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公开(公告)号：CN114217512A
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202210014886.X
申请日：2022-01-07
Applicant: 北京理工大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种极紫外光刻投影曝光光学系统，包含照明模块和成像模块两部分，其中成像模块的设计使用了基于真实光线追迹的分组移动双向构造法，分组设计可以将复杂的系统分解为多个简单的子系统分别进行设计，即将整体系统众多未知参数分解到每一组中进行求解，由于分组后子系统较原系统待求参数数量大大减小，因此可以根据每一组的结构特点，使用现有经典光学基础定律进行求解，大大的减小了系统求解的计算量，该方法可以快速有效的实现NA0.33成像模块的设计，满足极紫外光刻物镜系统高数值孔径、大视场、高分辨力的设计需求。
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公开(公告)号：CN103901713B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201410090470.1
申请日：2014-03-12
Applicant: 北京理工大学
IPC: G03F1/36
Abstract: 本发明一种采用核回归技术的自适应光学邻近效应校正方法，具体过程为：建立EBOPC数据库和PBOPC数据库；将待优化的掩模图形分割成若干子掩模图形；确定每个子掩模图形中的观测点；为各观测点分配子区域；在各观测点周围区域内进行采样取点；计算每个观测点与其周围掩模图形的平均距离 ；采用核回归技术生成OPC回归结果；将所有子掩模图形对应的OPC回归结果拼接为对应于整体掩模图形的OPC回归结果；对整体掩模图形的OPC回归结果进行后处理，获得最终的OPC优化结果。本发明利用核回归技术，有效提高了传统PBOPC的运算效率。
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公开(公告)号：CN102590989B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201210099577.3
申请日：2012-04-06
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种基于系统Zernike波像差分析与光刻过程对于Zernike系数敏感性的光刻物镜非球面位置选择方法，属于非球面光学设计技术领域。本方法首先确定初始系统结构中各元件位置与视场和孔径的关系，分析各类像差对于孔径与视场的依赖关系，得到各元件位置对于不同像差的校正敏感度；然后根据波像差分析结果确定主导像差；再根据光刻仿真结果确定Zernike波像差各分项像差敏感度；得到添加非球面位置范围，并进行试探性优化；最后选取使像质改善较大的非球面位置作为最终位置并进行深度优化，得到像质优良的最终非球面位置。根据所述方法得到的非球面投影光刻物镜的数值孔径为0.75，工作波长为193纳米，波像差小于0.5纳米。
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公开(公告)号：CN102590989A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210099577.3
申请日：2012-04-06
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种基于系统Zernike波像差分析与光刻过程对于Zernike系数敏感性的光刻物镜非球面位置选择方法，属于非球面光学设计技术领域。本方法首先确定初始系统结构中各元件位置与视场和孔径的关系，分析各类像差对于孔径与视场的依赖关系，得到各元件位置对于不同像差的校正敏感度；然后根据波像差分析结果确定主导像差；再根据光刻仿真结果确定Zernike波像差各分项像差敏感度；得到添加非球面位置范围，并进行试探性优化；最后选取使像质改善较大的非球面位置作为最终位置并进行深度优化，得到像质优良的最终非球面位置。根据所述方法得到的非球面投影光刻物镜的数值孔径为0.75，工作波长为193纳米，波像差小于0.5纳米。
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公开(公告)号：CN101813894B
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201010151224.4
申请日：2010-04-16
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种具有测量精度标定功能的光刻机投影物镜波像差在线检测装置，属于光学检测领域。本发明利用PSPDI的系统误差随光栅分束方向旋转的特性，在PSPDI中多引入一个光栅和两个圆孔，将两个光栅和三个圆孔一同作为测量精度标定元件，根据Zernike多项式在单位圆域的正交特性和奇偶对称性质分离在标定PSPDI测量精度时的系统误差，得到标定表征PSPDI测量精度的圆孔衍射产生的球面参考波的波面误差，使光刻机投影物镜波像差在线检测装置不仅能够在线检测波像差，还具有测量精度标定功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101609266B
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200910089426.8
申请日：2009-07-20
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种光刻机投影物镜波像差的现场测量装置。该装置基于Shack-Hartmann测量原理，包括主机和标准镜两大组成部分。主机部分包括光电传感器、衍射光学元件、准直物镜、带有圆孔的针孔掩模板，以及用于控制光路传输的分束器。标准镜部分包括当标定主机的系统误差时用于折返光路的第一标准镜和当主机测量投影物镜波像差时用于折返光路的第二标准镜。主机和第一标准镜集成在光刻机掩模台上，第二标准镜集成在硅片台上，测量时将掩模台和硅片台移动到测量位置，进行光刻机投影物镜全视场波像差的测量和校正。本发明具有较高的绝对测量精度，适合光刻机投影物镜波像差的现场测量，降低了装置的成本、体积和重量，便于集成。
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公开(公告)号：CN101236362B
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200810057060.1
申请日：2008-01-29
Applicant: 北京理工大学
CPC classification number: G03F7/706
Abstract: 本发明涉及一种光刻机投影物镜波像差在线检测方法。通过在光刻机上集成干涉仪装置，进行投影物镜波像差的在线检测、校正和控制。干涉仪装置为点衍射干涉或狭缝衍射干涉仪，具备两种测量模式：PSI测量模式和FTM测量模式。PSI测量模式采用移相干涉术，测量精度较高，主要用于干涉仪装置系统误差标定时；FTM测量模式采用傅立叶变换法处理干涉条纹，测量速度较快，主要在投影物镜波像差在线检测和控制时使用。本方法在不降低检测速度的前提下，提高了测量精度；并且在不降低干涉条纹对比度的前提下，采用质量更高的球面参考波标定干涉仪装置各个元器件所导致的系统误差，提高了干涉仪装置本身的测量精度和可重复性。
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公开(公告)号：CN101221044B
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200810057088.5
申请日：2008-01-29
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种大距离光线平行调整的装置和方法，利用高稳定性的准直激光器(1)发射准直激光经过偏振分光器(2)分光，在偏振分光器反射光路与透射光路上分别放置一个λ/4波片，波片的快轴方向与激光的偏振方向成45°，再入射到一个平面反射镜上。此平面反射镜放置在一个直线运动导轨副上，利用一个准直仪(9)和一个电子水平仪(13)进行监测，使其在移动一个较大距离时，能保持同一状态。在光线调整过程中使光线逆向反射，先后入射到同一个测角四象限探测器(8)上，通过调整二维反射镜(5)使两出射光线的平行性达到1弧秒以下。此方法还可以调整大距离多束光线之间的平行性，也可以进行直线运动导轨副本身的滚转角测量。
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公开(公告)号：CN101655670A
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200910093833.6
申请日：2009-09-22
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种可标定系统误差的光刻机投影物镜波像差在线检测装置，属于光学检测领域。本装置包括开有圆孔的物方掩模板、移相装置、光电传感器、存储器、控制器、运算器、分束装置和像方掩模板。所述分束装置包括两个二元衍射光栅：第一光栅和第二光栅；像方掩模板包括一个窗口和两个直径相同第一圆孔和第二圆孔。分束装置的第二光栅和像方掩模板的第二圆孔作为系统误差标定元件，根据Zernike多项式在单位圆域的正交特性和奇偶对称性质标定本装置的系统误差。本发明装置集成在光刻机的掩模工件台和硅片工件台上，相对于现有技术，能够标定测量装置本身引入的系统测量误差，进而提高测量精度。
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公开(公告)号：CN100592214C
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200710178468.X
申请日：2007-11-30
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于微透镜阵列调焦调平的方法与装置，属于光电检测技术领域。本发明包括发射部分和接收部分。其中发射部分包括光源、聚焦透镜、针孔滤波器、扩束透镜、优化入瞳器件、微透镜阵列，转向反射镜；接收部分包括转向反射镜、微透镜阵列、聚焦透镜、微光机电系统(OMEMS)扫描反射镜、针孔滤波器和探测器。本发明采用优化入瞳器件控制通光量来改善测量光斑，或者通过开关状态控制成像点的数量来适应不同曝光视场；采用微透镜阵列替代狭缝阵列；采用微光机电系统(OMEMS)扫描反射镜替代单镜扫描；采用差分接收方法，降低对光源稳定性的要求，获得更高的测量精度。
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