挡层的玻璃板及其制造方法

    公开(公告)号:CN101234854A

    公开(公告)日:2008-08-06

    申请号:CN200710006360.2

    申请日:2007-01-31

    Abstract: 本发明提供了附有红外线阻挡层的玻璃板及其制造方法,该附有红外线阻挡层的玻璃板可见光透过性、电波透过性优良,红外线透射率低,并且可应用于汽车用窗玻璃板等要求机械耐久性的部位。其特征在于,在玻璃基板的表面上具有层厚为100~1500nm的红外线阻挡层,所述红外线阻挡层具有在含氧化硅和氧化钛的基底中分散有平均一次粒径在100nm以下的ITO微粒的结构。

    紫外线吸收膜形成用涂布液及紫外线吸收用玻璃物品

    公开(公告)号:CN102421862B

    公开(公告)日:2014-11-12

    申请号:CN201080020925.2

    申请日:2010-05-14

    CPC classification number: C03C17/30 C03C2217/74 C08G77/14 C09D183/06

    Abstract: 本发明提供用于形成具有耐磨损性等机械耐久性且长期使用而引起的紫外线吸收能力下降少的紫外线吸收膜的涂布液以及具备使用该涂布液形成的具有耐磨损性等机械耐久性且长期使用而引起的紫外线吸收能力下降少的紫外线吸收膜的紫外线吸收用玻璃物品。包含来源于含环氧基的有机氧基硅烷化合物的成分、来源于含羟基的二苯酮类化合物和含环氧基的有机氧基硅烷化合物的反应生成物的成分、来源于除所述两种有机氧基硅烷化合物以外的有机氧基硅烷化合物的成分的紫外线吸收膜形成用涂布液,以及使用该涂布液得到的紫外线吸收用玻璃物品。

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