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公开(公告)号：CN101726779B
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200910231737.3
申请日：2009-12-03
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到全息双闪耀光栅。本发明实现了全息双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101799569A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010126045.5
申请日：2010-03-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到凸面双闪耀光栅。本发明实现了凸面双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN115817988B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310136214.0
申请日：2023-02-20
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种光学元件保存装置及机构，包括底座，其表面设有第一凹槽，所述第一凹槽内设有第二凹槽，沿所述第二凹槽的内壁设有凸台，待保存光学元件置放在所述凸台上；盖体单元，其包括上盖和压块，所述上盖内设有第三凹槽，所述第三凹槽内设有第四凹槽，所述压块设置在所述第四凹槽内，所述压块和第四凹槽活动连接，所述压块在所述底座上的投影面积大于所述第一凹槽的截面面积，所述上盖和底座可拆卸连接。本发明的光学元件保存装置结构简单，便于携带，并且能够稳定地对光学元件进行保存和运输，同时还可以实现消能及减震，从而最大程度的保护光学元件，避免光学元件的表面受到损伤。
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公开(公告)号：CN115817988A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202310136214.0
申请日：2023-02-20
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种光学元件保存装置及机构，包括底座，其表面设有第一凹槽，所述第一凹槽内设有第二凹槽，沿所述第二凹槽的内壁设有凸台，待保存光学元件置放在所述凸台上；盖体单元，其包括上盖和压块，所述上盖内设有第三凹槽，所述第三凹槽内设有第四凹槽，所述压块设置在所述第四凹槽内，所述压块和第四凹槽活动连接，所述压块在所述底座上的投影面积大于所述第一凹槽的截面面积，所述上盖和底座可拆卸连接。本发明的光学元件保存装置结构简单，便于携带，并且能够稳定地对光学元件进行保存和运输，同时还可以实现消能及减震，从而最大程度的保护光学元件，避免光学元件的表面受到损伤。
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公开(公告)号：CN115657183A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211453036.6
申请日：2022-11-21
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种全息曝光‑湿法刻蚀中阶梯光栅的制备方法，包括：将单晶硅棒作为基底，根据所需光栅闪耀角对基底进行斜切处理，生长钝化层和旋涂光刻胶层，对光刻胶层进行全息曝光显影，用莫尔条纹使干涉条纹与基底表面特定晶向平行，提高对准精度；利用灰化技术去除残胶，增大湿法刻蚀窗口，提升湿法刻蚀效率；对灰化处理后基底进行反应离子刻蚀和湿法刻蚀，去除表面光刻胶层和钝化层得到梯形平台光栅，多次氧化沟槽表面的硅再去除氧化层以逐步减小梯形平台，直至出现尖角，提升中阶梯光栅的衍射效率。本发明将全息曝光与湿法刻蚀结合，降低中阶梯光栅的制备成本，并且制备的中阶梯光栅具有无鬼线、低杂散光、闪耀角准确、衍射效率高的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110302539B
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN201910716808.2
申请日：2019-08-05
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种游戏策略计算方法、装置、系统及计算机可读存储介质，该方法包括：预先采用多个历史游戏样本图像，建立基于评估网络最大动作值和最小动作值权重的游戏策略深度双Q网络模型；采用游戏策略深度双Q网络模型对目标游戏的多个图像进行分析，得到最优评估网络参数；依据最优评估网络参数计算出与目标游戏中每个情节中的每个状态分别对应的各个目标动作值；依据与每个情节中的每个状态分别对应的各个目标动作值得到与目标游戏对应的游戏策略，本发明在使用过程中能够得出最优的游戏策略，有助于提升用户的游戏体验。
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公开(公告)号：CN111065968B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201880004942.3
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 公开了一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法，属于信息光学领域，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题。全息光栅光刻系统中，在准直透镜(9,10)的后方放置体布拉格光栅(13,16)的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅(13,16)后的‑1级透射衍射光路上放置光电探测器(14,15)。全息光栅光刻系统干涉光路自准直的调节方法包括沿着光轴前后移动针孔滤波器(7,8)，实时观察光电探测器(14,15)的读数，当光电探测器(14,15)的读数最大时，固定针孔滤波器(7,8)并且保持第一针孔滤波器(7)与第一准直透镜(9)间距恒定。利用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。
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公开(公告)号：CN110302539A
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201910716808.2
申请日：2019-08-05
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种游戏策略计算方法、装置、系统及计算机可读存储介质，该方法包括：预先采用多个历史游戏样本图像，建立基于评估网络最大动作值和最小动作值权重的游戏策略深度双Q网络模型；采用游戏策略深度双Q网络模型对目标游戏的多个图像进行分析，得到最优评估网络参数；依据最优评估网络参数计算出与目标游戏中每个情节中的每个状态分别对应的各个目标动作值；依据与每个情节中的每个状态分别对应的各个目标动作值得到与目标游戏对应的游戏策略，本发明在使用过程中能够得出最优的游戏策略，有助于提升用户的游戏体验。
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公开(公告)号：CN105740644B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201610171859.8
申请日：2016-03-24
Applicant: 苏州大学
IPC: G06F19/00
CPC classification number: G05D1/02
Abstract: 本发明公开了一种基于模型学习的清洁机器人最优目标路径规划方法，针对目前市场中清洁机器人效率不高的问题，在Dyna‑H算法的基础上，提出一种基于自模拟度量和R‑MAX的Dyna算法，该路径规划方法可驱动机器人优先处理垃圾可能最多的地点，以强化学习框架和Dyna‑H算法为基础，使用R‑MAX算法中的探索机制，在状态间距离的度量方法上，使用自模拟度量改进Dyna‑H中的欧式距离度量方法，从而提高模型的学习效率。本发明的优点是模型学习效率较高，适用确定环境和随机环境，在复杂的环境下能够较为高效地使机器人快速得到较为准确的环境模型，以规划出到达垃圾最多地点的最优路径。
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公开(公告)号：CN105690392B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201610232236.7
申请日：2016-04-14
Applicant: 苏州大学
IPC: B25J9/16
Abstract: 本发明公开了一种基于行动者‑评论家方法的机器人运动控制方法和装置，控制方法包括：采集视频数据，获得当前机器人的位置信息、障碍物分布信息，给定目的地信息；以机器人所在的位置作为机器人的状态，机器人的运动方向作为动作；进行状态迁移；计算离策略因子；更新近似平均奖赏值与近似平均平方奖赏值；计算当前的平均奖赏时间差分与平均平方奖赏时间差分；进行近似平均奖赏参数的迭代更新以及近似平均平方奖赏参数的迭代更新；进行近似平均奖赏的梯度的计算，近似平均平方奖赏的梯度的计算以及策略参数的更新；状态动作更替。重复以上步骤，直到策略参数收敛，实现机器人的运动控制。本发明实现了机器人的智能运动控制，控制结果稳定。
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