公开(公告)号：CN113474293A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202080012983.4

申请日：2020-03-26

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 福士大辅 ,  平林英明 ,  佐佐木亮人 ,  平松亮介 ,  佐佐木敦也 ,  诸冈飞树 ,  森阳一郎

IPC: C01G41/02

Abstract: 一种氧化钨粉末，其长径的平均粒径是10μm以下，平均纵横比是10以下，在一次粒子的短径方向的表面或断面中，晶体缺陷在每单位面积9nm2中是0个以上且4个以下。另外，优选沿着长径具有六边形隧道结构。另外，优选氧化钨粉末具有氧缺损。由此，能够使嵌入性能提高。

公开(公告)号：CN111557059A

公开(公告)日：2020-08-18

申请号：CN201980007017.0

申请日：2019-02-22

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 佐佐木亮人 ,  佐佐木敦也 ,  福士大辅 ,  平林英明 ,  片冈好则

IPC: H01M4/48 ,  C01G41/02 ,  H01M4/13

Abstract: 电极材料包含具有氧缺损及沿着b轴的六方孔道结构的氧化钨粉末。另外，氧化钨粉末以WO3-x表示，优选满足0.1≤x≤0.3。另外，X射线衍射光谱中的峰强度比I(010)/I(103)优选为1以上且10以下。

公开(公告)号：CN105575792B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201510733793.2

申请日：2015-11-03

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 平林英明 ,  长岛裕次

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 实施方式的处理装置具备：收纳氢氟酸缓冲液的收纳部；使用上述氢氟酸缓冲液进行处理物的处理的处理部；将上述收纳部所收纳的上述氢氟酸缓冲液向上述处理部供给的供给部；将在上述处理部中使用过的上述氢氟酸缓冲液回收而向上述收纳部供给的回收部；对上述氢氟酸缓冲液的蒸发量进行运算的运算部；以及将包含氨和水在内、与上述运算出的氢氟酸缓冲液的蒸发量相同量的补充液向上述氢氟酸缓冲液供给的补充液供给部。

公开(公告)号：CN102102211B

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201010591444.9

申请日：2010-12-16

Applicant: 株式会社东芝 ,  芝浦机械电子株式会社 ,  氯工程株式会社

Inventor： 田家真纪子 ,  速水直哉 ,  佐藤伸良 ,  米仓由里 ,  平林英明 ,  黑川祯明 ,  小林信雄 ,  加藤昌明 ,  土门宏纪

IPC: C25B1/30 ,  C25B1/28 ,  C25B1/13 ,  C25B15/02 ,  C25B15/08

CPC classification number: C25B1/22 ,  C25B9/08 ,  G03F1/80 ,  G03F7/423 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/6708

Abstract: 在一个实施方案中，公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。

公开(公告)号：CN1237582C

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN01818564.9

申请日：2001-10-03

Applicant: 株式会社东芝 ,  日本油脂株式会社

Inventor： 平林英明 ,  斋藤晶子 ,  樱井直明 ,  押部义宏 ,  石户谷昌洋

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/042 ,  B24B37/24 ,  B24B49/16 ,  B24D3/28 ,  B24D3/344 ,  B24D11/001

Abstract: 本发明披露了一种具有擦光层的抛光布，所述擦光层包含在含水介质中可水解的聚合物材料并且在没有进行必须的整修处理下能够显示出相对长时间的稳定的抛光性能。

公开(公告)号：CN1699017A

公开(公告)日：2005-11-23

申请号：CN200510078598.7

申请日：2001-10-03

Applicant: 株式会社东芝 ,  日本油脂株式会社

Inventor： 平林英明 ,  斋藤晶子 ,  樱井直明 ,  押部义宏 ,  石户谷昌洋

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明披露了一种具有擦光层的抛光布，所述擦光层包含在含水介质中可水解的聚合物材料并且在没有进行必须的整修处理下能够显示出相对长时间的稳定的抛光性能。