公开(公告)号：CN119667827A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411305915.3

申请日：2024-09-19

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 桥本翔 ,  宫本幸大 ,  长命翔太 ,  箕浦一贵

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G09F9/30

Abstract: 本发明涉及防反射膜和图像显示装置。防反射膜(100)在透明膜基材(1)的一个主面上按顺序具备硬涂层(2)和防反射层(5)，该防反射层(5)包括折射率不同的多个薄膜。防反射膜的反射率为1％以下。在防反射膜的以防反射层侧的面为内侧并以弯曲半径2mm弯曲180°的状态下，硬涂层的压缩应力的最大值为375MPa以下，防反射层的压缩应力的最大值为530MPa以下。压缩应力通过基于有限元模型的计算来求出。

公开(公告)号：CN119053884A

公开(公告)日：2024-11-29

申请号：CN202380035494.4

申请日：2023-04-12

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 渡边圣彦 ,  宫本幸大 ,  角田丰

IPC: G02B1/115 ,  B32B7/023 ,  G02B1/14 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00 ,  H05B33/02 ,  H10K50/00 ,  H10K59/00

Abstract: 抗反射膜(101)具备：硬涂膜(1)，在透明膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)；以及抗反射层(5)，设于硬涂层上。抗反射层包含至少一层高折射率层和至少一层低折射率层。高折射率层(51、53)是以氧化铌为主成分的薄膜，就距离硬涂层最远地配置的高折射率层(53)而言，膜厚为40nm以下且膜密度小于4.47g/cm3。

公开(公告)号：CN117784295A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202311237502.1

申请日：2023-09-25

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 桥本翔 ,  长命翔太 ,  宫本幸大 ,  角田丰

IPC: G02B1/111 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16 ,  G02B1/12 ,  G16C60/00 ,  C23C14/34

Abstract: 提供防反射薄膜及其制造方法、以及图像显示装置。防反射薄膜(101)在透明薄膜基材(1)的一个主面上具备底漆层(3)和防反射层(5)。防反射层为折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层为氧化铟锡层，在X射线光电子能谱的C1s光谱中，优选532eV的峰强度为530eV的峰强度的0.93倍以下。底漆层的厚度优选为0.5～10nm。本发明的防反射薄膜在应用于具备触摸传感器的图像显示装置的情况下，不易产生触摸传感器的检测的异常。

公开(公告)号：CN115803192B

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN202180048969.4

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00

Abstract: 带防污层的光学薄膜朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层、由无机层形成的光学功能层、以及防污层。防污层的表面粗糙度Ra为10nm以下。防污层的厚度方向的一面的水接触角为110°以上。通过规定的试验而求出的防污层的水接触角为83°以上。

公开(公告)号：CN116075425B

公开(公告)日：2024-03-05

申请号：CN202180049549.8

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00 ,  G02B1/18 ,  G02B1/14 ,  G02B1/115 ,  G02B1/113 ,  G02B1/10 ,  C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/06 ,  B32B9/00

Abstract: 层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的半峰全宽为 以上。

公开(公告)号：CN116234692A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202180061138.0

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  伊藤帆奈美 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00

Abstract: 层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。在掠入射X射线衍射法中的面外衍射(out‑of‑plane)测定中，在归属于层状结构的波数2nm‑1～10nm‑1处具有峰。通过规定试验而测得的防污层的积分强度比为0.0035以下。

公开(公告)号：CN116157263A

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN202180061035.4

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00

Abstract: 层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。通过规定的第一试验而测得的防污层的第一积分强度比为0.78以下。

公开(公告)号：CN116075425A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202180049549.8

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00

Abstract: 层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的半峰全宽为以上。

公开(公告)号：CN115812033A

公开(公告)日：2023-03-17

申请号：CN202180049524.8

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚 ,  角田丰

IPC: B32B9/00

Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)为配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的、在温度为25℃且最大压痕深度为200nm的条件下利用纳米压痕法而测得的弹性恢复率为76％以上。

公开(公告)号：CN114467151A

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN202080069058.5

申请日：2020-09-16

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 安井智史 ,  宫本幸大 ,  涩谷克则

IPC: H01B5/14 ,  G01K7/22 ,  H01B1/02 ,  H01B13/00

Abstract: 本发明提供一种温度传感器膜，其在树脂膜基材上具备经图案化的金属薄膜，温度测定精度高。用于制作温度传感器膜的导电膜(102)在树脂膜基材(50)的一个主面上具备镍薄膜(10)。镍薄膜优选为镍的(111)面的面间隔小于0.2040nm。通过将镍薄膜图案化，而形成测温电阻部与连接于测温电阻部的引线部，从而可获得温度传感器膜。