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公开(公告)号:CN113032951A
公开(公告)日:2021-06-25
申请号:CN202011424017.1
申请日:2020-12-08
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于遗传算法设计优化的宽频透明吸波体及其设计方法。所述宽频透明吸波体包括透明导电膜与介质层,所述透明导电膜包括底部低阻抗导电膜层(1)、中层图形化导电膜层(2)和上层图形化导电膜层(3),所述底部低阻抗导电膜层(1)与中层图形化导电膜层(2)之间为介质层Ⅰ,所述中层图形化导电膜层(2)与上层图形化导电膜层(3)之间为介质层Ⅱ,所述介质层Ⅰ与介质层Ⅱ均为空气介质;多个所述宽频透明吸波体在二维平面上周期排布呈棋盘状,多个所述宽频透明吸波体在二维平面上沿水平方向与垂直方向均匀排布。本发明解决了吸波体宽带吸收、低剖面的难题,利用遗传算法设计互补谐振图案及结构参数,从而实现超材料吸波体。
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公开(公告)号:CN112281133A
公开(公告)日:2021-01-29
申请号:CN202011172175.2
申请日:2020-10-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/54
Abstract: 本发明涉及一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法和半球谐振子制造方法,该谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法包括:获取镀膜设备和镀膜工件的三维数据;根据获取的三维数据建立镀膜工件及有效镀膜区域的三维模型,对镀膜工件待镀膜的镀膜面沿径向分布划分网格;利用有限元仿真获得不同工艺参数对应的镀膜工件即半球谐振子在镀膜表面的膜层厚度分布及均匀程度数据;在镀膜过程中,采集镀膜厚度参数,动态分析膜层的厚度分布及均匀程度,依据已获得的膜层厚度及均匀程度结果修正镀膜的工艺参数,使膜层厚度分布均匀程度不断提高。采用本发明能够快速实现半球谐振子所需的均匀镀膜,并提高实际镀膜过程中产品的质量。
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公开(公告)号:CN111690905A
公开(公告)日:2020-09-22
申请号:CN202010589832.7
申请日:2020-06-24
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种多刺激响应型瞬时强光防护复合薄膜及其制备方法,本发明涉及一种瞬时强光防护复合薄膜及其制备方法。本发明解决现有的聚合物/液晶材料及器件在中红外波段防护效果不理想及稳定性较差的问题。复合薄膜由两侧表层及电致变色夹层组成,所述的两侧表层由外至内依次为衬底、热致变色层及透明导电层,所述的电致变色夹层由两侧的液晶分子取向层和中间的聚合物稳定液晶膜层组成;方法:一、制备热致变色层;二、制备透明导电层;三、制备液晶分子取向层;四、制备液晶均相混合液;五、制备电致变色层。本发明用于多刺激响应型瞬时强光防护复合薄膜及其制备。
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