一种压电电机
    61.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1852016A

    公开(公告)日:2006-10-25

    申请号:CN200610012004.7

    申请日:2006-05-26

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种压电电机,属于压电驱动器技术领域,包括转子(001)、深沟球轴承(002)、压电陶瓷双晶片(003)、定子(004)、弹簧(005)、螺母(007)、轴(008)、机架(006);转子(001)通过深沟球轴承(002)安装在轴(008)的一端上;压电陶瓷双晶片(003)的一端固定在定子(004)上,另一端通过接触区(Q)与转子(001)接触;定子(004)通过孔(010)过渡配合安装在轴(8)上,机架(006)通过螺母(007)支撑整个电机。给压电陶瓷双晶片施加激励电压,双晶片振动,通过摩擦力和惯性力带动转子转动,输出转速和转矩。本发明结构简单、安装容易,成本低并能实现小型化。

    一种立式双温区-双通道化学气相沉积设备

    公开(公告)号:CN115094402B

    公开(公告)日:2023-04-11

    申请号:CN202210726752.0

    申请日:2022-06-24

    Abstract: 本申请涉及化学气相沉积领域,具体而言,涉及一种立式双温区‑双通道化学气相沉积设备,包括:沉积炉,沉积炉内包括介质容置区,介质容置区将沉积炉的内部腔室划分为上加热区和下加热区;介质容置区用于容置多孔介质,多孔介质用于沉积制备复合材料;第一加热体,用于对上加热区进行加热,以对多孔介质面向上加热区的一端进行加热;第二加热体,用于对下加热区进行加热,以对多孔介质面向下加热区的一端进行加热;其中,在沉积阶段时,第一加热体的功率不同于第二加热体的功率,以使多孔介质的上下两端的温度不同形成温差,从而本申请提供的化学气相沉积设备可以对多孔介质上下两端分别进行致密化,从而实现整个多孔介质的均匀致密。

    一种高压直流换流器及其可加速换流方法

    公开(公告)号:CN114598167A

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN202210117300.2

    申请日:2022-02-08

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明提出一种高压直流换流器及其可加速换流方法,在现有的常规高压直流换流器的每个桥臂中改造加入桥臂耦合电抗器或者将已有的阳极电抗替换为桥臂耦合电抗器,实现非常简单、简易,成本很低,但能实现本发明的有益效果为:通过配置一定数值的桥臂耦合电抗器,加快桥臂换流过程,减小换相重叠角,从而扩大高压直流换流器的运行范围,增大可传输功率,减小功率损耗;甚至可以依靠桥臂耦合电抗器创造出的换流电压,在交流电压发生意外跌落时,进行电压补偿,从而抑制换相失败的发生,在高压直流输电HVDC的应用中具有非常优良的经济性和可靠性,提升对国民经济的促进作用。

    一种用于溶液法晶体生长的坩埚系统

    公开(公告)号:CN109137061A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201811200477.9

    申请日:2018-10-16

    Applicant: 清华大学

    CPC classification number: C30B7/08

    Abstract: 本发明涉及一种用于溶液法晶体生长的坩埚系统,属于晶体生长中热场设计技术领域。本发明的坩埚系统,包括炉体内胆、散热底盘和坩埚。散热底盘置于炉体内胆下部,所述的坩埚置于炉体内胆内的散热底盘上。坩埚由坩埚本体和坩埚密封盖组成,坩埚密封盖盖在坩埚本体上,坩埚本体具有椭圆型底部结构本发明的坩埚系统,可以用于无籽晶法或者底部带籽晶的溶液法晶体生长中,通过特殊的散热设计,即可保证在溶液法生长晶体过程中界面为水平或微凸状态,有利于提高晶体生长质量。同时由于该设计结构简单,具有较强的可靠性,便于获得重复性生长结果。

    激光回馈干涉仪
    69.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103292687B

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201310166349.8

    申请日:2013-05-08

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及一种激光回馈干涉仪,其包括:一微片激光器,一分光镜,一第一移频器,一第二移频器,一汇聚透镜,至少两个光电探测器,一电信号处理系统,以及一数据采集处理系统。其中,所述微片激光器可以同时输出至少两束单纵模且为基横模的平行光束,该至少两束平行光束可以作为测量光,并用于测量一待测目标的多个自由度信息。

    一种完全共路式微片激光器回馈干涉仪

    公开(公告)号:CN102410809A

    公开(公告)日:2012-04-11

    申请号:CN201110277717.7

    申请日:2011-09-19

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及一种完全共路式微片激光器回馈干涉仪,其特征在于:它包括一微片激光器,微片激光器的发射端轴线上设置有第一分光镜,第一分光镜的反射光路上设置有第一全反射镜,第一全反射镜反射光路上设置有第二全反射镜,第二全反射镜反射光路上依次设置有第一声光移频器、第二声光移频器和第二分光镜,同时第二分光镜在第一分光镜的透射光路上,第二分光镜透射光路上设置有一光电探测器;微片激光器发射的激光经第一分光镜、第一全反射镜、第二全反射镜、第一声光移频器、第二声光移频器和第二分光镜构成的环形光路一次回到微片激光器的谐振腔中对激光的输出功率进行调制形成参考回馈光;经过环形回路一次的激光经待测物反射再一次经过环形光路回到微片激光器的谐振腔中对激光的输出功率进行调制形成测量回馈光。本发明可以广泛应用于非配合目标非接触式精确位移测量中。

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