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发明授权
激光气体再生装置和电子器件的制造方法有权

公开(公告)号：CN111801855B

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN201880090657.8

申请日：2018-10-22

Applicant: 极光先进雷射株式会社(JP)

Inventor： 对马弘朗 , 田中智史 , 藤卷洋介 , 浅山武志 , 若林理

IPC: H01S3/225

Abstract: 激光气体再生装置对从至少一个ArF准分子激光装置排出的排出气体进行再生，并将再生气体供给到至少一个ArF准分子激光装置，该至少一个ArF准分子激光装置与第1激光气体供给源和第2激光气体供给源连接，第1激光气体供给源供给包含氩气、氖气和第1浓度的氙气在内的第1激光气体，第2激光气体供给源供给包含氩气、氖气和氟气的第2激光气体，其中，激光气体再生装置具有：数据取得部，其取得被供给到至少一个ArF准分子激光装置的第2激光气体的供给量的数据；氙添加部，其将包含氩气、氖气和比第1浓度高的第2浓度的氙气在内的第3激光气体添加到再生气体中；以及控制部，其根据供给量对基于氙添加部的第3激光气体的添加量进行控制。

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