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公开(公告)号：CN108261198B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201711085299.5
申请日：2017-11-07
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 本发明提供一种磁共振成像装置、低温系统的控制装置、以及低温系统的控制方法。表示第1实施方式的氦容器内的压力的时间变化的图表。提供一种MRI装置，该MRI装置具有：超导磁铁，其具备制冷剂容器和超导线圈；低温系统，其配置于超导磁铁；以及控制部，其对低温系统的动作进行控制。低温系统具备：冷头，其配置于制冷剂容器；冷冻机；压缩机，其向冷冻机供给压缩后的气体；检测部，其对制冷剂容器内的压力进行检测。对压缩机预先设定了预定期间内的可停止次数的上限值。控制部以如下方式进行控制：在检测部所检测到的压力成为预定的上限值以下的范围内，使压缩机断续地停止，并使压缩机的预定期间内的停止次数成为可停止次数的上限值。
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公开(公告)号：CN107205688B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201680007258.1
申请日：2016-01-27
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 本发明的特征在于，测量具备磁场调整机构的磁场发生装置内的预先决定的评价区域的磁场分布，上述磁场调整机构通过配置磁矩来调整静磁场，计算上述测量出的磁场分布与上述评价区域的预先决定的目标磁场强度的差即误差磁场分布，在将上述误差磁场分布分解为通过奇异值分解得到的由上述磁场发生装置产生的磁场的各固有模式的成分时，将上述固有模式中的低次模式的成分的修正与高次模式的成分的修正进行组合，来进行用于对上述误差磁场分布近似地进行修正的上述磁矩的配置的计算，上述低次模式为按照奇异值从大到小的顺序向各固有模式赋予的固有模式编号从第1固有模式编号至通过第一阈值确定的固有模式编号为止的固有模式群，上述高次模式为比上述第一阈值大的固有模式群，上述高次模式的成分的修正量小于上述低次模式的成分的修正量。
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公开(公告)号：CN107205689B
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201680007259.6
申请日：2016-01-27
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055 , G01R33/3873
Abstract: 即使在垫片托盘的各位置可配置的磁性体片的量具有限制，也可达成高的磁场均匀度，为此测量静磁场发生装置生成的静磁场的分布，计算静磁场的分布与目标磁场之间的误差磁场，一边使目标磁场在预定的磁场范围内变化，一边分别计算在垫片托盘的多个位置中的一个以上的位置配置了磁性体片时可达到的磁场均匀度。选择垫片托盘的各位置的磁性体片的量为预定的上限值以下且可达到的磁场均匀度为预定值以下的目标磁场，在垫片托盘中配置与该目标磁场相对应的磁性体片的量。
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公开(公告)号：CN107205687B
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN201680004608.9
申请日：2016-02-10
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055 , G01R33/3873
Abstract: 为了提供一种能够在磁场均匀度调整中减少磁性体片的配置量，且能够高精度地达成期望的磁场均匀度的静磁场均匀度调整方法，对于通过磁场产生装置产生的摄像空间中的静磁场，通过匀场计算来计算多个磁性体片从所述摄像空间离开的位置，将所述多个磁性体片配置在通过该匀场计算得到的位置，从而调整所述摄像空间中的静磁场均匀度，该方法的特征在于，包括：调整步骤，在所述匀场计算时，施加使配置于所述位置的所述磁性体片在所述摄像空间生成的磁场分布的极性为正负中的任一者这样的制约，来调整所述静磁场均匀度。
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公开(公告)号：CN107249453A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201680011178.3
申请日：2016-02-19
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 提供一种匀场方法，在该匀场方法中，根据磁场测量值假定虚拟地配置且包围测量位置的电流面，通过电流电位再现能够再现测量磁场的电流分布(或磁矩分布)，并包含该再现的该磁场分布。在预先确定好的闭合曲面上推定对由磁场测量装置取得的磁场分布进行再现那样的磁矩或者电流分布，根据所推定的所述磁矩或者电流分布推定在所述闭合曲面内存在的任意点的磁场分布。并且，基于所推定的所述磁场分布，输出产生用于修正所述任意点的磁场分布的匀场磁性体的分布。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107205688A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680007258.1
申请日：2016-01-27
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 本发明的特征在于，测量具备磁场调整机构的磁场发生装置内的预先决定的评价区域的磁场分布，上述磁场调整机构通过配置磁矩来调整静磁场，计算上述测量出的磁场分布与上述评价区域的预先决定的目标磁场强度的差即误差磁场分布，在将上述误差磁场分布分解为通过奇异值分解得到的由上述磁场发生装置产生的磁场的各固有模式的成分时，将上述固有模式中的低次模式的成分的修正与高次模式的成分的修正进行组合，来进行用于对上述误差磁场分布近似地进行修正的上述磁矩的配置的计算，上述低次模式为按照奇异值从大到小的顺序向各固有模式赋予的固有模式编号从第1固有模式编号至通过第一阈值确定的固有模式编号为止的固有模式群，上述高次模式为比上述第一阈值大的固有模式群，上述高次模式的成分的修正量小于上述低次模式的成分的修正量。
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公开(公告)号：CN107205687A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680004608.9
申请日：2016-02-10
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055 , G01R33/3873
Abstract: 为了提供一种能够在磁场均匀度调整中减少磁性体片的配置量，且能够高精度地达成期望的磁场均匀度的静磁场均匀度调整方法，对于通过磁场产生装置产生的摄像空间中的静磁场，通过匀场计算来计算多个磁性体片从所述摄像空间离开的位置，将所述多个磁性体片配置在通过该匀场计算得到的位置，从而调整所述摄像空间中的静磁场均匀度，该方法的特征在于，包括：调整步骤，在所述匀场计算时，施加使配置于所述位置的所述磁性体片在所述摄像空间生成的磁场分布的极性为正负中的任一者这样的制约，来调整所述静磁场均匀度。
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公开(公告)号：CN107249453B
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201680011178.3
申请日：2016-02-19
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 提供一种匀场方法，在该匀场方法中，根据磁场测量值假定虚拟地配置且包围测量位置的电流面，通过电流电位再现能够再现测量磁场的电流分布(或磁矩分布)，并包含该再现的该磁场分布。在预先确定好的闭合曲面上推定对由磁场测量装置取得的磁场分布进行再现那样的磁矩或者电流分布，根据所推定的所述磁矩或者电流分布推定在所述闭合曲面内存在的任意点的磁场分布。并且，基于所推定的所述磁场分布，输出产生用于修正所述任意点的磁场分布的匀场磁性体的分布。
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公开(公告)号：CN108261198A
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201711085299.5
申请日：2017-11-07
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 本发明提供一种磁共振成像装置、低温系统的控制装置、以及低温系统的控制方法。表示第1实施方式的氦容器内的压力的时间变化的图表。提供一种MRI装置，该MRI装置具有：超导磁铁，其具备制冷剂容器和超导线圈；低温系统，其配置于超导磁铁；以及控制部，其对低温系统的动作进行控制。低温系统具备：冷头，其配置于制冷剂容器；冷冻机；压缩机，其向冷冻机供给压缩后的气体；检测部，其对制冷剂容器内的压力进行检测。对压缩机预先设定了预定期间内的可停止次数的上限值。控制部以如下方式进行控制：在检测部所检测到的压力成为预定的上限值以下的范围内，使压缩机断续地停止，并使压缩机的预定期间内的停止次数成为可停止次数的上限值。
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