直写光刻系统和直写光刻方法

    公开(公告)号:CN112987501A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201911303595.7

    申请日:2019-12-17

    Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法,其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置;运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描,并用于发出参考点的位置数据;中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据;光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光;投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑,并在运动机构的带动下沿预设路径扫描,在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化,形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻,并提高了光刻精度和光刻效率。

    一种微透镜阵列制备方法
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112859210A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201911181581.2

    申请日:2019-11-27

    Abstract: 本发明涉及一种微透镜阵列制备方法,其包括以下步骤:S1、提供已涂布有光刻胶的基板,在基板上调用预置的直写光刻程序以对其进行数字掩模激光直写光刻,以制备获得N台阶柱体光刻胶阵列;S2、将步骤S1得到的N台阶柱体光刻胶阵列依次进行后烘、显影、烘干;S3、将步骤S2得到的N台阶柱体光刻胶阵列进行热熔,制备获得微透镜阵列。该制备方法采用数字掩模激光直写光刻方法和光刻胶热熔法相结合的加工技术,无需制备实体掩模版,通过增多可控参量数目来提高对得到的微透镜表面可控性,可制备微透镜阵列,该方法工艺简单、加工效率高、制备成功率高、加工成本更低、设计更加灵活以及对微透镜表面可控性强。

    一种分区吸附载物台及加工设备

    公开(公告)号:CN222779412U

    公开(公告)日:2025-04-22

    申请号:CN202420840555.6

    申请日:2024-04-22

    Abstract: 本实用新型提供一种分区吸附载物台,用于吸附不同尺寸的导光板模具,包括载物台主体和与其固定连接的载物台底板,载物台主体开设有凹槽,载物台底板用于将凹槽闭合形成腔体;载物台主体上还开设有进气孔、分区结构和出气孔,分区结构设置在凹槽内用于将腔体分隔成多个子腔体,进气孔和出气孔与子腔体连通形成抽真空气道,用于在进气孔处产生负压吸附。本实用新型还提供一种加工设备,包括抽真空设备和如上的分区吸附载物台。本实用新型提出的分区吸附载物台可以通过单独控制多个子腔体的负压开关,组合形成不同尺寸的吸附区域,吸附不同尺寸的导光板模具。主要结构都设置在载物台主体上,提高了承载能力,而且可以降低整体厚度。

    光学图像采集单元、光学图像系统及电子设备

    公开(公告)号:CN213303046U

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202022078888.4

    申请日:2020-09-21

    Abstract: 本实用新型涉及一种光学图像采集单元、光学图像系统及电子设备。该光学图像采集单元包括基材、设置在所述基材上侧的透光层、部分覆盖在所透光层上的遮光层,所述透光层包括平面部、凸起部和微透镜部,所述遮光层覆盖所述平面部和凸起部、并在所述微透镜部上形成复数个光栅窗口,所述凸起部高于所述微透镜部。通过形成高于微透镜部的凸起部可以阻挡微透镜部侧面光线传递至微透镜部上,以避免及减少光束的串扰,提高感测精度干扰,且与现有技术相比,无需将平面部垫高,节省了材料,也减小了整体体积。

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