化合物作为双光子引发剂的应用、双光子光刻胶及其图案化方法

    公开(公告)号:CN118702844B

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN202411195250.5

    申请日:2024-08-29

    Inventor: 王宵冰 曹春

    Abstract: 本发明公开了化合物作为双光子引发剂的应用、双光子光刻胶及其图案化方法。本发明提供了化合物g、化合物h、化合物i中的一种作为双光子引发剂的应用。所述双光子光刻胶按质量百分数计,包括0.1~5.0%猝灭剂、0.1~2.5%双光子引发剂和92.5~99.8%树脂单体;所述的猝灭剂选自含有氮氧自由基的有机物;所述的双光子引发剂为以下化合物a‑i中的一种。本发明提供了上述双光子光刻胶的图案化方法。本发明提供化合物g‑h作为双光子引发剂的应用。本发明利用飞秒激光直写技术提供一种能高效的驱动光促进到光抑制的双光子光刻胶及图案化方法,实现了飞秒激光的刻写速度、光刻精度、分辨率及三维加工能力的多方面提升。#imgabs0#

    一种光诱导抗氧阻聚飞秒激光光刻胶及制备方法

    公开(公告)号:CN111983892B

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN202010909777.5

    申请日:2020-09-02

    Abstract: 本发明公开了一种光诱导抗氧阻聚飞秒激光光刻胶及制备方法,该光刻胶包括改性富勒烯C60、活性单体、飞秒激光引发剂及溶剂。本发明在飞秒激光光刻胶体系中引入表面具有巯基的改性富勒烯C60,改性富勒烯C60可以在飞秒激光的诱导下,将飞秒激光曝光区光刻胶内的三线态氧分子转化为单线态氧分子,从而抑制三线态氧分子对活性自由基的淬灭作用,达到抗氧阻聚的作用。本发明解决飞秒激光光刻胶中三线态氧气分子对活性自由基的阻聚问题,降低飞秒激光光刻胶的聚合阈值,提高飞秒激光光刻胶的灵敏度和分辨率。

    一种高精度光刻胶组合物及其直写系统

    公开(公告)号:CN114185246B

    公开(公告)日:2022-05-06

    申请号:CN202210143737.3

    申请日:2022-02-17

    Abstract: 本发明属于光刻胶及激光直写技术领域,并公开了一种适用于飞秒激光直写的高精度光刻胶组合物,所述光刻胶组合物由单体和光引发剂。技术特征在于,所述光刻胶组合物具有双色光敏性,可以被特定波长的飞秒激光引发聚合,同时又可以被另一束连续激光抑制聚合,抑制光束减小了飞秒激光的直写区域,从而提高了飞秒激光直写精度;进一步的,所述光刻胶组合物折射率和光学系统的物镜折射率差异小于0.01,减小了激光在光刻胶中的相差或球差,从而进一步提高飞秒激光直写精度,本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体,不仅具有较高的直写精度,还有较低的直写阈值和体积收缩率。

    基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置

    公开(公告)号:CN113059807B

    公开(公告)日:2022-05-06

    申请号:CN202110293324.9

    申请日:2021-03-18

    Abstract: 本发明公开一种基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置。该方法将连续光整形及分束后,得到两束相同的准直激光光片,并对称入射在样品池中完全重叠为一个均匀光薄片,该光薄片区域引发剂被激发到活性态,通过另一束宽带光照射活性态引发剂可引发聚合反应,该宽带光从正交方向入射到光薄片,避免了聚合反应的累积效应,可获得高洁净度的刻写结构,光薄片未被宽带光照射的区域不发生聚合反应,宽带光光场结构高速切换,可进行任意结构的刻写,宽带光在活性薄片中实现时空同步聚焦,轴向功率梯度大,具有高轴向分辨率。该方法与装置可实现高洁净度高轴向分辨率的三维复杂结构高通量刻写,可应用于超分辨光刻等领域。

    基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置

    公开(公告)号:CN113059807A

    公开(公告)日:2021-07-02

    申请号:CN202110293324.9

    申请日:2021-03-18

    Abstract: 本发明公开一种基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置。该方法将连续光整形及分束后,得到两束相同的准直激光光片,并对称入射在样品池中完全重叠为一个均匀光薄片,该光薄片区域引发剂被激发到活性态,通过另一束宽带光照射活性态引发剂可引发聚合反应,该宽带光从正交方向入射到光薄片,避免了聚合反应的累积效应,可获得高洁净度的刻写结构,光薄片未被宽带光照射的区域不发生聚合反应,宽带光光场结构高速切换,可进行任意结构的刻写,宽带光在活性薄片中实现时空同步聚焦,轴向功率梯度大,具有高轴向分辨率。该方法与装置可实现高洁净度高轴向分辨率的三维复杂结构高通量刻写,可应用于超分辨光刻等领域。

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