一种电阻芯片的制造方法及光掩膜版

    公开(公告)号:CN111223755A

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201811406017.1

    申请日:2018-11-23

    Abstract: 本发明属于半导体工艺技术领域,具体公开了一种电阻芯片的制造方法及光掩膜版。该方法包括步骤:提供半导体衬底;基于预选的刻蚀图案,逐个光刻每一个电阻芯片单元保护层上的掩膜层,以将预选的刻蚀图案逐个地转移至对应的掩膜层;以及基于光刻后的掩膜层对保护层进行刻蚀,以暴露电阻薄层,所暴露的电阻薄层区域具有预选的刻蚀图案,刻蚀图案的尺寸定义电阻芯片单元的实际电阻。本发明能够保障半导体器件电学性能参数的一致性,确保同一生产批次,以及不同生产批次的半导体器件,都能具有相同的电学性能参数。

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