-
公开(公告)号：CN101118798A
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200710139082.8
申请日：2007-07-24
Applicant: 株式会社日立制作所 , 株式会社日立工程·并且·服务
IPC: H01F6/00 , G01R33/3815
CPC classification number: G01R33/3815 , G01R33/3804 , G01R33/3806 , G01R33/3873
Abstract: 本发明的目的是提供这样一种超导磁铁装置：即使对于干扰不增加磁性材料的体积，也能得到高的磁场均匀度。超导磁铁装置(2)，具有：发生磁场的环状的超导线圈(11)；把超导线圈(11)和冷却介质(14)一起收纳的线圈容器(9)；被设置成包围线圈容器(9)的热屏蔽(8)；包围热屏蔽(8)、并保持内部真空的真空容器(3)；和在真空容器(3)中设置的修正磁场用的磁性材料(12)、(13)；磁性材料(12)、(13)被支持在线圈容器(9)内固定的绝热性的支持体(15)上。
-
公开(公告)号：CN101030471A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710004294.5
申请日：2007-01-22
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3806 , G01R33/3815
Abstract: 本发明提供一种还可使远离超导线圈而设置的强磁性体磁饱和并减少因磁不饱和引起的强磁性体的磁化不均匀、可缩短均匀磁场调节所需作业时间的电磁铁装置。在一种通过隔着均匀磁场区域(4)而相对的一对超导主线圈(6)、隔着均匀磁场区域(4)而相对并流有与超导主线圈(6)相反电流的一对超导屏蔽线圈(7)以及隔着均匀磁场区域(4)而相对且外周为圆形的一对第一强磁性体(23)，从而在均匀磁场区域(4)中形成均匀磁场的电磁铁装置中，其特征在于，还具有一对第二强磁性体(34)，它们配置成隔着均匀磁场区域(4)而相对并与第一强磁性体(23)的均匀磁场区域(4)侧的相反侧相接或邻近且外周为比第一强磁性体(23)的圆形直径(d2、d4)大的圆形。
-
公开(公告)号：CN1758068A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510112518.5
申请日：2005-09-30
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G01R33/38
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3806 , G01R33/3815 , G01R33/421
Abstract: 本发明的磁共振成像装置的超导电磁铁装置能减小配置在超导主线圈和超导屏蔽线圈间的强磁性体磁化特性的偏差影响。磁共振成像装置的超导电磁铁装置具备：一对超导主线圈(7)，在一对超导主线圈的轴上离开超导主线圈并设于与观察区域相反侧的一对超导屏蔽线圈(8)，在从超导主线圈的空心部至超导屏蔽线圈的空心部的空间的一部分上配置的强磁性体(14)，上述超导屏蔽线圈的外径做成比上述超导主线圈的外径大，上述强磁性体同轴配置形成多个轴对称的强磁性体构件(15、16、17)，而且，除了轴心部外，由于在径向的至少一部分具有空间部，因而易于使强磁性体构件(15、16、17)磁饱和，使强磁性体磁化特性的偏差的影响变小。
-
公开(公告)号：CN107205687B
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN201680004608.9
申请日：2016-02-10
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055 , G01R33/3873
Abstract: 为了提供一种能够在磁场均匀度调整中减少磁性体片的配置量，且能够高精度地达成期望的磁场均匀度的静磁场均匀度调整方法，对于通过磁场产生装置产生的摄像空间中的静磁场，通过匀场计算来计算多个磁性体片从所述摄像空间离开的位置，将所述多个磁性体片配置在通过该匀场计算得到的位置，从而调整所述摄像空间中的静磁场均匀度，该方法的特征在于，包括：调整步骤，在所述匀场计算时，施加使配置于所述位置的所述磁性体片在所述摄像空间生成的磁场分布的极性为正负中的任一者这样的制约，来调整所述静磁场均匀度。
-
公开(公告)号：CN107249453A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201680011178.3
申请日：2016-02-19
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 提供一种匀场方法，在该匀场方法中，根据磁场测量值假定虚拟地配置且包围测量位置的电流面，通过电流电位再现能够再现测量磁场的电流分布(或磁矩分布)，并包含该再现的该磁场分布。在预先确定好的闭合曲面上推定对由磁场测量装置取得的磁场分布进行再现那样的磁矩或者电流分布，根据所推定的所述磁矩或者电流分布推定在所述闭合曲面内存在的任意点的磁场分布。并且，基于所推定的所述磁场分布，输出产生用于修正所述任意点的磁场分布的匀场磁性体的分布。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107205688A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680007258.1
申请日：2016-01-27
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 本发明的特征在于，测量具备磁场调整机构的磁场发生装置内的预先决定的评价区域的磁场分布，上述磁场调整机构通过配置磁矩来调整静磁场，计算上述测量出的磁场分布与上述评价区域的预先决定的目标磁场强度的差即误差磁场分布，在将上述误差磁场分布分解为通过奇异值分解得到的由上述磁场发生装置产生的磁场的各固有模式的成分时，将上述固有模式中的低次模式的成分的修正与高次模式的成分的修正进行组合，来进行用于对上述误差磁场分布近似地进行修正的上述磁矩的配置的计算，上述低次模式为按照奇异值从大到小的顺序向各固有模式赋予的固有模式编号从第1固有模式编号至通过第一阈值确定的固有模式编号为止的固有模式群，上述高次模式为比上述第一阈值大的固有模式群，上述高次模式的成分的修正量小于上述低次模式的成分的修正量。
-
公开(公告)号：CN107205687A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680004608.9
申请日：2016-02-10
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055 , G01R33/3873
Abstract: 为了提供一种能够在磁场均匀度调整中减少磁性体片的配置量，且能够高精度地达成期望的磁场均匀度的静磁场均匀度调整方法，对于通过磁场产生装置产生的摄像空间中的静磁场，通过匀场计算来计算多个磁性体片从所述摄像空间离开的位置，将所述多个磁性体片配置在通过该匀场计算得到的位置，从而调整所述摄像空间中的静磁场均匀度，该方法的特征在于，包括：调整步骤，在所述匀场计算时，施加使配置于所述位置的所述磁性体片在所述摄像空间生成的磁场分布的极性为正负中的任一者这样的制约，来调整所述静磁场均匀度。
-
公开(公告)号：CN101493505B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200910005966.3
申请日：2009-01-22
IPC: G01R33/387 , G01R33/3815 , A61B5/055
CPC classification number: H01F6/04 , G01R33/3804 , G01R33/3806 , G01R33/3815
Abstract: 本发明提供相对于经长时间的室温变化也能将磁性材料的温度变化抑制得较小且减少磁场均匀度的变化，另一方面还能在短时间内改变磁性材料的温度的超导磁铁装置。在具有产生磁场的环状的超导线圈(11a、11b)，与制冷剂(14)一起容纳超导线圈(11a、11b)的线圈容器(9)，包围线圈容器且内部保持为真空的真空容器(3)，及设置在真空容器内侧并由线圈容器绝热地支撑且对磁场进行补偿的磁性材料(12a、12b、13a、13b)的超导磁铁装置(2)中，具有：设置在真空容器外侧且与真空容器热连接并供给或吸收热的第一热供给吸收部(44)；及设置在真空容器内侧且与真空容器和磁性材料热连接的第一导热材料(25、27)。
-
公开(公告)号：CN102665542A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080053192.2
申请日：2010-11-24
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3875
Abstract: 将测量出的误差磁场分布分解为通过奇值分解得到的固有模式成分，将与各模式对应的铁片配置进行组合，配置在垫片盘上。通过到达可能的磁场精度（均一度）和铁片配置量的适当性来选择要进行修正的固有模式。能够一边把握能够达到的磁场精度（均一度）一边进行调整，因此能够把握错误的调整，此外在重复调整的过程中，能够自动地进行修正。通过实施例1和实施例2的方法、内置有该方法的装置的支援，进行磁场调整时，可靠地在重复进行磁场调整的作业中结束。其结果能够提供磁场精度良好的装置。此外，通过调查到达可能均一度，能够较早地检测不良的磁铁。能够在作为开放型MRI的垂直磁场型的磁铁装置以及水平磁场型MRI的磁铁装置中应用。
-
公开(公告)号：CN101118798B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200710139082.8
申请日：2007-07-24
Applicant: 株式会社日立制作所 , 株式会社日立工程服务
IPC: H01F6/00 , G01R33/3815
CPC classification number: G01R33/3815 , G01R33/3804 , G01R33/3806 , G01R33/3873
Abstract: 本发明的目的是提供这样一种超导磁铁装置：即使对于干扰不增加磁性材料的体积，也能得到高的磁场均匀度。超导磁铁装置(2)，具有：发生磁场的环状的超导线圈(11)；把超导线圈(11)和冷却介质(14)一起收纳的线圈容器(9)；被设置成包围线圈容器(9)的热屏蔽(8)；包围热屏蔽(8)、并保持内部真空的真空容器(3)；和在真空容器(3)中设置的修正磁场用的磁性材料(12)、(13)；磁性材料(12)、(13)被支持在在线圈容器(9)内固定的绝热性的支持体(15)上。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
33
records
(took 0.022 seconds)
