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公开(公告)号：CN106406061B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201611033273.1
申请日：2016-11-16
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种体全息元件，其包括至少一像素化的信息层和至少一基材层，信息层设置于基材层上，或者信息层设置于相邻的两基材层之间；从体全息元件的剖面看，其信息层具有阵列分布的像素化的条纹面，每个像素内部的条纹面具有周期性，并且与基片平面具有夹角，每个像素为反射布拉格体光栅。本发明还公开了一种像素化反射体全息元件的制作方法和制作系统。本发明通过干涉光束调控、在体全息记录材料的感光层上进行像素化拼接曝光，经后续化学或物理处理，构成复杂光学参数的像素化的反射体全息光学元件。
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公开(公告)号：CN113492530A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202010191218.5
申请日：2020-03-18
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本申请涉及一种多材料三维打印清洗装置及方法，与控制器信号连接，包括：清洗机，对目标物进行清洗；输送机构，将清洗剂输送至清洗机；加热风扇，设置在清洗机的一侧；移动机构，与清洗机或基片控制台连接，以驱动清洗机和基片控制台的其中一个可相对于另一个移动；至少一层目标物打印完成后，移动机构驱动清洗机或基片控制台移动以使得清洗剂与目标物接触并对目标物清洗。本发明的多材料三维打印清洗装置与控制器信号连接，无需人工手动清洗，避免人为操作的安全隐患，提高清洗效率；通过设置有输送机构及清洗机，当目标物打印完成后，即刻对目标物进行清洗，避免上层打印材料粘附物体表面对下层材料固化的影响。
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公开(公告)号：CN113448013A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202010220339.8
申请日：2020-03-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种浮雕型波导结构及其制作方法，包括如下步骤：第一步，在高折射率基底的表面依次覆盖一层高折射率材质层和一层低折射率材质层；第二步，在所述低折射率材质层上形成纳米结构图案，将所述纳米结构图案转移至所述高折射率材质层；第三步，清除所述低折射率材质层，获得具有高折射率纳米结构的高折射率基底。本发明所述的浮雕型波导结构的制作方法确实解决了现有技术中高折射率基底刻蚀难度大的问题，另辟蹊径解决了制造难度，推进显示技术的发展。
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公开(公告)号：CN113325579A
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN202010128082.3
申请日：2020-02-28
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及图像显示技术，特别涉及用于呈现增强现实图像的装置和包含该装置的用于实现增强现实显示的系统。按照本发明一个方面的装置包含：光波导镜片；以及位于光波导镜片表面的第一二维光栅阵列；位于光波导镜片表面的第二二维光栅阵列，其中，第一二维光栅阵列和第二二维光栅阵列在光波导镜片表面上的位置被设置为使二者的较大的边相对，其中，第一二维光栅阵列配置为使入射至第一二维光栅阵列的光线一方面扩展至整个第一二维光栅阵列，另一方面传播至第二二维光栅阵列，其中，第二二维光栅阵列配置为使传播至第二二维光栅阵列的光线一方面扩展至整个第二二维光栅阵列，另一方面从光波导镜片出射，其中，第一二维光栅阵列和第二二维光栅阵列具有相同的周期。
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公开(公告)号：CN113325501A
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN202010129378.7
申请日：2020-02-28
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种多向衍射扩展光波导镜片及增强现实显示装置，其中的多向衍射扩展光波导镜片包括：波导；位于波导上表面或下表面的具有光学衍射功能的功能性区域，所述功能性区域至少包括：入射功能性区域，所述入射功能性区域内设置有将外部图像光耦合至波导，并实现图像光的多向衍射扩展的耦入衍射结构，所述耦入衍射结构由多组阵列结构组成；出射功能性区域，所述出射功能性区域内设置有将波导内传输过来的图像光耦合出波导，并实现图像光的多向扩展的耦出衍射结构，所述耦出衍射结构由多组阵列结构组成。本发明能够实现对图像光的多向衍射扩展，从而增大成像视角。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113138471A
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN202010059575.6
申请日：2020-01-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B30/30
Abstract: 本申请涉及一种裸眼三维显示系统、拼接显示装置和生成方法，属于显示技术领域，该系统包括：投影装置，用于投射待显示的图像信息；拼接显示装置，用于对所述图像信息进行光场信息的重构，以在n个视点上对所述图像信息进行三维显示；其中，所述拼接显示装置包括在同一平面内拼接的至少两个拼接子模块，每个拼接子模块对应n个视点；可以避免投影装置的投影幅面大于显示装置的接收幅面，导致降低裸眼三维显示系统的显示分辨率的问题；由于可以按照投影装置的投影幅面对多个拼接子模块进行拼接，得到拼接显示装置，从而可以保证投影装置的投影幅面小于或等于拼接显示装置的接收幅面，解决显示信息不全的问题。
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公开(公告)号：CN111999984B
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN201910448289.6
申请日：2019-05-27
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种光刻方法，用于将待处理图形进行无掩模版的光刻，所述方法包括如下步骤：S1：将所述待处理图形进行K次拆分，形成K幅子图形；S2：预设分割宽度M，分别将K幅所述子图形按照所述预设分割宽度M切割成n条子条带；S3：将K幅所述子图形中形成的n条宽度为M的所述子条带进行重组，形成n条新条带；S4：光刻所述新条带，其中，每完成一条新条带光刻，步进一条所述子条带的宽度M，进行另一待处理的新条带光刻。通过将待处理图形拆分分割形成的n条子条带进行重组，实现子条带分辨率的增强，从而达到光刻分辨率增强的效果。
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公开(公告)号：CN110756993B
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201810832929.9
申请日：2018-07-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种激光点焊拼版方法，包括如下步骤：A、将全息图像的单元镍版裁切至所需形状和尺寸，以获得裁切后的单元镍版；B、将若干个所述裁切后的单元镍版进行拼接，以全息图像向下，用激光点焊的方法将所述拼接的各单元镍版间局部固定，以获得带有缝隙的单元组合版；C、将所述单元组合版放入电铸槽中进行电铸处理，使单元组合版的缝隙填平，进而获得拼版母版。本发明公开的方法，可适用具有较大版厚差值的单元镍版之间的拼版，单元镍版厚度差可达100μm，且采用镍版背面点焊结合电铸的拼版方法，对镍版正面全息图像无损伤。
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公开(公告)号：CN113009705A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN201911317253.0
申请日：2019-12-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种消除零级衍射影响的结构光组件，包括：激光光束；衍射光学器件，用于接收及扩束激光光束，并向图形面投射图案化光束；折射透镜，位于衍射光学器件的一侧，用于使图案化光束中的零级衍射光在图形面上形成背景光，并使图案化光束中的负一级衍射光或正一级衍射光在图形面上聚焦形成图案。本发明提供的消除零级衍射影响的结构光组件，将衍射器件和折射透镜相结合，入射激光从衍射器件出射到图形面之间没有聚焦点，既能使图形面上形成的图案更加清晰，也能对激光安全防护起到作用。
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公开(公告)号：CN112835205A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201911164577.5
申请日：2019-11-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本申请涉及一种三维显示装置，属于显示技术领域，三维显示装置包括：背光板用于将光源发出的光线转换为第一准直光束；空间光调制器用于将多视角混合图像信息加载至第一准直光束，得到第二准直光束；位相板用于将第二准直光束变换至多个观察区域；背光板、空间光调制器和位相板上均设置有透明像素区域，透明像素区域均与光源留白区域对应，透明像素区域用于供背光板的背部光线穿过，且穿过透明像素区域后的背部光线的弯折角度小于预设角度阈值；可以解决现有的裸眼3D显示技术难以与现有的透明显示屏幕匹配，从而导致难以实现在透明显示屏幕场景下的裸眼3D显示的问题；可以实现虚实融合的3D显示，实现了在透明显示屏幕场景下的3D显示。
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