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公开(公告)号:CN1516900A
公开(公告)日:2004-07-28
申请号:CN01822929.8
申请日:2001-10-31
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H01L27/108 , H01L21/8242
CPC classification number: H01L29/4941 , H01L21/28044 , H01L21/28061 , H01L21/28176 , H01L21/28211 , H01L21/28556 , H01L21/324 , H01L27/10814 , H01L27/10873 , H01L27/10894
Abstract: 在一种含有高浓度氮气的气氛中实现一个WNx膜24的形成,所述WNx膜24构成一个具有多金属结构的栅电极7A的阻挡层,从而在形成栅电极7A之后的热处理步骤中,抑制N(氮)从WNx膜24中的释放。
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公开(公告)号:CN1146226C
公开(公告)日:2004-04-14
申请号:CN95103276.3
申请日:1995-04-08
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H04N5/238
Abstract: 与动图像摄像时每1场的曝光量相比,增大静止图像摄像时的曝光量。最好使后者为前者的2倍。进行静止图像摄像时,将光圈闭锁,同时,利用电子快门清除摄像器件的电荷,调节曝光量。当在光圈的闭锁动作中产生误差时,静止图像摄像时的曝光量就成为与设计值不同的值。根据曝光量的设计值与实测值之差,修正图像信号的增益。进行动图像摄像时,调节光圈和电子快门速度,特别是通过使电子快门速度成为1/100秒,防止在进行室内摄像时荧光灯引起的闪烁。
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