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公开(公告)号：CN116731338A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310708189.9
申请日：2023-06-15
Abstract: 本发明公开了一种基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法以及凝胶化配体溶液。所述基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法包括如下步骤：A：图案化ZrO2薄膜的制备；B：UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液的制备；C：UiO系列无机膜的制备。本发明提供了一种用于制备UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液，其通过如下方法制备：将有机配体和调节剂溶解在DMF中，制备得到凝胶化配体溶液；所述的调节剂为三乙胺或氢氧化钾；所述的有机配体为下列化合物a‑c中的一种。本发明采用凝胶法旋涂制备图案化UiO系列无机膜，不仅减少了溶剂用量，而且有效降低反应温度，能够获得微米尺度的图案化UiO系列无机膜。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116719209A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310709968.0
申请日：2023-06-15
Abstract: 本发明公开了一种基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶及其图案化方法。所述基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶含有100份的马来酰亚胺化合物、10‑30份的丙烯酸多环戊烯基酯和20‑50份的高折射率芴系活性交联剂。本发明的基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶避免了常规双光子引发剂的使用，从而可以避免普通光刻胶中残留的光引发剂及光解碎片存在着迁移渗透和进一步光化学反应的可能；丙烯酸多环戊烯基酯的阻氧效应可以保证光刻胶在空气中正常使用；而高折射率芴系活性交联剂则可以有效调节光刻胶的折射率以提升刻写效果。该光刻胶经飞秒激光刻写、显影后，能够得到特征尺寸在百纳米级的二维线条，也能够刻写出数百微米的三维结构。
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公开(公告)号：CN116719207A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310699369.5
申请日：2023-06-13
Abstract: 本发明公开了一种可调折射率的含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备以及基于该光刻胶的图案化方法。所述含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备方法包括以下步骤：S1：得到杂多酸溶液；S2：得到成膜树脂溶液；S3：得到含有光引发剂的活性单体溶液；S4：取适量活性单体溶液与杂多酸溶液混合均匀，再将成膜树脂溶液缓慢滴加至混合溶液中，先缓慢摇晃，再静置至溶液分层现象消失，得到含有杂多酸的激光直写光刻胶。本发明将杂多酸分散在光刻胶中，无需另加分散剂促进分散，所得光刻胶折射率在1.4‑1.8范围内可调；胶膜在目标区域内的透光率大于90％；填料均匀分散且粒径小，表面粗糙度低；利用双光子光刻可以制作2D和3D不同形状的结构。
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公开(公告)号：CN116554391A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310708192.0
申请日：2023-06-15
IPC: C08F220/14 , G03F7/20 , C08F220/18 , C08F212/08 , C08F220/20 , G03F7/038 , G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光直写光刻胶成膜树脂、负性飞秒激光直写光刻胶及其图案化方法。所述飞秒激光直写光刻胶成膜树脂的化学结构式如式(I)所示，该飞秒激光直写光刻胶成膜树脂为无规共聚物，重均分子量Mw在1.7‑2.2kDa之间，分布指数D在1.4‑2之间。本发明提供的负性飞秒激光直写光刻胶包括3‑5wt％所述的成膜树脂、5‑10wt％活性单体、0.1‑1wt％双光子引发剂和85‑91wt％溶剂。本发明所述的成膜树脂可以提高负性光刻组合物的抗刻蚀性，提升胶膜与晶圆的附着力，从而提高光刻图形的分辨率，改善图形形貌。
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公开(公告)号：CN115869465A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211589198.2
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种天然蛋白光刻胶和活性氧清除细胞支架的制备方法，属于医疗的技术领域，天然蛋白光刻胶是利用天然蛋白的活性基团进行不饱和修饰，并用其做促溶剂助溶功能蛋白，将改性后蛋白溶液与丙烯酸酯化的天然生物大分子共混，最后加入水溶性光敏剂并搅拌均匀而得到天然蛋白基光刻胶。该光刻胶及细胞支架具有以下优势：优秀的生物相容性；长期保持生物活性；活性氧清除细胞支架可以治疗植入部位的炎症反应；模拟细胞外基质环境以促进细胞粘附；可以快速制备并控制支架结构的精细度，以此调控细胞的粘附、生长和迁移。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115826354A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211447277.X
申请日：2022-11-18
Abstract: 本发明公开了一种基于硅氢加成反应的飞秒激光光刻胶及制备、图案化方法，该光刻胶包括含硅氢键化合物和含不饱和双键化合物，通过非线性双光子吸收，发生硅氢加成反应交联形成三维网状结构，显影后得到图案。本发明的光刻胶体系中无光引发剂，通过飞秒激光诱导共价键生成，无需催化剂即可进行硅氢加成反应，操作简单；同时，光刻胶体系中含硅氧烷结构，具有耐候性、耐氧化稳定性、耐腐蚀等特性，有助于增加与基材的附着力。
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公开(公告)号：CN114895535B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202210817874.0
申请日：2022-07-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法，对于含有特殊光引发剂的光刻胶，使用两束不同波长的光源照射光刻胶，第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶，利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化；第二束激光为聚焦空心斑，且与第一束激光的三维中心对准，使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化，通过控制两束光的相对能量，从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写，刻写最小精度可达亚50nm。
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公开(公告)号：CN114779591B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210717492.0
申请日：2022-06-23
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨光刻方法，该方法基于苯偶酰光引发剂基态与三重态的光谱吸收特性，利用一束材料基态吸收范围波长的激光束与另一束材料三重态吸收范围波长的激光束共同作用于材料中，通过控制两者的能量实现双色双步吸收效应，并且结合两者的相对位移控制，从而获得小于衍射极限的刻写线宽。本发明将提供一种亚百纳米精度刻写精度与快速刻写能力的超分辨纳米激光直写方法，使三维光刻直写技术具有高速、超分辨、复杂结构刻写能力的优点。
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公开(公告)号：CN114895536A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210823416.8
申请日：2022-07-14
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于激光直写的图案化Zn‑MOF膜的制备方法，属于图案化材料的技术领域，该制备方法包括以下步骤：（1）利用飞秒激光直写技术，对锌基光刻胶进行图案化光刻，显影后得到聚合后的光刻图案；（2）将得到的光刻图案进行高温退火，得到图案化的ZnO薄膜；（3）以ZnO为金属源，将其置于含有配体溶液的反应釜中，通过水热反应得到图案化的Zn‑MOF膜，本发明利用激光直写的方法能快速制备图案化的MOF膜、操作简单，更能在微米尺寸对MOF膜的图案进行控制。
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公开(公告)号：CN114895535A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210817874.0
申请日：2022-07-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法，对于含有特殊光引发剂的光刻胶，使用两束不同波长的光源照射光刻胶，第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶，利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化；第二束激光为聚焦空心斑，且与第一束激光的三维中心对准，使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化，通过控制两束光的相对能量，从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写，刻写最小精度可达亚50nm。
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