电磁铁装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101030471B

    公开(公告)日:2012-08-08

    申请号:CN200710004294.5

    申请日:2007-01-22

    CPC classification number: G01R33/3873 G01R33/3806 G01R33/3815

    Abstract: 本发明提供一种还可使远离超导线圈而设置的强磁性体磁饱和并减少因磁不饱和引起的强磁性体的磁化不均匀、可缩短均匀磁场调节所需作业时间的电磁铁装置。在一种通过隔着均匀磁场区域(4)而相对的一对超导主线圈(6)、隔着均匀磁场区域(4)而相对并流有与超导主线圈(6)相反电流的一对超导屏蔽线圈(7)以及隔着均匀磁场区域(4)而相对且外周为圆形的一对第一强磁性体(23),从而在均匀磁场区域(4)中形成均匀磁场的电磁铁装置中,其特征在于,还具有一对第二强磁性体(34),它们配置成隔着均匀磁场区域(4)而相对并与第一强磁性体(23)的均匀磁场区域(4)侧的相反侧相接或邻近且外周为比第一强磁性体(23)的圆形直径(d2、d4)大的圆形。

    粒子线治疗系统以及磁共振成像装置

    公开(公告)号:CN114340729A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202080062050.6

    申请日:2020-06-24

    Abstract: 本发明提供一种搭载有MRI装置的粒子线照射系统,能够将粒子线监视器接近MRI装置配置。具有:床(24),其搭载照射目标(26);照射装置(21),其朝向照射目标照射粒子线;以及磁共振成像装置(150),其拍摄照射对象(25)的图像。磁共振成像装置(150)具备:磁铁(50),其在配置有照射目标(26)的摄像空间(55)产生静磁场;以及磁轭(60),其配置于摄像空间(55)以外,供磁铁(50)产生的磁场的磁通通过。从摄像空间(55)观察,照射装置(21)配置于磁轭(60)的背面侧,从设置于磁轭(60)的贯通孔或设置于磁轭的间隙向照射目标照射粒子线。粒子线进入摄像空间的方向与由磁铁对摄像空间施加的静磁场的朝向交叉。

    超导磁铁装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103456454A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201310217504.4

    申请日:2013-06-03

    CPC classification number: H01F6/06 H01F6/04

    Abstract: 本发明提供一种超导磁铁装置(1),即使缩小保护电阻(5)的设置空间也能不烧毁保护电阻地消耗积蓄磁能。具有:兼作保护电阻并卷绕超导线圈(3)的卷框(5);用于向超导线圈流动持续电流的持续电流开关(6);串联连接超导线圈和持续电流开关的第一闭合电路(C1);以及串联连接超导线圈和卷框的第二闭合电路(C2)。并且具有当在超导线圈产生常导状态时从超导状态转变为常导状态并熔断的保险丝(4),第一闭合电路中,超导线圈、持续电流开关以及保险丝串联连接。第二闭合电路中,超导线圈、卷框以及持续电流开关串联连接。卷框具有筒和设置在筒的两端的一对凸缘,第二闭合电路的布线分别在隔着卷框的中心轴的凸缘上的两个部位连接。

    电磁铁装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101030471A

    公开(公告)日:2007-09-05

    申请号:CN200710004294.5

    申请日:2007-01-22

    CPC classification number: G01R33/3873 G01R33/3806 G01R33/3815

    Abstract: 本发明提供一种还可使远离超导线圈而设置的强磁性体磁饱和并减少因磁不饱和引起的强磁性体的磁化不均匀、可缩短均匀磁场调节所需作业时间的电磁铁装置。在一种通过隔着均匀磁场区域(4)而相对的一对超导主线圈(6)、隔着均匀磁场区域(4)而相对并流有与超导主线圈(6)相反电流的一对超导屏蔽线圈(7)以及隔着均匀磁场区域(4)而相对且外周为圆形的一对第一强磁性体(23),从而在均匀磁场区域(4)中形成均匀磁场的电磁铁装置中,其特征在于,还具有一对第二强磁性体(34),它们配置成隔着均匀磁场区域(4)而相对并与第一强磁性体(23)的均匀磁场区域(4)侧的相反侧相接或邻近且外周为比第一强磁性体(23)的圆形直径(d2、d4)大的圆形。

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