-
公开(公告)号：CN102540738B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201010592293.9
申请日：2010-12-16
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 发明提供一种光束间不平行角度的补偿方法，该方法应用于光刻机系统，该光刻机系统包括基底台、第一方向干涉仪和与该第一方向垂直的第二方向干涉仪，包括：该基底台沿着该第一方向步进，由该第一、第二方向干涉仪同步测量，得到该第一方向干涉仪光束间不平行角度；该基底台沿着该第二方向步进，由该第一、第二方向干涉仪同步测量，得到该第二方向干涉仪光束间不平行角度；分别补偿该第一方向干涉仪和该第二方向干涉仪光束间不平行角度。本发明通过补偿干涉仪光束间的不平行角度，得到正确的长条镜面形，进而对测量位置进行面形补偿，提高基底台控位准确性，提高光刻机系统的精度。
-
公开(公告)号：CN102841516A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201110168712.0
申请日：2011-06-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种硅片对准系统焦面的校准方法，包括：步骤一：工件台保持无倾斜，采用高度步进的方式，通过对准标记的反射光强粗测对准光学系统的焦面位置；步骤二：将工件台保持在对准光学系统的焦面位置处，在多个不同的倾斜度下使用对准光学系统对准对准标记，得到对准位置与倾斜度之间的关系曲线，进而得到干涉仪阿贝误差；步骤三：保持倾斜度，不断改变工件台高度，测得表示对应的倾斜度下对准位置与高度之间关系的直线，改变倾斜度，重复上述步骤，测得对准光学系统的焦面高度及焦面倾角；步骤四：利用步骤三中得到的焦面高度和焦面倾角，利用迭代的方法重复步骤二得到精确校准干涉仪阿贝误差，然后重复步骤三精确校准对准光学系统的焦面。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102129176B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201010022990.0
申请日：2010-01-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明揭露了一种消除长条镜面形引起的倾斜误差的方法，所述方法包括如下步骤：上载基底，保持工件台Y方向的坐标不变，干涉仪控制工件台沿X方向运动到不同位置，调焦调平后，由干涉仪读取得到各不同位置下的倾斜值，计算得到长条镜Y方向面形引起的不同位置处的倾斜值；保持工件台X方向的坐标不变，干涉仪控制工件台沿Y方向运动到不同位置，调焦调平后，由干涉仪读取得到各不同位置下的倾斜值，计算得到长条镜X方向面形引起的不同位置处的倾斜值；在工件台对应位置处，干涉仪控制工件台位置倾斜时，补偿长条镜Y方向和X方向面形引起的倾斜值，即可消除由长条镜面形引起的倾斜误差。所述方法可解决长条镜面形导致的倾斜偏差，且方法简单。
-
公开(公告)号：CN101520613B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200910047952.8
申请日：2009-03-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提出一种校准标记位置的装置与方法，用于获取标记相对于参考光栅的旋转量。该校准标记位置的装置包括：第一采集单元以及图像处理单元。第一采集单元用于采集并输出所述标记的静态图像数据。图像处理单元耦接第一采集单元，并且包括存储单元以及计算单元。存储单元，用于接收静态图像数据，并将所述标记的静态图像数据转化为数字信号。计算单元耦接存储单元，接收所述数字信号以进行计算，得到旋转量。该校准标记位置的装置及方法，可以减少由于实际标记与硅片存在旋转导致的偏差，提高了测量精度，同时省去测量硅片旋转、然后再摆正或修正的步骤，提高了生产效率，增加了产品良率。
-
公开(公告)号：CN100559280C
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200710044558.X
申请日：2007-08-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种物镜检测装置以及方法。现有技术通过在覆盖有光阻的晶圆上多次曝光来进行物镜检测致使检测过程复杂且效率低下。本发明的物镜检测装置包括光源，掩模台，工件台，物镜框架，分别用于驱动掩模台和工件台运动的掩模台驱动装置和工件台驱动装置，分别设置在掩模台与工件台上且具有多个对应的对准图形的第一和第二掩模，用于探测透过第二掩模上的对准图形的光的强度和该些对准图形位置的探测模块，用于控制驱动第一与第二掩模对准以及在两者对准后控制工件台驱动装置驱动工件台进行扫描运动的控制模块，以及用于将扫描运动中所探测到的数据运行一处理程序以得到待检测物镜的成像质量参数的处理模块。采用本发明可简化物镜的测量过程。
-
公开(公告)号：CN200989995Y
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200620049446.4
申请日：2006-12-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本实用新型属于功率检测领域，具体公开了一种光刻系统中光纤连接处的激光功率自动检测装置。其设置在光纤与光纤连接盘连接处，包括Y型激光耦合器和光敏二极管，所述激光耦合器的输入端与光纤输出端相连，激光耦合器输出功率大的一个输出端与光纤连接盘的输入端相连，另一输出端与光敏二极管相连，所述激光耦合器的分束比与光敏二极管的功率放大倍数相适应。采用本实用新型检测装置不需拆下光纤即可得到检测结果，避免了人工操作存在的上述缺陷，提高了光刻机整体性能，可以实现光纤功率测量自动化。
-
公开(公告)号：CN206209289U
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201621151082.0
申请日：2016-10-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种工件台非正交校正装置，包括非正交测量标记，设置在工件台上用于承载基板的粗动旋转台上，所述非正交测量标记至少设有三个，且不在一条直线上；视觉单元，用于获得所述非正交测量标记的位置；干涉仪测量单元，用于测量所述工件台的位置；还包括校正单元，根据所述非正交测量标记在粗动旋转台坐标系下的名义位置、所述视觉单元获得的所述非正交测量标记的位置以及所述工件台的位置计算所述工件台的非正交量，并发送至所述干涉仪测量单元进行补偿校正。本实用新型有效解决了工件台面型在曝光过程中受热形变对TP控制精度的影响，从而降低材料的使用成本。
-
-
-
-
-
-
Search Results
47
records
(took 0.031 seconds)
