用于衬底的两侧溅射蚀刻的系统和方法

    公开(公告)号:CN101889325A

    公开(公告)日:2010-11-17

    申请号:CN200880119457.7

    申请日:2008-12-05

    CPC classification number: G11B5/84 G11B5/855 H01J37/3438

    Abstract: 本发明公开一种用于蚀刻构图介质磁盘的系统。利用可移动电极执行溅射蚀刻。将电极移动到靠近衬底或者稍微接触衬底以将RF能量耦合到所述磁盘。将被蚀刻的材料可以是例如Co/Pt/Cr的金属或者类似金属。将衬底垂直保持在载体中并且按顺序蚀刻衬底的两侧。即,在一个腔中蚀刻一侧然后在下一个腔中蚀刻第二侧。在两个腔之间设置隔离阀并且磁盘载体在腔之间移动所述磁盘。所述载体可以是使用例如磁化轮和线性电机的线性驱动载体。

    基板处理设备以及磁记录介质制造方法

    公开(公告)号:CN101645275A

    公开(公告)日:2010-02-10

    申请号:CN200910161707.X

    申请日:2009-07-31

    CPC classification number: G11B5/855

    Abstract: 本发明提供了一种基板处理设备以及磁记录介质制造方法,该基板处理设备能够抑制经由基板相对布置的离子束产生器内部的相互污染和/或损坏。根据本发明实施例的基板处理设备包括向基板(W)的一个待处理表面照射离子束的第一离子束产生器以及向另一个待处理表面照射离子束的第二离子束产生器,其中,第一离子束产生器和第二离子束产生器经由基板(W)相对布置,并且第一离子束产生器的第一栅格以及第二离子束产生器的第二栅格的每一个中与基板(W)的开口相对应的区域封闭。

    磁记录媒体、录放装置以及压模

    公开(公告)号:CN100538828C

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200510099653.0

    申请日:2005-08-30

    Abstract: 本发明提供能够可靠读取磁信号的具有伺服图案的磁记录媒体。利用具有凸部(40a)和凹部(40b)的凹凸图案(40),在伺服图案区域Asa上形成伺服图案,同时在一个面的数据记录区域At上设置同心圆状或螺旋状的数据记录磁道(凸部40a),形成数据磁道图案,在所述伺服图案区域(Asa)的地址图案区域(Aaa)形成凸部(40a),并且使构成所述凹凸图案(40)的各凹部(40b、40b…)的沿着该基体的旋转方向的各开口长度中离数据磁道图案的中心的距离相等的同一半径区域的每一区域的最大开口长度(L2),等于同一半径区域内的该各凹部(40b、40b…)中的沿着该旋转方向的最小开口长度(L1)的2倍长度。

    磁记录介质的制造方法以及磁记录和再现装置

    公开(公告)号:CN101512641A

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200780032274.7

    申请日:2007-08-22

    CPC classification number: G11B5/855

    Abstract: 一种制造磁记录介质的方法包括以下步骤:在非磁性基底的至少一个表面上沉积磁性层;以及在所述磁性层中部分地注入原子,从而使已经接受注入的原子的部分去磁或者使其非晶化,以形成磁性分离的磁记录图形。所述注入的步骤包括以下步骤:在所述沉积步骤之后对所述至少一个表面施加抗蚀剂,部分地减小所述抗蚀剂的厚度,并且用原子辐照所述抗蚀剂的表面,从而通过所述抗蚀剂的厚度减小的部分使得所述原子部分注入到所述磁性层。

    垂直磁记录介质和磁存储装置

    公开(公告)号:CN100527228C

    公开(公告)日:2009-08-12

    申请号:CN200610107996.1

    申请日:2006-08-02

    CPC classification number: G11B5/667 G11B5/66 G11B5/855

    Abstract: 本发明公开一种垂直磁记录介质,其能够防止发生广域磁道擦除现象并能够进行高密度记录。该垂直磁记录介质包括:衬底;软磁衬层,位于该衬底上;分离层,位于该软磁衬层上,并由非磁性材料形成;磁通控制层,位于该分离层上;以及记录层,位于该磁通控制层上,并具有垂直于该衬底表面的易磁化轴。该磁通控制层由多晶铁磁材料形成,该多晶铁磁材料具有垂直于该衬底表面的易磁化轴。

    磁记录介质的制造方法
    48.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100511431C

    公开(公告)日:2009-07-08

    申请号:CN200710005172.8

    申请日:2007-02-15

    CPC classification number: G11B5/855 B82Y10/00 G11B5/743 G11B5/82

    Abstract: 本发明提供一种磁记录介质的制造方法,能够制造具有凹凸图案的记录层、表面充分平坦、记录/再现特性良好的磁记录介质。在具有形成有记录要素作为凹凸图案的凸部的记录层的被加工体之上,使第一填充材料成膜而覆盖记录要素,并且填充凹部的至少一部分,在第一填充材料之上使被检测材料成膜,在被检测材料之上使第二填充材料成膜,对被加工体的表面照射加工用气体,来除去第一填充材料、被检测材料以及第二填充材料中在记录要素上表面的上侧所成膜的部分中的至少一部分,从而将表面平坦化,在平坦化工序中,检测出从被加工体被除去而飞散的被检测材料的成分,基于该被检测材料的成分的检测结果而停止加工用气体的照射。

    束记录装置和束调整方法
    49.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101449328A

    公开(公告)日:2009-06-03

    申请号:CN200780018733.6

    申请日:2007-03-23

    CPC classification number: G11B7/261 G11B5/59627 G11B5/855 G11B7/0953 G11B9/10

    Abstract: 一种电子束记录装置,其用于在旋转上面放置有基底的转盘时朝所述基底发射电子束。所述记录装置包括:位移探测单元,包括以各自不同的角度安置于所述转盘的径向方向上的至少三个位移传感器;形状推算单元,用于基于由所述至少三个位移传感器所探测的位移,来推算与所述转盘的侧表面在所述径向方向上的位移对应的形状数据;旋转跳动计算单元,用于基于所述形状数据和由所述至少三个位移传感器探测的至少一个位移来计算所述转盘的包括旋转异步分量和旋转同步分量的旋转跳动;以及束照射位置调整单元,用于基于所述旋转跳动来调整所述电子束的照射位置。

    位图介质、读头和硬盘驱动器

    公开(公告)号:CN101383158A

    公开(公告)日:2009-03-11

    申请号:CN200810098664.0

    申请日:2008-06-05

    Abstract: 本发明提供了一种具有超轨道的位图介质、一种读取记录在该位图介质上的数据的读头以及一种用于在该位图介质上记录数据/从该位图介质读取数据的硬盘驱动器(HDD)。该位图介质包括:基底;记录层,在基底上,形成有多个位单元,其中,位单元沿着形成具有不同半径的同心圆的多个轨道彼此分离,其中,每个轨道包括含有多个子轨道的超轨道,形成在子轨道中的一个上的位单元与形成在邻近的子轨道上的位单元沿着记录层的圆周方向布置在不同的位置。读取记录在位图介质上的数据的读头沿着横跨轨道方向的宽度足以读取与多个子轨道的数目相等的数目的位单元的数据。

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