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公开(公告)号：CN101726779A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910231737.3
申请日：2009-12-03
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到全息双闪耀光栅。本发明实现了全息双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101393303A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200810156771.4
申请日：2008-09-26
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作近红外波段三维光子晶体的方法，利用全息干涉形成一维光子晶体掩模，通过离子束刻蚀或反应离子束刻蚀把掩模转移到硅基底材料上的SiO2层上，在刻蚀过的沟槽里填入高折射率材料，用离子束刻蚀法抛光表面，接着再沉积上SiO2，涂布光刻胶、全息光刻、离子束刻蚀等形成第二层，重复以上步聚，层与层之间采用莫尔条纹法对准，最后使用酸洗法去除SiO2，获得所需的三维光子晶体。本发明充分利用了全息光刻的亚微米分辨率，可以制作大面积的三维光子晶体，之后可根据需要切割成小块，具有高效低成本的优势；同时，在干涉场中，通过改变两束相干光的波前，便于引入大面积、周期性的缺陷。
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公开(公告)号：CN100470405C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200610039966.1
申请日：2006-04-24
Applicant: 苏州大学
Abstract: 一种全息光栅制作光路的莫尔条纹调节方法，利用球面平凸透镜作为准直器、用莫尔条纹调节方法检测平面全息光栅的制作光路。传统光路调节方法中轴向和离轴方向的调节误差均可以被有效消除。由此制取的脉冲压缩光栅波像差被降至最低。而且对其他常规光栅的制作也同样具有重要的实用价值。
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公开(公告)号：CN101382612A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810155640.4
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅单次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101315440A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200810023116.1
申请日：2008-07-14
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种248纳米波段的零级抑制相位掩模，主要由石英基片以及设置在石英基片一侧表面的槽形结构的光栅构成，其特征在于：所述相位掩模的光栅周期为1050nm～1090nm，槽形深度为240～260nm，所述光栅的每一凸起结构的截面形状为上窄下宽的梯形，梯形的顶部占宽比为0.40～0.46，梯形角为5～13度。本发明的相位掩模，实现了透射248纳米波段激光的零级抑制，相位掩模的零级透过率可以被抑制在2％以内；±1级透射衍射效率高于36％，且与入射光的偏振状态无关。
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公开(公告)号：CN1252529A
公开(公告)日：2000-05-10
申请号：CN99116873.9
申请日：1999-09-13
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种全息窄带带阻滤光片,玻璃基片(2)上涂敷有一层介质层,该介质层为带有反射全息衍射层的重铬酸明胶层(1),所述的重铬酸明胶层(1)上涂敷有环氧树脂层(3),所述的环氧树脂层(3)上粘结固定有封片玻璃(4),其特征在于:由重铬酸明胶层(1)制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按公式分布,按此分布规律制成的窄带带阻滤光片的半宽度在10nm以下,光密度可达6D以上。
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公开(公告)号：CN110044482B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN201910440862.9
申请日：2019-05-24
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于反射式随机衍射片的光谱测量装置及测试方法，包括反射式随机衍射片，反射式随机衍射片包括基板和镀反射膜的衍射光栅单元；准直聚焦元件，其位于反射式随机衍射片的一侧，入射光经准直聚焦元件变为平行光照射在反射式随机衍射片上，经反射式随机衍射片反射获得零级衍射光和一级衍射光，零级光经准直聚焦元件后会聚，一级衍射光经准直聚焦元件后形成散斑图案；光探测器，其位于准直聚焦元件远离反射式随机衍射片的一侧，光探测器用于接收散斑图案。该装置光谱分辨率高、光能利用率高，结构紧凑，体积小。
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公开(公告)号：CN111065968B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201880004942.3
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 公开了一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法，属于信息光学领域，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题。全息光栅光刻系统中，在准直透镜(9,10)的后方放置体布拉格光栅(13,16)的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅(13,16)后的‑1级透射衍射光路上放置光电探测器(14,15)。全息光栅光刻系统干涉光路自准直的调节方法包括沿着光轴前后移动针孔滤波器(7,8)，实时观察光电探测器(14,15)的读数，当光电探测器(14,15)的读数最大时，固定针孔滤波器(7,8)并且保持第一针孔滤波器(7)与第一准直透镜(9)间距恒定。利用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。
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公开(公告)号：CN109597157B
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN201910092457.2
申请日：2019-01-30
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种衍射效率渐变的光栅耦合器制备装置和制备方法，包括：离子束发生器，其发出离子束以刻蚀光栅；挡板，其位于所述离子束发生器的下侧，所述挡板上开设有通孔；沿x方向，所述通孔在y方向的宽度渐变；样品台，其位于所述挡板下侧，所述样品台用于放置样品，所述样品为光栅基板，所述光栅基板上设置有光栅掩膜；动力组件，其驱动所述样品台或所述挡板沿y方向匀速运动；其中，x方向和y方向为水平面上相互垂直的方向；所述动力组件驱动所述样品与所述通孔在y方向发生相对移动，所述离子束经所述通孔在样品上刻蚀出槽深渐变的光栅。其能够刻蚀衍射效率渐变的光栅，精度高，便于实施。
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