线性调频信号的预失真补偿方法、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN115494464A

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202211067975.7

    申请日:2022-09-01

    Abstract: 本发明公开了线性调频信号的预失真补偿方法、电子设备及存储介质,其中的方法包括:获取待补偿线性调频信号,以及待补偿线性调频信号的第一发射反馈信号和第二发射反馈信号;分别获取待补偿线性调频信号、第一发射反馈信号和第二发射反馈信号的脉冲位置信息;分别计算得到待补偿脉宽信号、第一脉宽信号和第二脉宽信号的幅度和相位;根据第一脉宽信号和第二脉宽信号的幅度计算得到待补偿脉宽信号的幅度预失真量;根据第一脉宽信号和第二脉宽信号的相角计算得到待补偿脉宽信号的相角预失真量;根据幅度预失真量和相角预失真量分别对补偿脉宽信号的幅度和相角进行补偿,得到补偿后的线性调频信号。本发明中的方法,能够减少预失真补偿的计算量。

    一种GaN基增强型MIS-HEMT器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN112713188B

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202011568133.0

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种GAN基增强型MIS‑HEMT器件,属于微电子技术领域,包括从下至上依次层叠设置的衬底、成核层、应力调控层、GaN沟道层、插入层、AlxGa1‑XN势垒层以及帽层,所述应力调控层是由AlN/AlGaN/SiNX/GaN循环生长组成,具体包括AlN晶核层、AlGaN应力控制层、网状结构SiNx薄层及GaN填平层,外延材料方面,本发明应力调控层为AlN/AlGaN/SiNX/GaN循环生长复合层,降低了材料的位错密度,提高晶格质量,从而提升器件的电子迁移率、击穿电压等特性;在器件工艺方面,凹栅槽刻蚀通过两步法刻蚀直到将AlxGa1‑xN势垒层刻蚀完,充分结合了干法刻蚀的高效率特点和湿法刻蚀的低界面损伤优势,此外,本发明的TMAH溶液有效降低由于热氧化不均匀造成的栅极凹槽界面不平整问题。

    一种GaN基增强型MIS-HEMT器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN112713188A

    公开(公告)日:2021-04-27

    申请号:CN202011568133.0

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种GAN基增强型MIS‑HEMT器件,属于微电子技术领域,包括从下至上依次层叠设置的衬底、成核层、应力调控层、GaN沟道层、插入层、AlxGa1‑XN势垒层以及帽层,所述应力调控层是由AlN/AlGaN/SiNX/GaN循环生长组成,具体包括AlN晶核层、AlGaN应力控制层、网状结构SiNx薄层及GaN填平层,外延材料方面,本发明应力调控层为AlN/AlGaN/SiNX/GaN循环生长复合层,降低了材料的位错密度,提高晶格质量,从而提升器件的电子迁移率、击穿电压等特性;在器件工艺方面,凹栅槽刻蚀通过两步法刻蚀直到将AlxGa1‑xN势垒层刻蚀完,充分结合了干法刻蚀的高效率特点和湿法刻蚀的低界面损伤优势,此外,本发明的TMAH溶液有效降低由于热氧化不均匀造成的栅极凹槽界面不平整问题。

    一种开放式电池配电管理系统

    公开(公告)号:CN109649213B

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN201811398509.0

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本发明公开一种开放式电池配电管理系统,包括电池单元、电池接口、充电接口装置、充电接触器装置、输出接触器装置、输出接口和控制装置,电池单元与电池接口连接,电池接口还与充电接触器装置和输出接触器装置连接,输出接触器装置与输出接口连接,控制装置与电池单元、充电接触器装置以及输出接触器装置连接,通过设置便携式电池能够灵活调整电池组容量,同时通过设置充电接触器装置、输出接触器装置和控制装置,能够有效地解决电池组充放电时能量释放不均衡的问题,本发明提高了电池使用寿命和电能利用率并能够灵活调整电池组容量,实现了一组或多组电池工作,同时其他组电池充电的能量管理机制。

    一种高压氮化镓功率器件结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN110890423A

    公开(公告)日:2020-03-17

    申请号:CN201911187139.0

    申请日:2019-11-28

    Abstract: 一种高压氮化镓功率器件结构及其制备方法,属于微电子技术领域,包括衬底、低温氮化铝/氮化镓成核层、氮化镓缓冲层、氮化镓沟道层、铝镓氮势垒层、漏电极、源电极、栅电极和介质层,介质层的材质为Ta2O5与SiO2复合薄膜材料,在氮化镓沟道层与铝镓氮势垒层之间形成二维电子气沟道,采用本方法形成的MIS栅极结构,其栅极漏电流更小,抗击穿电压更高。器件的栅极漏电流相比常规SiO2栅介质结构会下降20%-30%,抗击穿电压增加20%-25%,而且制造工艺简单,重复性好的特点。同时结合器件HEMT原有的高阈值电压、高击穿电压、高电流密度、以及优良的夹断特性,适用于高压大功率电子器件应用。

    一种氮化镓HEMT器件结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN110867488A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201911187312.7

    申请日:2019-11-28

    Abstract: 一种氮化镓HEMT器件结构及其制备方法,属于微电子技术领域,包括衬底、低温铝镓氮成核层、氮化镓缓冲层、氮化镓沟道层、铝镓氮势垒层、漏电极、源电极、栅电极和介质层,介质层的材质为Ta2O5与Al2O3复合薄膜材料,在氮化镓沟道层与铝镓氮势垒层之间形成二维电子气沟道,采用本方法形成的MIS栅极结构,其栅极漏电流更小,抗击穿电压更高。器件的栅极漏电流相比常规Al2O3栅介质结构会下降20%-30%,抗击穿电压增加20%-25%,而且制造工艺简单,重复性好的特点。同时结合器件HEMT原有的高阈值电压、高击穿电压、高电流密度、以及优良的夹断特性,适用于高压大功率电子器件应用。

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