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公开(公告)号：CN2846440Y
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200520106338.1
申请日：2005-08-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/56
Abstract: 本实用新型公开了一种连续镀膜装置用加热器，它包括：一由外围板围合的腔体，侧面开轴向通口，内置一组加热灯管。长腔体内的前、后及上侧均设有一层以上的挡板。在加热灯管下侧设一可抽拉的石英挡板。在加热器的固接一用于与外界固定的支架。本实用新型可适用于连续镀膜装置的连续镀膜加热。
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公开(公告)号：CN201129463Y
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200720187311.9
申请日：2007-12-20
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: F16J15/43
Abstract: 本实用新型涉及一种真空系统中应用的磁流体密封转轴，特别是在高温加热环境下、进行动态制备薄膜设备中应用的密封转轴。其包括主轴和主轴外围的磁流体密封，其中由进水管、顶部水箱和出水管构成的冷却水路形成水冷层，该进水管和出水管在主轴外侧均匀布置。本实用新型改进原有主轴水冷系统的结构，解决了瀑布式水流在主轴尺寸较大时的水冷不均匀现象，保证主轴各个地方均能够得到充分的冷却，使之适用于高温加热环境的严酷要求，并能够保证主轴充分冷却的前提下使用磁流体密封结构。
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公开(公告)号：CN200943101Y
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200620119334.1
申请日：2006-08-28
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种批量化制备双面高温超导薄膜装置，其特点是：将多个基片均匀排布在圆盘形的样品台上，由主转动轴带动旋转，在加热真空腔体内旋转加热，对靶一次性溅射制备大面积双面高温超导薄膜。在加热真空腔体上下两面对称开有溅射口，上下溅射靶对称排布。真空室上下两面还对称放置金属电极靶材。加热腔体与辅转动轴连接，可以旋转溅射口的位置至金属靶材溅射位置，从而实现原位镀覆电极薄膜。主转动轴由无极变速电极带动，可控制旋转速率；加热腔体外壁及溅射靶体周围留有进气口，保证溅射区域及退火时腔体内气压均匀。利用本装置一次性可批量制备16片φ2英寸、12片φ3英寸的高性能双面高温超导薄膜，并可根据实际需要增大样品尺寸和增加样品数目。
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公开(公告)号：CN2844137Y
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN200520106339.6
申请日：2005-08-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/56
Abstract: 本实用新型公开了一种多功能连续镀膜装置，由真空镀膜单元装置、泵抽系统、气路及控制系统组成，所述的真空镀膜单元装置包括一真空镀膜室，其下方布控有电子枪、热蒸发电极，下侧方设立一对磁控溅射靶；还配有一基带卷绕系统，该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。它还配有机架，真空镀膜单元装置固定在其上，泵抽系统安置在其内；机架的两侧有用于活性固定放带室、收带室的小支架台。所述的真空室内装有样品挡板、电子枪挡板、热蒸发舟挡板和靶挡板。在电子枪与热蒸发舟之间、热蒸发舟与热蒸发舟之间均设有固定挡板。本装置可用于在长带上开发多种材料多层膜。
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公开(公告)号：CN2720624Y
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN200420087776.3
申请日：2004-08-17
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种大面积双面超导薄膜基片夹具，是采用上盖和底座基体的扣合的结构，上盖和底座基体皆为圆环状，以螺钉和销孔的配合的方式组装一起。放置样品时，先将单晶基片放入台阶式的内环槽中或底座基体的样品底托上，以防止基片位移，稳妥放置样品，并采用突起部与底座基体一起定位，防止基片位移、嵌入和脱落，同时上盖和底座基体采用螺钉和销孔的结构进行紧固。该基片夹具可以使基片在往复和旋转运动过程中夹持稳妥，基片在夹具内移动小，受力小不易产生破损。定位螺钉和定位销孔固定的设计可使样品装卸方便。基片作为整体可以嵌入样品架、台，适于批量化制备大面积双面超导薄膜。
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