一种超高分辨率Micro-LED显示阵列的制备方法

    公开(公告)号:CN117334715A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202311393430.X

    申请日:2023-10-25

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种超高分辨率Micro‑LED显示阵列的制备方法。包括:依次在衬底上生长N‑GaN层、多量子阱层、P型GaN层、ITO透明电极;采用电子束光刻、变参量光刻或纳米压印等方法在ITO透明电极表面制备光刻胶阵列;继续利用电镀工艺制备焊料金属阵列;然后沉积离子注入保护层并进行图案化形成离子注入保护层阵列;最后采用离子注入工艺实现电学隔离效果以形成最后的超高分辨率Micro‑LED显示像元。本发明提供了一种只需要一步光刻便可实现超高分辨率Micro‑LED显示像元的制备方法,简化了制备工艺流程,可以避免复杂光刻对位及套刻工艺中积累的误差,并且利用离子注入来实现像素隔离,可以降低刻蚀工艺中会产生的边缘效应和尺寸效应,极大程度上实现器件发光单元之间的电学隔离。

    纳米尺寸LED芯片阵列及其制备方法

    公开(公告)号:CN114141916B

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202111401694.6

    申请日:2021-11-24

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明提出一种纳米尺寸LED芯片阵列及其制备方法,在衬底上依次外延生长N型氮化镓层、量子阱有源层以及P型氮化镓层;在P型氮化镓层上图案化制作金属对该区域P型氮化镓中的掺杂物与氢形成的络合物起一定的作用,使氢从中解吸,以激活该区域;利用离子注入在除金属激活区域以外的区域形成高阻值区域;在高阻值区域上覆盖二氧化硅;分别在金属激活的P型氮化镓区域和N型氮化镓形成P型电极和N型电极。本发明技术方案采用离子注入形成电气隔离可以有效避免传统ICP刻蚀中的侧壁损伤问题和后续金属爬坡易断裂问题,并利用金属激活进一步提高激活区域的光电性能。

    一种基于菲涅尔液晶透镜的2D/3D可切换显示设备

    公开(公告)号:CN117215084A

    公开(公告)日:2023-12-12

    申请号:CN202311393398.5

    申请日:2023-10-25

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于菲涅尔液晶透镜的2D/3D可切换显示设备,包括:第一基板;第一基板上设置有多个第一电极组,各个第一电极组内包括数量相同的第一环形电极,各个第一环形电极呈同心环排布;第一环形电极的厚度由外侧向内侧逐渐增加,且第一环形电极的两侧分别连接至不同的驱动电压源,驱动电压源用于在第一环形电极的两侧施加不同的电位以使第一环形电极的各个位置产生渐变的第一电位;设置于第一基板对向的第二基板;第二基板上设置有公共面电极;设置于第一基板和第二基板之间的液晶层,液晶层内填充有液晶分子。本发明可以提高理想菲涅尔透镜形貌的效率,增加可利用的光效,进而提示显示设备的显示效果。

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