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公开(公告)号：CN119270597A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411804136.8
申请日：2024-12-10
Applicant: 浙江大学
Abstract: 基于双光子与受激辐射损耗效应的超分辨激光直写与成像方法和装置，其方法包括：在光刻胶中加入光引发剂，利用其双光子吸收效应与受激损耗效应，实现双光子STED高精度微纳结构激光直写；同时，利用其本身的荧光发光特性，利用其双光子吸收特性和受激损耗（STED）特性，对所刻写的结构进行双光子STED超分辨显微成像。本发明利用引发剂的双光子与STED效应，可同时实现超分辨刻写与成像，简化了光刻胶的成分。此外，在刻写与成像中可分别利用相同的激发光与损耗光，因此可在一个光学系统中同时实现高精度刻写与超分辨成像，通过刻写与成像的激发光和损耗光光路进行复用，可有效简化系统复杂性。
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公开(公告)号：CN116540504B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202310807886.X
申请日：2023-07-04
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统，属于超精密光学成像与刻写技术领域，包括光源与刻写模块，其中光源为连续谱光源；光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块；光束调节组件包括滤波模块，和能量调节模块或波相差调节模块中的一种或串联设置的两种组合。与现有技术相比，本发明提供一种多路单独滤波及调制的光源调制光路，可同时实现多通道不同波长的光束调制，多光束可互相配合，通过不同轴汇合或同轴重合方式，实现多通道超分辨光刻或基于边缘抑制的超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN114442257B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202210087665.5
申请日：2022-01-25
Abstract: 本发明公开了一种大范围高精度光束焦面跟踪装置，入射光束首先依次经过所述二分之一波片、偏振分束镜和四分之一波片，形成第一光束；第一光束经过所述物镜聚焦在样品表面，而聚焦在样品表面的激光被样品表面反射，依次经过物镜与四分之一波片后，被偏振分束镜反射到另一侧，形成第二光束；第二光束经过非偏振分束镜分解为第三光束与第四光束；第三光束经过所述第一柱面镜和第二柱面镜后，入射到所述四象限探测器的探测面上；第四光束经过所述透镜和针孔后，入射到所述光电倍增管探测器的探测面上。本发明与现有焦面跟踪装置相比，既可以保证高精度，又极大的扩展了焦面跟踪的范围。
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公开(公告)号：CN113985708B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111247035.1
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置。本发明利用空间光调制器产生多束刻写光与多束抑制光，抑制光与刻写光在空间上重合形成调制后的多光束。利用像旋转器对调制后的多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明通过引入抑制光，相较于现有双光子并行激光直写具有更高的分辨率。并通过不同的扫描策略，解决了现有系统由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。
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公开(公告)号：CN113917761B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202111114356.4
申请日：2021-09-23
Abstract: 本发明公开了一种基于角度无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括反射镜、中空回射器、纳米位移台、三角棱镜、声光偏转器、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明利用了基于声光偏转器的非机械式的控制方法替代以往系统中机械控制方式，避免惯性误差的影响，减小环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率(可以达到1MHz以上)的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117031891A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311112422.3
申请日：2023-08-31
Abstract: 本发明涉及一种激光直写系统及激光直写方法，包括激发光源、抑制光源、微镜阵列和位移台，所述微镜阵列包括阵列排布的至少两个微镜，所述微镜具有第一角度状态和第二角度状态；所述激发光源通过处于第一角度状态的所述微镜照射至所述位移台处，以形成刻写图案，所述抑制光源通过处于第二角度状态的所述微镜照射至所述位移台处，以形成抑制光斑，所述抑制光斑位于所述刻写图案的边界处。
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公开(公告)号：CN116661253A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310467568.3
申请日：2023-04-25
Abstract: 本申请涉及一种矢量三维灰度激光直写光刻方法、装置及系统。方法包括：基于待刻写结构的二维灰度图生成若干组三维灰度刻写数据；每一组三维灰度刻写数据表示一个拼接单元；将每组三维灰度刻写数据转化为矢量刻写数据和扫描位置数据；将矢量刻写数据输出至高速光调制器件控制刻写激光的强度，将扫描位置数据输出至扫描器件控制刻写激光的扫描位置，直到完成对所有拼接单元的刻写。采用本方法能够实现矢量刻写控制，回避非必要区域刻写，有效提高刻写效率，并将传统的层切数据替换为灰度层切数据，解决了逐层刻写过程中层与层之间的台阶问题。
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公开(公告)号：CN115996515B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310277812.X
申请日：2023-03-21
Abstract: 本申请涉及一种电路板和转接器。电路板包括基板、接口组和连接器。基板包括堆叠设置的布线层、第一接地层和第二接地层；所述布线层包括上布线层和下布线层；所述第一接地层和所述第二接地层设置于所述上布线层和所述下布线层之间；所述第一接地层靠近所述上布线层设置；所述第二接地层靠近所述下布线层设置；所述第一接地层与所述第二接地层共用接地端；接口组设置于所述上布线层，用于与输入设备和输出设备连接；所述接口组包括多个与所述布线层电连接的信号接口；连接器设置于所述下布线层，用于与处理器连接；所述连接器与所述布线层电连接；所述信号接口通过所述布线层与所述连接器电连接。
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公开(公告)号：CN116382043A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310399542.X
申请日：2023-04-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备。所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台，所述方法包括：确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系；基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压与刻写长度的第二关系；基于所述第二关系对待刻写文件进行刻写。本申请通过确定振镜电压与刻写长度的第二关系，可以在刻写前直接确定当前刻写环境中的最佳系统参数，根据需要刻写的长度精确控制振镜电压，有效提高实际刻写长度的精确度，解决了多视场刻写可能存在的拼接错位问题，无论是在单视场范围内刻写还是大面积刻写的应用场景都能够有效提高刻写准确率，进而提高刻写成功率。
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公开(公告)号：CN114415482B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210324232.7
申请日：2022-03-30
Abstract: 本发明公开了一种基于振镜的超分辨激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：获取待刻写数据和基于振镜的超分辨激光直写系统的单次扫描范围；根据所述单次扫描范围，将所述待刻写数据分割为若干个子数据；根据全局坐标系，对所述子数据进行旋转，得到旋转数据；获取振镜的X极性和Y极性；根据所述X极性和Y极性，对所述旋转数据进行翻转，得到翻转数据；对所述翻转数据之间的拼接重合区域进行拟合，得到刻写数据；根据所述刻写数据，利用基于振镜的超分辨激光直写系统进行刻写。该方法解决振镜与全局坐标系之间存在角度偏差、振镜X/Y轴向与全局坐标轴向不一致和拼接刻写均匀性不一致的问题。
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