公开(公告)号：CN201121209Y

公开(公告)日：2008-09-24

申请号：CN200720032642.5

申请日：2007-08-31

Applicant: 西安电子科技大学

Inventor： 杨银堂 ,  周端 ,  柴常春 ,  李跃进 ,  刘毅 ,  汪家友 ,  付俊兴 ,  俞书乐 ,  吴振宇

IPC: C23C16/511 ,  C23C16/52

Abstract: 本实用新型公开了一种等离子体化学气相淀积装置，该装置包括微波功率源及传输部件101、微波谐振腔体102、工艺室与样品台部件103、真空部件104、气路部件105、自动传片部件106、控制部件107，其中，微波谐振腔体内设有等间隔排列的磁场装置306，样品台部件设在工艺室内部，微波谐振腔体、真空部件、自动传片部件分别与工艺室809相连，微波功率源及传输部件与微波谐振腔体相连，控制部件通过接口分别控制微波功率源及传输部件、工艺室与样品台部件、真空部件、气路部件的工作状态，完成薄膜的淀积工艺过程。本实用新型具有大面积均匀性好、淀积速率高、自动化程度和生产效率高、可靠性好、功耗小、稳定性和重复性好的优点，可用作制备微电子薄膜的设备。