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公开(公告)号：CN103941319A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410154633.8
申请日：2014-04-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法，制作步骤如下：（1）制备全息凹面光栅掩模；（2）在全息凹面光栅掩模上沉积金属层；（3）在所述金属层上涂布粘合剂；（4）将与凸模连接的金属层和所述全息凹面光栅掩模分离，清洗，获得凸面金属光栅掩模；（5）测量所述凸面金属光栅掩模的栅齿结构，获得栅齿占空比信息；采用电铸或镀膜的方式以及化学腐蚀或离子刻蚀的方式调节栅齿的占空比；（6）采用离子束刻蚀凸面金属光栅掩模，使凸面金属光栅掩模转变成三角形闪耀结构，得到全息凹面闪耀光栅的母板。本发明将凹面光栅掩模结构转移到凸面金属层上，金属层柔韧性好，光栅槽型结构转移精度高，不易开裂变形，耐用性好。
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公开(公告)号：CN101726779B
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200910231737.3
申请日：2009-12-03
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到全息双闪耀光栅。本发明实现了全息双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101799569A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010126045.5
申请日：2010-03-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到凸面双闪耀光栅。本发明实现了凸面双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101382611B
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200810155639.1
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN101382611A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810155639.1
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108761603B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201810495948.7
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明属于信息光学领域，涉及一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题，使用体布拉格光栅‑1级透射衍射效率作为平行光的判断标准，可以较为精确的确定针孔滤波器与准直透镜之间的距离，准确的将针孔滤波器的小孔放置在准直透镜的物方焦点上，从而实现干涉光路的准直；此外该系统有助于实现对曝光光束平行性的实时监控，配合PZT平移台还可以实现对平行光的锁定，从而提高了平行等间距条纹的全息光栅的拍摄质量。
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公开(公告)号：CN107421464B
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201710609100.8
申请日：2017-07-25
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种用于表面形貌测量的高精度干涉型双位相光栅位移传感器，它包括激光器、反射型柱面全息位相光栅、对称设置的两个平面反射镜、线密度为反射型柱面全息位相光栅线密度的两倍的参考平面光栅、对称设置的两个光电探测器、分别与两个光电探测器相连接的两个信号处理装置、一端与反射型柱面全息位相光栅相连接的测量杠杆、与测量杠杆的另一端相连接且与待测工件的表面相接触的触针；反射型柱面全息位相光栅并产生衍射角为θ的±1级衍射光，经过两个平面反射镜反射后入射至参考平面光栅上的同一光栅区域并分别在±θ角方向产生两组不同级次的衍射光的干涉条纹，分别由两个光电探测器接收并转换为电信号发送至信号处理装置进行处理。
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公开(公告)号：CN108761602A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810494570.9
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明属于信息光学领域，涉及一种全息光栅光刻系统中干涉光路自准直的调节方法，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题，在准直透镜的后方放置体布拉格光栅，曝光光束入射至体布拉格光栅的入射角等于所述体布拉格光栅的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅后的‑1级透射衍射光路上放置光电探测器；沿着光轴前后移动针孔滤波器，实时观察光电探测器的读数，当光电探测器的读数最大时，固定针孔滤波器并且保持第一针孔滤波器与第一准直透镜间距恒定；本发明提出了一种自准直光路的调节方法，用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。
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公开(公告)号：CN108318954A
公开(公告)日：2018-07-24
申请号：CN201810312061.X
申请日：2018-04-09
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明属于信息光学领域，涉及一种宽光束扫描曝光系统与方法，为解决制作米级光栅曝光时间过长引起的时效性差以及环境不确定性导致扫描条纹对比度下降问题，采用干涉条纹扫描技术无缝连续拼接光栅；在扫描曝光过程中，运用多维条纹锁定技术，始终以扫描曝光过的潜像光栅的潜像条纹作为锁定条纹，直至扫描曝光结束；在移动曝光中实现了实时闭环的锁定第一曝光光束与第二曝光光束的相位差，条纹周期、以及第一曝光光束与第二曝光光束夹角，从而在一个扫描周期即可获得高质量的且受环境因素影响小的无缝拼接米级光栅；光束整形压缩柱面系统的使用有效增加了光束的利用率，同时保证光束的波面质量，大大缩短了米量级光栅的制备时间。
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公开(公告)号：CN103941319B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201410154633.8
申请日：2014-04-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法，制作步骤如下：（1）制备全息凹面光栅掩模；（2）在全息凹面光栅掩模上沉积金属层；（3）在所述金属层上涂布粘合剂；（4）将与凸模连接的金属层和所述全息凹面光栅掩模分离，清洗，获得凸面金属光栅掩模；（5）测量所述凸面金属光栅掩模的栅齿结构，获得栅齿占空比信息；采用电铸或镀膜的方式以及化学腐蚀或离子刻蚀的方式调节栅齿的占空比；（6）采用离子束刻蚀凸面金属光栅掩模，使凸面金属光栅掩模转变成三角形闪耀结构，得到全息凹面闪耀光栅的母板。本发明将凹面光栅掩模结构转移到凸面金属层上，金属层柔韧性好，光栅槽型结构转移精度高，不易开裂变形，耐用性好。
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