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公开(公告)号：CN115997169B
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202080103622.0
申请日：2020-10-22
Applicant: 极光先进雷射株式会社
Abstract: 激光装置具有：第1致动器，其对脉冲激光的振荡波长进行调整；第2致动器，其对脉冲激光的谱线宽度进行调整；以及处理器，处理器读入指定照射到被照射物的1个部位的脉冲激光的照射脉冲数和最短波长与最长波长之差的数据，决定目标谱线宽度，处理器根据目标谱线宽度对第2致动器进行控制，处理器对第1致动器进行控制，以使得振荡波长在最短波长与最长波长之间按照每照射脉冲数周期性地发生变化。
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公开(公告)号：CN119486835A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202280097807.4
申请日：2022-08-09
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: B23K26/382 , B23K26/50
Abstract: 本公开的一个观点的激光加工方法包括如下工序：使通过以第一照射条件向第一玻璃基板照射第一紫外脉冲激光而由第一玻璃基板产生的生成物堆积在第二玻璃基板的加工位置；以及通过以与第一照射条件不同的第二照射条件对堆积有生成物的加工位置照射第二紫外脉冲激光而形成孔。
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公开(公告)号：CN112563116B
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202011439736.0
申请日：2017-03-16
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: H01S3/23 , H01S3/00 , H01S3/067 , H01S3/0941 , H01S3/0971 , H01S3/10 , H01S3/108 , H01S3/109 , H01S3/11 , H01S3/115 , H01S3/131 , H01S3/16 , G02F1/35 , G02F1/355 , G02F1/37
Abstract: 本发明提供脉冲激光的生成方法。固体激光器装置具有：种子激光器，输出作为CW激光的种子光；光强度可变部，通过变更种子光的光强度而将种子光脉冲化，并作为种子脉冲光而输出；CW激励激光器，输出CW激励光；放大器，基于通过CW激励光的光激励被增加的放大增益，将种子脉冲光放大，并作为放大光输出；波长转换部，对放大光进行波长转换，并输出谐波光；和光强度控制部，根据外部触发信号的输入对光强度可变部进行控制，光强度控制部在每次外部触发信号输入时，在从外部触发信号输入起经过一定时间之后使光强度可变部输出种子脉冲光，在从种子脉冲光输出之后起至下一个外部触发信号输入为止的期间内使光强度可变部输出抑制放大增益的增加的抑制光。
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公开(公告)号：CN112384859B
公开(公告)日：2023-11-21
申请号：CN201880095046.2
申请日：2018-08-08
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号：CN115769147A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202080101965.3
申请日：2020-07-02
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 曝光方法包含以下步骤：读入表示如下参数与如下波长差之间的关系的数据，该参数是与利用包含第1脉冲激光和第2脉冲激光的多个脉冲激光对半导体晶片进行曝光的曝光条件有关的参数，该波长差是第1脉冲激光与第2脉冲激光的波长差；根据数据和参数的指令值决定波长差的目标值；根据波长差的目标值决定第1脉冲激光的第1波长和第2脉冲激光的第2波长；向激光装置输出波长设定信号，使得输出包含具有第1波长的第1脉冲激光和具有第2波长的第2脉冲激光的多个脉冲激光；以及利用多个脉冲激光对半导体晶片进行曝光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111801855B
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN201880090657.8
申请日：2018-10-22
Applicant: 极光先进雷射株式会社(JP)
IPC: H01S3/225
Abstract: 激光气体再生装置对从至少一个ArF准分子激光装置排出的排出气体进行再生，并将再生气体供给到至少一个ArF准分子激光装置，该至少一个ArF准分子激光装置与第1激光气体供给源和第2激光气体供给源连接，第1激光气体供给源供给包含氩气、氖气和第1浓度的氙气在内的第1激光气体，第2激光气体供给源供给包含氩气、氖气和氟气的第2激光气体，其中，激光气体再生装置具有：数据取得部，其取得被供给到至少一个ArF准分子激光装置的第2激光气体的供给量的数据；氙添加部，其将包含氩气、氖气和比第1浓度高的第2浓度的氙气在内的第3激光气体添加到再生气体中；以及控制部，其根据供给量对基于氙添加部的第3激光气体的添加量进行控制。
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公开(公告)号：CN110800175B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN201780092681.0
申请日：2017-08-22
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: H01S3/10
Abstract: 波长转换装置具有：A.晶体保持器，其对非线性晶体进行保持，该非线性晶体对所入射的激光进行波长转换而出射；B.第一容器，其收纳晶体保持器，包含入射窗口和出射窗口，其中，该入射窗口设置在向非线性晶体入射的激光的光路上，该出射窗口设置在从非线性晶体出射的激光的光路上；C.第二容器，其收纳第一容器；D.位置调整机构，其进行至少所述第一容器的位置调整；以及E.隔离机构，其将入射窗口和出射窗口在空间上与位置调整机构进行隔离。
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公开(公告)号：CN115039034A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202080095402.8
申请日：2020-03-19
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: G03F7/20 , H01S3/1055
Abstract: 窄带化气体激光装置的控制方法包含以下步骤：从外部装置接收单波长模式指令和多波长模式指令中的任意指令；以及按照指令对窄带化气体激光装置进行控制，以生成脉冲激光。
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公开(公告)号：CN111226359B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN201780096036.6
申请日：2017-12-07
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: H01S3/086
Abstract: 本公开的一个观点的激光照射系统具有：第1光学系统，其将第1激光变换为第2激光；多镜器件，其包含多个反射镜，能够控制多个反射镜的各个姿势角度，且该多镜器件通过对第2激光进行分割而向多个方向反射，生成分割后的多个激光；傅立叶变换光学系统，其使分割后的多个激光会聚；以及控制部，其以利用傅立叶变换光学系统使通过所述反射镜进行分割后的多个激光重叠的方式控制所述多个反射镜的姿势角度，其中所述反射镜彼此隔开所述第2激光的空间相干长度以上的距离。
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公开(公告)号：CN110447149B
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN201780087865.8
申请日：2017-04-18
Applicant: 极光先进雷射株式会社
Abstract: 气体激光装置具有：磁轴承，其包含能够对磁力进行控制的电磁铁，该磁轴承将流过激光气体的风扇的旋转轴支承为在通过磁力而磁悬浮的状态下旋转自如；电磁铁控制部，其根据旋转轴的悬浮位置的位移来控制电磁铁的磁力，从而调节悬浮位置；电动机，其产生使风扇旋转的转矩；磁耦合器，其利用磁吸引力将旋转轴和电动机的驱动轴结合起来而向旋转轴传递电动机的转矩；吸引力估计用传感器，其检测能够估计磁耦合器的吸引力的参数；吸引力计测部，其根据由吸引力估计用传感器检测出的参数，计测磁耦合器的吸引力；以及校正部，其根据由吸引力计测部计测出的吸引力的变动，对电磁铁的磁力进行校正。
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