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公开(公告)号：CN113293357B
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202110574319.5
申请日：2021-05-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C16/26 , C23C16/02 , C23C16/04 , C23C16/517
Abstract: 一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法，本发明一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法。本发明的目的是为了解决现有长管道内壁沉积类金刚石涂层过程中出现的等离子体密度低，膜层较厚之后绝缘沉积效率低的问题，本发明将射频和脉冲电源通过射频与脉冲的匹配电源网络复合连接，以Ar气、TMS和乙炔为反应气体，经过对管内壁的打磨清洗干燥、辉光刻蚀、沉积过渡层、将DLC涂层沉积于(长0.2m‑30m，直径50mm‑500mm)管内表面，膜的厚度达10μm以上，膜层沉积速率0.2μm/min。本发明应用于材料制造领域中。
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公开(公告)号：CN115161589A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202210877479.1
申请日：2022-07-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种管内壁离子渗氮后原位沉积PVD涂层的装置及方法，本发明涉及一种管内壁离子渗氮后原位沉积PVD涂层的装置及方法。本发明目的是解决管内表面处理效率低以及涂层与基体之间界面结合强度较低、耐磨性较差的问题，装置包括金属阴极弧源、挡板、第一辅助阳极、管筒件、阳极杆、第二辅助阳极、Ar进气管、N2‑H2混合气进气管、热电偶、第一绝缘屏蔽罩、第二绝缘屏蔽罩、真空室、金属阴极弧直流电源、第一辅助阳极直流电源、脉冲偏压电源和第二辅助阳极直流电源；本发明连续进行管内表面渗氮和PVD涂层沉积过程，有效提高管内表面处理效率，并提高涂层与基体间结合强度和耐磨性。本发明应用于管筒件内壁渗氮后原位沉积PVD涂层领域。
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公开(公告)号：CN111748789B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202010663232.0
申请日：2020-07-10
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C16/26 , C23C16/503 , C23C16/515 , C23C16/517 , C23C14/16 , C23C14/06
Abstract: 一种石墨阴极弧增强辉光放电沉积纯DLC的装置及其方法，本发明涉及一种石墨阴极弧增强辉光放电沉积纯DLC的装置及其方法。本发明的目的是解决现有金属阴极弧增强辉光放电制备DLC时金属元素对DLC的“污染”问题，本发明在石墨阴极弧与阳极之间构建放电通路，含碳气体在放电通路上通入，通入的含碳气体被石墨阴极弧发射出来的高密度电子离化，沉积在工件表面形成纯DLC。含碳等离子体中离子与原子的比例可以通过改变阴、阳极之间的放电模式以及调节放电参数来控制。本发明避免了金属靶增强辉光放电制备DLC时，金属掺杂对摩擦学性能的不良影响。本发明应用于等离子体增强化学气相沉积制备DLC领域。
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公开(公告)号：CN113564517A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110836283.3
申请日：2021-07-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种低温快速韧性渗氮后原位沉积PVD涂层的装置及沉积方法，本发明涉及一种低温快速韧性渗氮后原位沉积PVD涂层的装置及沉积方法。本发明的目的是解决现有问题，首先利用电弧增强辉光放电技术对研磨抛光清洗后的高速钢基体表面进行Ar+、H+等离子体刻蚀清洗；然后往真空室内连续通入高纯氮气、高纯氢气或高纯氮气、高纯氢气和惰性气体氩气，进行等离子体渗氮处理；最后在相近温度下，利用电场增强阴极弧技术原位沉积PVD涂层。本发明在传统设备上增加了辅助阳极，以及在一侧阴极弧源前增加了L型挡板，实现了低温快速韧性渗氮后原位沉积PVD涂层。本发明应用于原位沉积PVD涂层领域。
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公开(公告)号：CN113293357A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110574319.5
申请日：2021-05-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C16/26 , C23C16/02 , C23C16/04 , C23C16/517
Abstract: 一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法，本发明一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法。本发明的目的是为了解决现有长管道内壁沉积类金刚石涂层过程中出现的等离子体密度低，膜层较厚之后绝缘沉积效率低的问题，本发明将射频和脉冲电源通过射频与脉冲的匹配电源网络复合连接，以Ar气、TMS和乙炔为反应气体，经过对管内壁的打磨清洗干燥、辉光刻蚀、沉积过渡层、将DLC涂层沉积于(长0.2m‑30m，直径50mm‑500mm)管内表面，膜的厚度达10μm以上，膜层沉积速率0.2μm/min。本发明应用于材料制造领域中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101649445B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200910306400.4
申请日：2009-08-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/48
Abstract: 一种内电极移动式内表面等离子体离子注入方法，涉及一种等离子体材料表面改性方法。它解决了解决现有的内表面等离子体注入方法对小管径管筒的离子注入效果差的问题。它的方法是：一、采用等离子体源在真空室内产生等离子体，将待处理的管筒放置于所述真空室内，并对待处理的管筒施加高脉冲负偏压；二、将一根辅助阳极放置在待处理的管筒内，并将辅助阳极接地，所述辅助阳极与待处理的管筒之间产生电场，等离子体中的离子在电场作用下进入到待处理的管筒内部，并注入到待处理管筒的内表面上；三、使所述辅助阳极沿着待处理管筒的轴线运动，实现待处理管筒的整管内表面离子注入。本发明适用于处理内径较小的管筒内壁的离子注入。
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公开(公告)号：CN101838795B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201010213894.4
申请日：2010-06-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 高功率复合脉冲磁控溅射离子注入与沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决采用通过在工件上施加负高压脉冲的方法存在大颗粒；薄膜沉积效率低的问题。本发明方法包括：一、将工件置于真空室内的样品台上，工件接高压脉冲电源，磁控溅射靶源接磁控溅射电源，二、注入与沉积：待真空室内的真空度小于10-2Pa时，通入工作气体至0.01～10Pa，开启高压脉冲电源，并调节高压脉冲电源输出脉冲的电压值为0.5～100kV，脉冲频率为0～1000Hz，脉宽为0～500μs，开启磁控溅射电源，先通过直流起辉预离化，调节所需工艺参数，控制两个电源电压相位差为-1000～1000μs，进行离子注入与沉积。
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公开(公告)号：CN101660186B
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200910308127.9
申请日：2009-10-09
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C25D11/02
Abstract: 一种低噪音微弧氧化装置，它涉及一种微弧氧化装置。以解决现有微弧氧化装置在微弧氧化过程中存在噪音大的问题。箱体内装有带冷却水套的桶状不锈钢电解槽，不锈钢遮板设置在箱体上，箱盖设置在不锈钢遮板上，箱体和箱盖的夹层内填充隔音材料，桶状不锈钢电解槽的外周包裹柔性吸音材料，气体排出管道与排气腔连通，气管与桶状不锈钢电解槽相通，冷却水进、出水管与桶状不锈钢电解槽的冷却水套相通，溶液排出管与桶状不锈钢电解槽相通，微弧氧化阴极的两端与微弧氧化电源的负极和桶状不锈钢电解槽的外壁连接，微弧氧化阳极的两端与微弧氧化电源的正极和工件连接。本发明可使噪音对外传播强度大幅度下降，同时能确保微弧氧化工艺的稳定。
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公开(公告)号：CN101550579B
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200910071792.0
申请日：2009-04-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C25D11/02
Abstract: 大尺寸工件表面电场拘束微距微弧氧化的处理方法及装置，它涉及一种工件表面微弧氧化的处理方法及装置。本发明解决了现有的微弧氧化的处理方法及装置存在的阴阳电极间距离较大和电输出能量的利用率低的问题。本发明装置的导电栅网阴极设置在屏蔽套内，导电栅网阴极设置在屏蔽套的底端面上，屏蔽套的底端面上设有四个支脚，支脚的高度为0.5mm～5mm；本发明方法的主要步骤为：安装大尺寸待处理阳极工件；安装导电栅网阴极；安装阴极装置；连接往复运动装置；启动搅拌装置，同时进行微弧氧化。本发明通过导电栅网阴极与屏蔽套实现了微距微弧氧化，增大了电源输出能量的利用率，进而提高了微弧氧化技术的可操作性。
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公开(公告)号：CN201797448U
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN201020540368.4
申请日：2010-09-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于全PLC控制的高压脉冲电源，属于脉冲功率技术领域。它解决了现有高压脉冲电源的单片机控制系统抗干扰能力差及其主电路的原始体积大的问题。它由主回路和控制回路组成，用可编程逻辑控制器输出占空比一定、频率连续可调的脉冲，同步触发产生一个同频率、脉宽固定的矩形波，再将其变为宽度一定的锯齿波，该锯齿波与PLC输出的模拟量比较产生一个新的脉冲，通过改变输出模拟量的大小，实现脉宽的连续调节，最小输出脉宽可以达到几个微秒，该脉冲再经过功率放大，驱动栅极电路，实现高压脉冲的调制，它以可编程逻辑控制器作为控制核心，通过人机界面，方便地设定和显示电源的各工作参数。本实用新型用作高压脉冲电源。
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