-
公开(公告)号：CN102998088A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210478703.6
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外光源校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。利用本发明可以实现30nm～200nm范围内光源光谱辐射参数校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
-
公开(公告)号：CN119124364A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202310693649.5
申请日：2023-06-12
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供一种超大口径红外相机辐射定标装置温控系统，包括米级面源黑体辐射源、温度采集及控制系统、加热片组、程控电源组、低温电磁阀组、液氮供液系统、嵌入式控制系统；温度采集及控制系统通过温度传感器实时采集辐射面温度传送给控制系统，与设定温度进行比较，采用PID控制，通过两路输出分别控制制冷和加热功率，黑体辐射源液氮管路通过若干个低温线性电磁阀控制米级面源黑体辐射源，实现黑体辐射源区域制冷；程控电源组控制加热片组实现黑体辐射源区域加热；嵌入式控制系统实现数据的输入输出、控制策略的实现和数据的远程传输和通信。该系统能够对黑体的温度进行高精度的控制以及快速测量，提高了米级面源黑体的均匀性和稳定性。
-
公开(公告)号：CN114353965B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202011059643.5
申请日：2020-09-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种黑体辐射源及其温度控制方法、温度控制设备，所述黑体辐射源包括黑体腔以及加热模块；所述黑体腔包括：侧壁、腔底以及开口端，所述侧壁的一端位于所述开口端，所述侧壁的另一端与所述腔底连接；其中，所述开口端与所述腔底相向设置；所述加热模块包括：第一加热部以及至少一个第二加热部；其中，所述第一加热部一体成型于所述腔底的内部，至少一个所述第二加热部一体成型于所述侧壁的内部；所述第一加热部以及第二加热部分别用于向所述黑体腔的侧壁以及腔底提供热能以均匀加热所述黑体腔。通过本发明的黑体辐射源可以实现腔体内部温度一致且均匀，能够较精准的对光谱辐射测量仪器进行量值溯源。
-
公开(公告)号：CN114568142A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202011387359.0
申请日：2020-12-01
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种打顶刀具、打顶执行器及打顶方法，该打顶刀具包括：刀具安装环、驱动机构和至少三个刀片；刀片转动连接于刀具安装环，至少三个刀片绕刀具安装环的轴线圆周分布；刀片具有第一刀刃和第二刀刃；驱动机构与刀片连接，用于驱动各个刀片在刀具安装环上转动至打开状态或者闭合状态；当处于打开状态时，待打顶的顶芽能够穿入刀具安装环中，且至少三个刀片包围待打顶的顶芽；当处于闭合状态时，相邻两个刀片中，一个刀片的第一刀刃与另一刀片的第二刀刃相抵接。通过本发明，缓解了现有技术中棉花打顶时容易将棉花顶芽周边的侧枝和叶片损伤，造成棉花产量的降低的技术问题。
-
公开(公告)号：CN110926620B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201811092252.6
申请日：2018-09-19
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种基于单晶硅基底的红外靶标及其制作方法、保护结构，红外靶标包括单晶硅基底，单晶硅基底的厚度为100μm，单晶硅基底上设置有镂空图形，单晶硅基底的反射面上设置有高反射率膜，高反射率膜上设置有保护膜；采用单晶硅作为基底，使其在镂空图形的加工过程中不会产生表面变形，并且便于抛光和镀膜，不产生塑性变形，保证靶标表面的平整度。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110017900B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201810017158.8
申请日：2018-01-09
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种高低温红外成像系统检测装置，高低温红外成像系统检测装置包括平台支撑组件、目标黑体组件、背景黑体组件、靶标组件、高低温光学组件、第一消热差机构和第二消热差机构，目标黑体组件、背景黑体组件和靶标组件均可拆卸地设置在平台支撑组件上，目标黑体组件所产生的目标红外辐射和背景黑体组件所产生的背景红外辐射均通过靶标组件进入高低温光学组件以形成带有背景的红外目标，第一消热差机构用于保证靶标组件和次镜单元之间的距离不变，第二消热差机构用于保证次镜单元和主镜单元之间的距离不变。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中红外成像系统检测装置无法实现深空背景、复杂背景、宽温范围下的目标仿真测试的技术问题。
-
公开(公告)号：CN107655833A
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201710853728.2
申请日：2017-09-20
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及一种低导热率非导体材料高温半球发射率测量方法与系统。该方法利用材料常温、高温、法向、半球发射率的关系，通过测量常温半球发射率、常温法向发射率及高温法向发射率，导出材料高温半球发射率。测量系统包括常温半球发射率测量装置、常温法向发射率测量装置及高温法向发射率测量装置。本发明通过间接测量的方式，得出高温半球发射率，实现了低导热率非导体材料高温半球发射率测量途径，测量过程科学，结果准确可靠。
-
公开(公告)号：CN107014494A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710141240.7
申请日：2017-03-10
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/00
CPC classification number: G01J5/00 , G01J2005/0048
Abstract: 本发明涉及红外辐射测量与校准技术领域，尤其涉及一种能够在真空低温条件下应用的高精度面源黑体辐射源装置，主要包括：黑体辐射源主体模块、真空舱、舱内控制电缆、穿墙航插、舱外控制电缆、制冷铜辫和控制器模块，所述黑体辐射源主体模块放置在所述真空舱内，所述黑体辐射源主体模块通过制冷铜辫与所述真空舱的内壁相连接，所述黑体辐射源主体模块依次通过所述舱内控制电缆、穿墙航插、舱外控制电缆与所述控制器模块相连。本发明的有益效果为：有效解决了现有技术无法同时满足有效发射率、温度均匀性、温度范围宽的问题，为红外探测设备的标定和测试以及建立真空环境下低温目标性能测试系统提供了应用基础。
-
公开(公告)号：CN102998089B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210478716.3
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外探测器校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。探测器单元包括标准探测器和待测探测器。利用本发明可以实现在30nm～200nm范围内探测器相对光谱响应度校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
-
公开(公告)号：CN102998088B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210478703.6
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外光源校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。利用本发明可以实现30nm～200nm范围内光源光谱辐射参数校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
58
records
(took 0.032 seconds)
