一种功率半导体
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107564954A

    公开(公告)日:2018-01-09

    申请号:CN201610503258.2

    申请日:2016-06-30

    Abstract: 一种功率半导体,包括:衬底;形成在衬底中的第一导电区域,第一导电区域中形成有具有第一导电类型的源极区;形成在衬底一表面的栅氧化层,栅极氧化层与源极区接触;形成在栅氧化层上的第一多晶硅层;其中,栅氧化层内部形成有第二多晶硅层,第二多晶硅层的一端位于第一导电区域上方,另一端与功率半导体的元胞右边缘对齐。该功率半导体的栅氧化层内部形成有浮空多晶硅层,因此在栅氧化层内部形成了场板结构,提高了器件的耐压性能,使得增强型载流子层的掺杂浓度及元胞之间的距离可以进一步增大,减小了器件的基区电阻及JFET区电阻,从而降低了通态压降,并实现了通态压降与耐压的良好折中。

    一种半导体功率器件版图

    公开(公告)号:CN105762147A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201610231918.6

    申请日:2016-04-14

    Inventor: 郑昌伟 戴小平

    Abstract: 本发明公开了一种半导体功率器件版图,包括:栅极沟槽的中部为折线结构,两端延伸进入栅极接触区,并与栅极总线连接,尾端在距离栅极接触区的预定位置处相互连接,形成封闭的虚栅区;虚栅沟槽位于封闭的虚栅区中间,与栅极沟槽平行,虚栅沟槽的两端或中间形成封闭接触窗口;基区接触区位于相邻两个栅极沟槽之间,并与栅极沟槽平行;虚栅接触孔位于虚栅沟槽上的封闭接触窗口内,宽度大于虚栅沟槽的宽度;源极接触孔覆盖于基区接触区之上,宽度大于所述基区接触区的宽度,长度小于基区接触区的长度。所述栅极沟槽、虚栅沟槽以及基区接触区都包含水平与非水平部分,不同方向的沟槽能够分散芯片上的应力,有利于芯片采用更薄的晶圆进行制备。

    集成于IGBT芯片的温度传感器及其制造方法

    公开(公告)号:CN111735549A

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN201910228653.8

    申请日:2019-03-25

    Abstract: 本申请公开了一种集成于IGBT芯片的温度传感器、IGBT芯片及其制造方法,在IGBT芯片的多晶硅沟槽栅中通过掺杂的方式形成多晶硅二极管,利用测量多晶硅二极管的正向压降来监测芯片的温度变化,并且沟槽栅和IGBT芯片之间设置有栅氧化层,栅氧化层108将多晶硅层101和IGBT芯片的元胞区完全隔离,且温度传感器设置于芯片的陪区(dummy),避免了温度传感器与IGBT元胞区在工作状态下的相互干扰,因此大大简化了二者之间的隔离设计。同时,通过将二极管内建在IGBT芯片的沟槽内部,避免了对芯片表面平整度的影响,可以实现芯片表面低线宽的光刻技术,有利于芯片元胞区致密化设计。

    压接式功率半导体器件结壳热阻的测量方法

    公开(公告)号:CN110715952A

    公开(公告)日:2020-01-21

    申请号:CN201810768745.0

    申请日:2018-07-13

    Abstract: 本发明提供了一种压接式功率半导体器件结壳热阻的测量方法,包括以下步骤:步骤1.绘制器件电学参数结压降Vce与结温Tj的关系曲线;步骤2.绘制器件壳表面与散热基板直接压接接触的第一瞬态热阻抗曲线Zth-jc(direct)(t);步骤3.绘制器件壳表面与散热基板间添加第二接触层时的第二瞬态热阻抗曲线Zth-jc(metal)(t);步骤4.绘制瞬态热阻抗分离点曲线;步骤5.确定器件结壳热阻。本发明的测量方法能够更便捷地更准确地测量压接式功率半导体器件结壳热阻。

    一种功率半导体器件的制备方法

    公开(公告)号:CN109962016A

    公开(公告)日:2019-07-02

    申请号:CN201711432026.3

    申请日:2017-12-26

    Abstract: 一种功率半导体器件的制备方法,其包括:在衬底中制作场限环和有源区,其中,场限环和有源区具有第二导电类型,有源区设置在场限环所形成的环形内部。相较于现有的功率半导体器件,本发明所提供的功率半导体器件制作方法由于各个场限环的间距之间还可以存在基于间距调整系数的函数关系,因此设计人员在对功率半导体器件进行设计制作时,通过调整场限环结构调节因子(包括环宽调整系数和间距调整系数),即可快速有效地调节场限环终端结构,从而获得各种具有不同环宽和环间距的终端结构作为NGV‑FLR终端设计的备选方案。

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