-
公开(公告)号：CN101030471A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710004294.5
申请日：2007-01-22
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3806 , G01R33/3815
Abstract: 本发明提供一种还可使远离超导线圈而设置的强磁性体磁饱和并减少因磁不饱和引起的强磁性体的磁化不均匀、可缩短均匀磁场调节所需作业时间的电磁铁装置。在一种通过隔着均匀磁场区域(4)而相对的一对超导主线圈(6)、隔着均匀磁场区域(4)而相对并流有与超导主线圈(6)相反电流的一对超导屏蔽线圈(7)以及隔着均匀磁场区域(4)而相对且外周为圆形的一对第一强磁性体(23)，从而在均匀磁场区域(4)中形成均匀磁场的电磁铁装置中，其特征在于，还具有一对第二强磁性体(34)，它们配置成隔着均匀磁场区域(4)而相对并与第一强磁性体(23)的均匀磁场区域(4)侧的相反侧相接或邻近且外周为比第一强磁性体(23)的圆形直径(d2、d4)大的圆形。
-
公开(公告)号：CN1758068A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510112518.5
申请日：2005-09-30
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G01R33/38
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3806 , G01R33/3815 , G01R33/421
Abstract: 本发明的磁共振成像装置的超导电磁铁装置能减小配置在超导主线圈和超导屏蔽线圈间的强磁性体磁化特性的偏差影响。磁共振成像装置的超导电磁铁装置具备：一对超导主线圈(7)，在一对超导主线圈的轴上离开超导主线圈并设于与观察区域相反侧的一对超导屏蔽线圈(8)，在从超导主线圈的空心部至超导屏蔽线圈的空心部的空间的一部分上配置的强磁性体(14)，上述超导屏蔽线圈的外径做成比上述超导主线圈的外径大，上述强磁性体同轴配置形成多个轴对称的强磁性体构件(15、16、17)，而且，除了轴心部外，由于在径向的至少一部分具有空间部，因而易于使强磁性体构件(15、16、17)磁饱和，使强磁性体磁化特性的偏差的影响变小。
-
公开(公告)号：CN101030471B
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN200710004294.5
申请日：2007-01-22
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3806 , G01R33/3815
Abstract: 本发明提供一种还可使远离超导线圈而设置的强磁性体磁饱和并减少因磁不饱和引起的强磁性体的磁化不均匀、可缩短均匀磁场调节所需作业时间的电磁铁装置。在一种通过隔着均匀磁场区域(4)而相对的一对超导主线圈(6)、隔着均匀磁场区域(4)而相对并流有与超导主线圈(6)相反电流的一对超导屏蔽线圈(7)以及隔着均匀磁场区域(4)而相对且外周为圆形的一对第一强磁性体(23)，从而在均匀磁场区域(4)中形成均匀磁场的电磁铁装置中，其特征在于，还具有一对第二强磁性体(34)，它们配置成隔着均匀磁场区域(4)而相对并与第一强磁性体(23)的均匀磁场区域(4)侧的相反侧相接或邻近且外周为比第一强磁性体(23)的圆形直径(d2、d4)大的圆形。
-
公开(公告)号：CN1758068B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200510112518.5
申请日：2005-09-30
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G01R33/38
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3806 , G01R33/3815 , G01R33/421
Abstract: 本发明的磁共振成像装置的超导电磁铁装置能减小配置在超导主线圈和超导屏蔽线圈间的强磁性体磁化特性的偏差影响。磁共振成像装置的超导电磁铁装置具备：一对超导主线圈(7)，在一对超导主线圈的轴上离开超导主线圈并设于与观察区域相反侧的一对超导屏蔽线圈(8)，在从超导主线圈的空心部至超导屏蔽线圈的空心部的空间的一部分上配置的强磁性体(14)，上述超导屏蔽线圈的外径做成比上述超导主线圈的外径大，上述强磁性体同轴配置形成多个轴对称的强磁性体构件(15、16、17)，而且，除了轴心部外，由于在径向的至少一部分具有空间部，因而易于使强磁性体构件(15、16、17)磁饱和，使强磁性体磁化特性的偏差的影响变小。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.019 seconds)
