叠层体、金属镀敷液和叠层体的制造方法

    公开(公告)号:CN115362060A

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN202080099280.X

    申请日:2020-10-07

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种不含6价铬的、耐腐蚀性和耐磨损性优异的叠层体以及叠层体的制造方法。为了解决上述技术问题,本发明所涉及的叠层体的特征在于:包括基材和将两层以上的金属覆膜叠层而成的覆膜叠层部,在相邻的金属覆膜之间具有界面层,覆膜叠层部含有第一金属元素和第二金属元素,该第一金属元素以Ni、Cr、Co、W中的至少一种元素为主要成分,该第二金属元素是内聚能比第一金属元素小的金属元素,界面层所含的第二金属元素的含有比大于相邻的金属覆膜所含的第二金属元素的含有比。

    磁再现头、磁头以及磁存储装置

    公开(公告)号:CN101465126B

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN200810184330.5

    申请日:2008-12-10

    Inventor: 岩崎富生

    Abstract: 本发明提供一种磁再现头、磁头以及磁存储装置。如果磁阻效应膜的轨道宽度小于等于50nm,则有时产生检测电流的泄漏。上述磁再现头防止这样的检测电流的泄漏,且可靠性以及成品率高。磁再现头(10)具备:下部磁屏蔽层(4);上部磁屏蔽层(2);形成在下部磁屏蔽层与上部磁屏蔽层之间的磁阻效应膜(30);被配置成与磁阻效应膜的浮动面的相反一侧的壁面相接的元件高度方向填充膜(6);以及配置在磁阻效应膜(30)的侧壁面上的轨道宽度方向的填充膜(1)。磁阻效应膜(30)是具备自由层(36)、绝缘阻挡层(34)、固定层(32)的隧道磁阻效应膜,绝缘阻挡层(34)是含有氮和硅中的至少一方的镁氧化膜、铝氧化膜、钛氧化膜中的任意一个。

    垂直磁记录介质和磁记录装置

    公开(公告)号:CN100356451C

    公开(公告)日:2007-12-19

    申请号:CN200510087477.9

    申请日:2005-07-22

    CPC classification number: G11B5/7325

    Abstract: 本发明的第一个课题是提供信赖度高的垂直磁记录介质。本发明的第二个课题是提供功能良好的垂直磁记录介质。另外,本发明的第三个课题是提供信赖度高的磁记录装置。本发明的第四个课题是提供功能良好的磁记录装置。在具备基板、在上述基板的一主面侧形成的软磁性基底膜、与上述软磁性基底膜接触形成的非磁性膜、与上述非磁性膜接触形成的中间膜、与上述中间膜接触形成的垂直记录层的垂直磁记录介质中,上述中间膜含有使表面平坦性提高的添加元素。

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