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公开(公告)号:CN101649445B
公开(公告)日:2012-01-25
申请号:CN200910306400.4
申请日:2009-08-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/48
Abstract: 一种内电极移动式内表面等离子体离子注入方法,涉及一种等离子体材料表面改性方法。它解决了解决现有的内表面等离子体注入方法对小管径管筒的离子注入效果差的问题。它的方法是:一、采用等离子体源在真空室内产生等离子体,将待处理的管筒放置于所述真空室内,并对待处理的管筒施加高脉冲负偏压;二、将一根辅助阳极放置在待处理的管筒内,并将辅助阳极接地,所述辅助阳极与待处理的管筒之间产生电场,等离子体中的离子在电场作用下进入到待处理的管筒内部,并注入到待处理管筒的内表面上;三、使所述辅助阳极沿着待处理管筒的轴线运动,实现待处理管筒的整管内表面离子注入。本发明适用于处理内径较小的管筒内壁的离子注入。
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公开(公告)号:CN101649445A
公开(公告)日:2010-02-17
申请号:CN200910306400.4
申请日:2009-08-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/48
Abstract: 一种内电极移动式内表面等离子体离子注入方法,涉及一种等离子体材料表面改性方法。它解决了现有的内表面等离子体离子注入方法存在离子注入不均匀,以及待处理管筒的直径受限制的问题。它的方法是:一、采用等离子体源在真空室内产生等离子体,将待处理的管筒放置于所述真空室内,并对待处理的管筒施加高脉冲负偏压;二、将一根辅助阳极放置在待处理的管筒内,并将辅助阳极接地,所述辅助阳极与待处理的管筒之间产生电场,等离子体中的离子在电场作用下进入到待处理的管筒内部,并注入到待处理管筒的内表面上;三、使所述辅助阳极沿着待处理管筒的轴线运动,实现待处理管筒的整管内表面离子注入。本发明适用于处理内径较小的管筒内壁的离子注入。
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