光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液

    公开(公告)号:CN116038551A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202310037046.X

    申请日:2023-01-10

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明提供一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液,研磨的步骤为:搭建具备紫外光全波段覆盖而强度能调整且避光的光化学机械研磨平台;启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨;调整紫外光LED灯得到合适波长和强度的紫外光,利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光引发剂复配物裂解产生苯甲酰和烷基自由基,引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层,对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液,其包括光引发剂复配物、丙二醇、甘油和去离子水。本发明利用光敏研磨液对机械力作用下的工件进行紫外光可控化学改性,减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤,从而实现难加工材料高质量高效率超精密加工。

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