负压式靶丸拾取器
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1814525A

    公开(公告)日:2006-08-09

    申请号:CN200510127382.5

    申请日:2005-12-26

    Abstract: 负压式靶丸拾取器,它涉及一种微小球体的拾取、微操纵装置,本发明的目的是为解决现有技术存在的体积大、使用不方便、灵活性较差的问题。本发明的微型真空泵1和电池盒4固定在壳体10内,手柄横梁3固定在壳体10的上侧,手柄支柱2固定在手柄横梁3和壳体10之间,开关6固定在手柄横梁3上,吸头支座7固定在壳体10和手柄横梁3的前端,转接件8固定在吸头支座7的前侧,吸附头9与转接件8螺纹密封连接,连接管5设置在壳体10内,连接管5的两端分别与微型真空泵1的进气口和转接件8的内腔相连通。本发明的有益效果是:结构小巧,独立使用,不受其它装置的限制;操作简单,灵活性好,不受空间大小的制约;可以单手操作,操作的可靠性高。

    微机械零件三维加工装置
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1253285C

    公开(公告)日:2006-04-26

    申请号:CN200410013586.1

    申请日:2004-02-27

    Abstract: 微机械零件三维加工装置,它属于纳米加工装置。现有的基于扫描探针显微镜的加工还只局限于平面二维微图形,没有形成一整套类似于超精密金刚石车削加工的加工机理与相关技术。本发明包括机械台体(1)、设置在机械台体(1)上的三维粗动工作台(2),在机械台体(1)上设有加工头部件(3)和光学系统(4),在三维粗动工作台(2)上设有主轴系统(5),所述三维粗动工作台(2)、加工头部件(3)、光学系统(4)、主轴系统(5)都与控制系统(6)相连。本发明产品具有精度高、效果好的优点。

    一种基于纳米铣削加工阵列纳通道结构的纳流体忆阻器制备方法

    公开(公告)号:CN119997795A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202510049472.4

    申请日:2025-01-13

    Abstract: 一种基于纳米铣削加工阵列纳通道结构的纳流体忆阻器制备方法,属于忆阻器制备技术领域。所述方法为:上层微通道采用紫外光刻技术制备;下层微通道为通过紫外光刻在硅片表面制备柔性掩膜版,非曝光区域的光刻胶溶解脱落,暴露出硅基底,在硅基底加工得到微通道结构,将光刻胶全部去除后,得带有微通道的硅基底;纳米铣削加工由原子力显微镜系统及二维压电陶瓷促动器实现;将带有凸微通道的硅片作为模板进行转印后,得带有微通道的PDMS片;将带有纳通道阵列的硅片作为模板进行二次转印得带有纳米通道和微米通道的PDMS片;将两个PDMS片通过氧等离子体处理的方式进行键合。本发明方法流程简单、快速高效、结构稳定、一致性好且可大量复制、生物兼容性好。

    一种利用纳米线阵列制备的可寻址纳米电极及其方法

    公开(公告)号:CN119861118A

    公开(公告)日:2025-04-22

    申请号:CN202510016920.0

    申请日:2025-01-06

    Abstract: 一种利用纳米线阵列制备的可寻址纳米电极及其方法,属于纳米电极技术领域。基底上有纳米线阵列、金属引线、金属垫及铜丝,纳米线阵列与基底平齐,纳米线阵列与金属引线连接,金属引线与金属垫连接,金属垫与铜丝连接,铜丝伸出至基底外侧;纳米线阵列、金属引线、金属垫及铜丝上有树脂层。方法如下:基底制备;纳米线阵列加工;金属引线及金属垫加工;可寻址纳米电极加工;电化学性能测试。本发明可以重复高效地制备具有高一致性的纳米线阵列,加工的纳米线阵列具有超长尺寸且尺寸间距可控,较易转移和定位,便于后续封装。简单、高效、低成本制备可寻址纳米电极,实现可寻址纳米电极多领域应用。

    一种利用超长纳米线制备电化学纳米点阵列电极的方法

    公开(公告)号:CN111948267B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202010844645.9

    申请日:2020-08-20

    Abstract: 一种利用超长纳米线制备电化学纳米点阵列电极的方法,属于纳米电极制备技术领域。本发明是为了简单高效可重复地制备纳米点阵列电极,在含微米沟槽阵列的硅模板上浇注PDMS;在固化完成的PDMS模具上浇注树脂,得到带有微米沟槽阵列的树脂块;在树脂块上沉积一层金属薄膜,用树脂包埋,进行纳米切片,将单个含纳米线阵列的树脂薄片或多个与空树脂薄片交替堆叠的含纳米线阵列的树脂薄片转移至基底上,将导线搭接固定在纳米线阵列的表面,加入树脂封装,将未搭接导线的一端修块抛光,得到纳米点阵列电极。本发明避免了邻近电极的电容和扩散层重叠,且通过对纳米线端面再次修块抛光可获得新的干净的纳米点阵列,有利于纳米点阵列电极的长期重复使用。

    基于AFM纳米铣削及化学腐蚀加工的表面增强拉曼基底制备方法

    公开(公告)号:CN114411152A

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202210023523.2

    申请日:2022-01-10

    Abstract: 本发明公开了一种基于AFM纳米铣削及化学腐蚀加工的表面增强拉曼基底制备方法,所述方法包括如下步骤:步骤(1)采用磁控溅射法在基底表面依次制备金膜、银膜和金膜;步骤(2)基于AFM的纳米铣削加工系统,在金‑银‑金复合膜表面纳米铣削加工周期纳米结构;步骤(3)将纳米铣削加工得到的周期纳米结构放入浓硝酸中,对周期纳米结构边缘裸露的银层进行化学腐蚀,从而制备得到中空的纳米腔;步骤(4)以化学腐蚀后的带有纳米腔的复合膜周期阵列结构作为拉曼增强基底。该方法可以快速高效的制备结构特征尺寸可控、等离子体共振可调、一致性好的拉曼增强基底。

    一种基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法

    公开(公告)号:CN113426500A

    公开(公告)日:2021-09-24

    申请号:CN202110791031.3

    申请日:2021-07-13

    Abstract: 本发明公开了一种基于纳米波纹结构的纳流控芯片的制备方法,所述方法包括如下步骤:步骤一、使用AFM在聚碳酸酯薄膜表面进行往复扫描加工,通过控制探针的运动轨迹得到纳米波纹结构;步骤二、以PDMS和固化剂为转印材料,通过PDMS转印得到带有纳米通道阵列的PDMS片;步骤三、采用光刻法在单晶硅基底上加工微通道结构,通过PDMS转印得到带有微通道的PDMS片;步骤四、采用氧等离子体清洗机对带有纳米通道阵列的PDMS片和带有微通道的PDMS片进行键合,得到带有纳米通道阵列的纳流控芯片。本发明的加工方法简单、通道深宽比可控,制备出的带有纳米通道阵列的纳流控芯片具有更高的灵敏。

    一种基于针尖轨迹运动加工微纳复合结构的装置及方法

    公开(公告)号:CN111732073A

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN202010561529.6

    申请日:2020-06-18

    Abstract: 一种基于针尖轨迹运动加工微纳复合结构的装置及方法,涉及一种加工微纳复合结构的装置及方法。z向竖直微米定位台固定在基座上方,用于带动刀具初步逼近加工工件表面,一维压电纳米位移台固定在z向竖直微米定位台上,用于控制加工深度,针尖轨迹运动加工模块固定在一维压电纳米位移台上,用于控制刀具的竖直公转运动,x-y向水平定位台固定在基座上表面,用于控制水平加工进给运动,水平调平台固定在x-y向水平定位台上,用于安装加工工件并可调节消除其表面倾斜度,数码显微镜固定在基座上表面,用于检测对刀。能够在金属表面上加工出侧壁带有亚波长光栅的V形微沟槽结构,实现了对微纳复合分级结构的加工。

    一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法

    公开(公告)号:CN109179313B

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN201811002922.0

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法,所述方法步骤如下:一、基于原子力显微镜的纳沟槽加工:应用AFM探针在金属样品表面进行纳米沟槽的加工;二、光刻法微沟槽加工:采用光刻法在单晶硅基底上进行微沟槽的加工;三、PDMS微纳沟槽转印:通过PMDS两次转印得到分别带有微、纳沟槽的PDMS单片;四、PDMS片键合:采用氧等离子体清洗机对具有微、纳沟槽的PDMS单片进行键合,得到所需结构的微纳流控芯片。本发明主要基于AFM的刻划加工,由于AFM刻划加工操作简便且效率高,所以采用本方法制备微纳流控芯片更高效。本发明的方法制备流程相对简单,使用材料为PDMS、单晶铜片等,成本相对较低。

Patent Agency Ranking