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公开(公告)号:CN108073042B
公开(公告)日:2024-01-23
申请号:CN201711098303.1
申请日:2017-11-09
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/039
Abstract: 本发明涉及一种正型光敏树脂组合物。更具体地,本发明涉及一种具有优异的灵敏度、分辨率、图案轮廓、曝光后延迟裕度(PED margin)等,尤其是因为具有亲油性的巨大的发色团结构,对蚀刻液渗透的排斥力及耐热性优异,并且使用因含长烷基链的酸结构而容易控制酸扩散速度的光致产酸剂,从而湿法蚀刻粘合力及耐热性、分散度优异的正型光敏树脂组合物。因此,本发明的正型光敏树脂组合物能够用于显示器、半导体、微机电系统(MEMS)、电子纸(E‑paper)等伴有湿法蚀刻工艺的元件,尤其适用于薄膜晶体管液晶显示器(TFT‑LCD)、有机发光二极管(OLED)或有机薄膜晶体管(O‑TFT)等大面积高分辨率显示器。
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公开(公告)号:CN114556216A
公开(公告)日:2022-05-27
申请号:CN202080071401.X
申请日:2020-10-08
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种正型感光性树脂组合物,其包含一种或多种不同于传统苯并三唑类可交联反应的酚式羟基化合物、具有特定结构的两种反应性硅烷化合物的硅氧烷共聚物,以及具有烷氧基的UV吸收剂;此正型感光性树脂组合物可最大限度地降低残留杂质如未反应单体和催化剂,进而确保优异的面板可靠性,不仅敏感度、分辨率和平坦度等性能优异,且耐候性、紫外线吸收率也优异。
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公开(公告)号:CN112241107A
公开(公告)日:2021-01-19
申请号:CN202010692823.0
申请日:2020-07-17
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种正型感光性树脂组合物、感光性树脂膜及使用它的显示装置。根据本发明的正型感光性树脂组合物,不仅具有优异的敏感度、耐化学性、耐热性等性能,还特别大大改善了分辨率、穿透度、耐热变色性等,可以制作高亮度、高分辨率的面板。由此,在显示器中,不仅可以有效地应用于层间绝缘膜、钝化绝缘膜、闸极绝缘膜,还可以应用于平坦化膜、挡墙(Bank)、像素界定层等。
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公开(公告)号:CN111123644A
公开(公告)日:2020-05-08
申请号:CN201911054758.2
申请日:2019-10-31
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , G02F1/1333 , H01L27/32
Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物、显示器、及显示器的图案形成方法,该感光性树脂组合物包含:a)通过使不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物、含环氧基不饱和化合物和烯属不饱和化合物共聚而得的丙烯酸共聚物;b)共聚物以a、b和c的摩尔比包含化学式1至3所示的重复单元;c)1,2-醌二叠氮化合物;及d)溶剂。本发明感光性树脂组合物具有优异的分辨率、光刻工艺裕度和耐热性,且敏感度和穿透性优异,提高粘结力等。化学式1至3中,a、b和c表示各单体间的摩尔比,a为1至10的整数,b和c各自独立地或同时为0至9的整数,a+b+c=10,n为1至10的整数,R为H或CH3。
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公开(公告)号:CN104808439B
公开(公告)日:2019-12-31
申请号:CN201510036077.9
申请日:2015-01-23
Abstract: 本发明提供了光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法。光致抗蚀剂组合物包含相对于约100重量份的丙烯酰基共聚物为约0.1重量份至约30重量份的光引发剂、约1重量份至50重量份的包括至少五个官能团的第一丙烯酸酯单体、约1重量份至50重量份的包括至多四个官能团的第二丙烯酸酯单体。
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公开(公告)号:CN105190782A
公开(公告)日:2015-12-23
申请号:CN201480020441.6
申请日:2014-04-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及负型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物,根据本发明的负型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物可通过将以往的SiNx钝化(Passivation)/丙烯酸系感光性有机绝缘膜的双层结构形成为单层(layer)来实现工序简化和生产费用降低,不仅灵敏度、分辨率、工艺窗口、透明性、耐热变色性、平坦度等性能优异,尤其能够实现低电容率绝缘膜,从而能够降低耗电,并且能够消除残影、串扰(Crosstalk)和阈值电压的位移(Shift)现象。此外,由于以优异的耐热性而能够实现低脱气(Outgassing),因此能够确保优异的面板(Panel)可靠性。由此,在多种多样的显示器中不仅能够有效地用于钝化绝缘膜、栅极绝缘膜,还能够用于平坦化膜等。
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公开(公告)号:CN103995436A
公开(公告)日:2014-08-20
申请号:CN201410053044.0
申请日:2014-02-17
Abstract: 光敏树脂组合物包含:丙烯酸共聚物,其含有包括选自不饱和羧酸及不饱和羧酸酐的至少一种的第一单体,以及包括烯烃类不饱和化合物的第二单体的聚合反应产物;光敏组分,其包含选自由化学式1至化学式4表示的化合物中的至少一种1,2-二叠氮醌-5-磺酸酯化合物;偶联剂;和溶剂,其中如通过高效液相色谱法所测定,光敏组分中不对称化合物的总量大于或等于45面积百分比:其中R1是羟基或甲基,并且NQD是1,2-二叠氮醌-5-磺酰基。
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公开(公告)号:CN103052916A
公开(公告)日:2013-04-17
申请号:CN201180037435.8
申请日:2011-07-15
Applicant: 株式会社东进世美肯
CPC classification number: G03F7/032 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/037 , G03F7/0757
Abstract: 本发明涉及一种感应长波长UV的负型感光性树脂组合物,尤其涉及一种包含a)i)丙烯酸类共聚物、ii)聚酰亚胺类共聚物、iii)硅氧烷类共聚物中的单独或者混合共聚物;b)光引发剂;c)特定结构的吖啶类光敏剂(Photosensitizer)的负型感光性树脂组合物。根据本发明的负型感光性树脂组合物,其分辨率、透射率、耐热变色性、粘接力等优秀,尤其在405nm~435nm的UV长波长中敏感度优秀,因而适用于GH-line专用曝光机或者下一代数码曝光机。
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公开(公告)号:CN101319092B
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN200810110107.6
申请日:2008-06-10
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: C08L101/14 , C08L29/04 , C08K5/00 , H01L51/00 , H01L51/05 , H01L51/30 , H01L51/40 , H01L51/50 , H01L51/54 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供遮光型水溶性树脂组合物,其可以有效用作位于有机半导体膜和层间绝缘膜之间的遮光性保护膜,该遮光性保护膜用于防止有机电气元件的有机半导体膜在以与层间绝缘膜相接触的形式来形成的情况下结晶性降低的问题,以及防止对层间绝缘膜照射光时发生光氧化的问题。本发明涉及遮光型水溶性树脂组合物,特别是涉及其特征为含有a)水溶性树脂、b)水溶性染料化合物、c)溶剂的用于有机半导体保护膜的遮光型水溶性树脂组合物。
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