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公开(公告)号：CN102666937A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201180004601.4
申请日：2011-04-07
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: C25D5/56 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D7/00 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/661 , H01M4/80 , Y02E60/13
Abstract: 本发明使用了具有三维网状结构的多孔树脂制品，将铝在熔融盐浴中镀覆于树脂成形体，以形成铝结构体，至少所述树脂成形体的表面已经经受了导电处理，如此形成的多孔铝包括厚度为1μm至100μm的铝层，其中该铝层的铝纯度为大于或等于98.0%、碳含量为大于或等于1.0%且小于或等于2%，并且余量为不可避免的杂质。即使采用具有三维网状结构的多孔树脂成形体时，也能够在该多孔树脂成形体的表面进行铝镀覆，从而形成具有厚且均匀的膜的高纯度铝结构体。
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公开(公告)号：CN106460216A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580033821.8
申请日：2015-06-04
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种能够连续制造铝膜的铝镀液，该铝膜的表面是平滑的并且该铝膜具有优异的伸长率。能够在基材的表面上电沉积铝的铝镀液包含以下组分：(A)卤化铝；(B)选自由烷基卤化咪唑鎓、烷基卤化吡啶鎓和脲化合物构成的组中的至少一种化合物；以及(C1)选自由铵盐、磷盐、锍盐、胺化合物、膦化合物和硫醚化合物构成的组中的至少一者；所述组分(C1)具有C8-36直链或支链烷基作为至少一个侧链；以摩尔比计，所述组分(A)和所述组分(B)的混合比在1:1至3:1的范围内；所述组分(C1)的浓度为1.0g/L至45g/L。
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公开(公告)号：CN103097591B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201180044083.9
申请日：2011-09-08
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C25D1/08 , C23C28/02 , C25D3/66 , C25D5/56 , H01G11/86 , H01G11/30 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/80
CPC classification number: H01M4/808 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D5/56 , C25D11/04 , H01G11/30 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01G11/86 , H01M4/661 , Y02E60/13 , Y10T428/12479
Abstract: 本发明提供了一种使用具有三维网状结构的多孔树脂成形体来制造铝结构体的方法，其中可以形成在铝的表面上具有少量氧化物（具有薄的氧化膜）的铝结构体，特别是可以获得具有大的表面积的铝多孔体。该制造方法包括：制备铝包覆的树脂成形体的步骤，其中在由聚氨酯构成的树脂成形体的表面上直接形成或隔着其他层而形成铝层；以及热处理步骤，其中在大于或等于270℃且小于660℃的温度下对所述铝包覆的树脂成形体进行热处理以分解所述树脂成形体。
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公开(公告)号：CN105339529A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201580001134.8
申请日：2015-01-19
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种镀铝溶液，其具有可以进行镀铝的大的电流密度范围和小的溶液电阻。镀铝溶液包含：卤化铝，选自由烷基卤化咪唑鎓、烷基卤化吡啶鎓和尿素化合物构成的组中的至少一种，以及由通式(1)表示的铵盐，其中所述铵盐的浓度为1g/L以上45g/L以下：NR4+·X--通式(1)在所述通式中，R各自表示氢原子、或可能具有侧链的不超过15个碳原子的烷基，并且X表示卤原子。R可以彼此相同或不同。
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公开(公告)号：CN105008560A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201380073874.3
申请日：2013-12-17
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: F28F21/084 , B22F3/11 , B22F5/106 , C22C1/0416 , C22C1/08 , C25D1/08 , C25D3/665 , F28F13/003 , Y10T428/12479
Abstract: 本发明提供了可用作具有非常大的比表面积、优异的热交换效率和降低的气体压力损失的传热材料的铝多孔体。所述铝多孔体含有铝作为主要成分、具有三维网状结构、并具有由下式所表示的比表面积(Y)：Y＝a×exp(0.06X)(式)(在所述(式)中，Y表示比表面积[m2/m3]，X为小室数目(小室/每英寸)，且a为100至1,000的数目)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103108998A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201180044791.2
申请日：2011-09-08
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01G11/30 , C23C14/0005 , C23C14/20 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D5/56 , C25D11/04 , H01M4/661 , H01M4/667 , Y02E60/13
Abstract: 本发明提供了一种使用具有三维网状结构的多孔树脂成形体来制造铝结构体的方法，其中可以形成在铝的表面上具有少量氧化物（即，具有薄的氧化膜）的铝结构体，本发明还提供了特别是可以获得具有大的表面积的铝多孔体的方法。该制造方法包括：制备铝包覆的树脂成形体的步骤，其中在由聚氨酯构成的树脂成形体的表面上直接形成或隔着其他层而形成铝层；以及通过使所述铝包覆的树脂成形体与浓度大于或等于62%的浓硝酸接触而分解所述树脂成形体的步骤。
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公开(公告)号：CN105008560B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201380073874.3
申请日：2013-12-17
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: F28F21/084 , B22F3/11 , B22F5/106 , C22C1/0416 , C22C1/08 , C25D1/08 , C25D3/665 , F28F13/003 , Y10T428/12479
Abstract: 本发明提供了可用作具有非常大的比表面积、优异的热交换效率和降低的气体压力损失的传热材料的铝多孔体。所述铝多孔体含有铝作为主要成分、具有三维网状结构、并具有由下式所表示的比表面积(Y)：Y＝a×exp(0.06X)(式)(在所述(式)中，Y表示比表面积[m2/m3]，X为小室数目(小室/每英寸)，且a为100至1,000的数目)。
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公开(公告)号：CN104619890B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201380046528.6
申请日：2013-08-22
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C25D3/66
Abstract: 本发明提供一种制造铝膜的方法，该铝膜具有镜面和较低的残余应力。一种制造铝膜的方法，包括在电解液中将铝电沉积至基材表面，其中，所述电解液是通过向由氯化铝和烷基氯化咪唑鎓构成的熔盐中添加至少一种化合物A和具有氨基的化合物B而得到的，所述化合物A选自由有机溶剂、数均分子量为200至80,000的有机高分子化合物、以及碳原子数为3至14的含氮杂环化合物构成的组。
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公开(公告)号：CN105980606A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201580007478.X
申请日：2015-01-26
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: C25D5/56 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D3/665 , C25D5/003 , C25D7/0614 , C25D7/0621 , C25D17/004 , C25D21/04
Abstract: 本发明的目的是提供一种铝膜的制造方法和制造装置，通过利用该制造方法和制造装置，水分或氧不会侵入到镀覆室中。本发明提供了一种铝膜的制造方法，其中在熔融盐电解液中，在被赋予导电性的长条状多孔树脂基材表面上电沉积铝。铝膜制造方法包括如下步骤：使基材(W)传送通过配置于镀覆室(1)的入口侧的密封室(4)，由此传送到镀覆室中的步骤；在镀覆室(1)中将铝膜电沉积到基材(W)的表面上的步骤；将其上电沉积有铝膜的基材通过配置于镀覆室(1)出口侧的密封室(5)，由此从镀覆室(1)传送出来的步骤。向镀覆室供应惰性气体，从而使镀覆室相对于外部空气具有正压，并且从分别设置在两个密封室上的惰性气体排气管(7)中将惰性气体强制排出。
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公开(公告)号：CN104641022A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201380048581.X
申请日：2013-08-23
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C25D3/66
CPC classification number: C25D3/665 , C23C18/1653 , C25D3/44 , C25D5/54 , C25D5/56
Abstract: 本发明提供了一种制造铝膜的方法，该方法能够连续地大量制造表面平滑性优异并且具有镜面的铝膜。在制造铝膜的方法中，在电解液中将铝电沉积到基材表面。该电解液包含以下组分：(A)卤化铝，(B)选自由烷基卤化吡啶鎓、烷基卤化咪唑鎓、以及脲化合物构成的组中的至少一种化合物，以及(C)1,10-菲咯啉一水合物。组分(A)与组分(B)的混合比(摩尔比)在1:1至3:1的范围内。电解液中1,10-菲咯啉一水合物的浓度控制在0.05g/L至7.5g/L(包括端值)的范围内。
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