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公开(公告)号：CN102540783A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010619281.0
申请日：2010-12-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置，包括照明光源、设置有物面标记的掩模台、物镜成像系统、工件台以及配置于所述工件台的干涉仪，其特征在于还包括设置在所述工件台上的空间像传感器，通过工件台在不同旋转、倾斜下，所述空间像传感器能够探测所述物面标记空间像时所述干涉仪的测量结果与所述工件台的设定位置或所述物面标记空间像的理论位置进行比较，拟合得出工件台干涉仪阿贝臂与余弦角。本发明还提出一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准方法。本发明的光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置及方法，利用空间像传感器进行标记测量，从而不需进行曝光、显影，对干涉仪阿贝臂和余弦角进行标定。同时还能够解决垂向干涉仪的标定问题。
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公开(公告)号：CN102540738A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010592293.9
申请日：2010-12-16
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 发明提供一种光束间不平行角度的补偿方法，该方法应用于光刻机系统，该光刻机系统包括基底台、第一方向干涉仪和与该第一方向垂直的第二方向干涉仪，包括：该基底台沿着该第一方向步进，由该第一、第二方向干涉仪同步测量，得到该第一方向干涉仪光束间不平行角度；该基底台沿着该第二方向步进，由该第一、第二方向干涉仪同步测量，得到该第二方向干涉仪光束间不平行角度；分别补偿该第一方向干涉仪和该第二方向干涉仪光束间不平行角度。本发明通过补偿干涉仪光束间的不平行角度，得到正确的长条镜面形，进而对测量位置进行面形补偿，提高基底台控位准确性，提高光刻机系统的精度。
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公开(公告)号：CN101520613A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200910047952.8
申请日：2009-03-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提出一种校准标记位置的装置与方法，用于获取标记相对于参考光栅的旋转量。该校准标记位置的装置包括：第一采集单元以及图像处理单元。第一采集单元用于采集并输出所述标记的静态图像数据。图像处理单元耦接第一采集单元，并且包括存储单元以及计算单元。存储单元，用于接收静态图像数据，并将所述标记的静态图像数据转化为数字信号。计算单元耦接存储单元，接收所述数字信号以进行计算，得到旋转量。该校准标记位置的装置及方法，可以减少由于实际标记与硅片存在旋转导致的偏差，提高了测量精度，同时省去测量硅片旋转、然后再摆正或修正的步骤，提高了生产效率，增加了产品良率。
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公开(公告)号：CN104076611B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201310100395.8
申请日：2013-03-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法，该拼接物镜分布于两列，包括：步骤一、将掩模上第一标记组移动到第一列物镜的视场中，通过掩模对准，得到掩模上第一标记组所成像的y向位置r1；步骤二、将掩模上第二标记组移动到第二列物镜的视场中，通过掩模对准，得到掩模上第二标记组所成像的y向位置r2，同时得到掩模上第二标记组的对准位置r3；步骤三、将掩模上第二标记组从第一列物镜移动到第二列物镜的视场中，得到掩模台的、y向移动a，同时得到掩模上第二标记组的对准位置r4；步骤四，将基板上第一标记组移动到基板对准系统下，得到基板上第一标记组的对准位置p1；步骤五，将基板上第二标记组移动到基板对准系统下，得到基板上第二标记组的对准位置p2；步骤六，根据上述得到的数据计算物镜可动镜片Y向平移距离dy’，以完成镜头校正。
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公开(公告)号：CN105005182A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201410171812.2
申请日：2014-04-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明公开了一种多个传感器间相互位置关系校准方法，通过掩模对准传感器和基板对准传感器测量设置在工件台基准版上的基准标记，建立掩模对准传感器与基板对准传感器之间的位置关系。具体包括，步骤1：采用掩模对准传感器对工件台基准版上的基准标记进行位置测量；步骤2：通过该基准标记上的第一标记对掩模对准传感器进行位置标定；步骤3：通过该基准标记上的第二标记对基板对准传感器进行位置标定。本发明通过掩模对准建立掩模与工件台的位置关系，再建立基板与工件台的位置关系，从而可以间接建立掩模与基板的位置关系，可以有效解决掩模、基板传感器间相互位置漂移问题，从而消除该漂移对套刻的影响。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102692820B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201110068060.3
申请日：2011-03-21
Applicant: 上海微电子装备有限公司
CPC classification number: G03F7/706 , G03F1/44 , G03F7/70633 , G03F7/70725
Abstract: 本发明公开一种测量投影物镜畸变的装置，包括掩模台及位于掩模台上的掩模版，工件台及位于工件台上的基底，该掩模版上还包括一特征标记，通过移动该掩模台及该工件台使该特征标记曝光在该基底的任意位置。本发明同时公开一种测量投影物镜畸变的方法，通过移动工件台和掩模台以得到特征图形位置的偏差。
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公开(公告)号：CN104133350A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201310158793.5
申请日：2013-05-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的对准系统，其特征在于，包括：光源模块，所述光源模块用于提供照明光束；照明模块，所述照明光束经所述照明模块并经过一数字微镜器件，所述数字微镜器件用于形成与所述对准标记匹配的参考光栅；成像模块，经过数字微镜器件的光束经过成像模块和参考光栅后入射到对准标记面，所述参考光栅受所述对准标记调制后光束发生干涉形成莫尔条纹，所述成像模块收集携带莫尔条纹的光强信号的干涉光；探测模块，探测所述莫尔条纹的光强信号并根据所述光强信号确定对准位置信息。
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公开(公告)号：CN104076611A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201310100395.8
申请日：2013-03-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法，该拼接物镜分布于两列，包括：步骤一、将掩模上第一标记组移动到第一列物镜的视场中，通过掩模对准，得到掩模上第一标记组所成像的y向位置r1；步骤二、将掩模上第二标记组移动到第二列物镜的视场中，通过掩模对准，得到掩模上第二标记组所成像的y向位置r2，同时得到掩模上第二标记组的对准位置r3；步骤三、将掩模上第二标记组从第一列物镜移动到第二列物镜的视场中，得到掩模台的、y向移动a，同时得到掩模上第二标记组的对准位置r4；步骤四，将基板上第一标记组移动到基板对准系统下，得到基板上第一标记组的对准位置p1；步骤五，将基板上第二标记组移动到基板对准系统下，得到基板上第二标记组的对准位置p2；步骤六，根据上述得到的数据计算物镜可动镜片Y向平移距离dy’，以完成镜头校正。
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公开(公告)号：CN103365107A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201210104003.0
申请日：2012-04-11
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种多离轴对准系统匹配测校方法，其特征在于，包括以下步骤：（a）执行离线测量，分别获取该多离轴对准系统中的各对准子系统的参考位置，该对准子系统包括基准离轴对准系统和非基准离轴对准系统；（b）分别利用该对准子系统对准标准基板上的对准标记，并获取该标准基板上对准标记在工件台坐标系下的位置；（c）根据该工件台坐标系下的位置，计算标准基板相对于工件台的位置关系以及该位置关系的偏差值；（d）执行正常在线对准流程，分别用该对准子系统对准基板上的标记，并获取标记的在线对准位置；（e）根据该偏差值和该参考位置，将非基准离轴对准系统获取的在线对准位置转换为基准离轴对准系统的在线对准位置，完成在线补偿。
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公开(公告)号：CN101533231A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200910048641.3
申请日：2009-03-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种离轴对准系统，用于光刻装置确定硅片与工件台的位置关系。离轴对准系统包括：沿X向和Y向放置激光干涉仪，测量离轴光轴和工件台的位置；零位传感器，放置在工件台最大运动范围的边缘，提供激光干涉仪初始化信号；离轴光学系统和其侧面的两个离轴反射面，与X、Y向分别垂直；以及工件台侧面两个工件台反射面，与X、Y轴分别垂直，所述离轴反射面和所述工件台反射面用来反射所述激光干涉仪发出的测量光束。本发明提供的离轴对准系统中加入激光干涉仪，能够实时检测离轴对准系统中离轴光轴的偏移，保证了硅片对准的精度。
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