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公开(公告)号：CN101278376A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200680036526.9
申请日：2006-10-04
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 白石雅之
IPC: H01L21/027 , G02B5/08 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC classification number: G02B5/085 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/706 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G21K1/062
Abstract: 本发明的多层膜反射镜(2)包括基板(4)及多层膜(6)，多层膜(6)具有第1材料层(6a)及第2材料层(6b)交替地成膜在上述基板表面上的构造。上述多层膜表面附近的上述第1材料层在面内具有厚度的分布，其中，上述多层膜反射镜(2)含有：中间层(7)，其是成膜在上述多层膜表面上的Si层或含有Si之层，上述中间层表面所处的位置与上述多层膜的上述第2材料层表面所处的位置大致相同；及覆盖层(8)，其均匀地成膜在上述中间层的表面。
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公开(公告)号：CN1868033A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200480030249.1
申请日：2004-10-15
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 一种旨在降低反射率对入射角的依从性的多层膜反射镜。基底(1)由被抛光至表面(图中的顶表面)粗糙度为0.2nm RMS的低热膨胀玻璃制成。在基底(1)的表面上形成具有大的峰值反射率半宽度的Ru/Si多层膜(3)，在该Ru/Si多层膜(3)上形成具有高峰值反射率的Mo/Si多层膜(5)。因此，可以获得比只有Ru/Si时更高的反射率，和比只有Mo/Si多层膜(5)时具有更宽的半宽度的反射率峰。由于Ru提供比Mo更多的EUV射线吸收性，与在Mo/Si多层膜(5)上形成Ru/Si多层膜(3)的结构相比，能获得更高的反射率。因为具有宽的光谱反射率半宽度的多层膜具有小的反射率对入射角依从性，本发明在投影光学系统中可以保持高的成像性能。
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公开(公告)号：CN115722792A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211693469.9
申请日：2017-10-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/082 , B23K26/067 , B23K26/14 , B23K26/70
Abstract: 本发明提供一种加工装置及加工方法。加工装置包括：光照射装置，包括对物体的表面照射加工光的照射光学系统；第一位置变更装置，具有偏向光学系统，使用偏向光学系统变更从照射光学系统的加工光的物体的表面上的照射位置；第二位置变更装置，变更光照射装置与物体的位置关系；及控制装置，其中控制装置以移动在物体的表面上的第一区域内的照射位置而对表面照射加工光并在第一区域内形成多个槽构造的方式控制第一位置变更装置，控制装置以变更物体的位置关系而移动在物体的表面上的与第一区域不同的第二区域内的照射位置的方式控制第二位置变更装置，控制装置以对表面照射加工光而在第二区域内形成多个槽构造的方式控制第一位置变更装置。
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公开(公告)号：CN115383308A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202211216702.4
申请日：2018-12-03
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明公开了一种处理装置及方法，标记及造型方法，记录媒体及控制装置，其中，处理装置具备：具有对物体的表面照射能量束而形成熔融池的能量束照射部及于熔融池中供给造型材料的材料供给部的造型装置、以及变更物体与熔融池的位置关系的变更装置，并且将借由一面变更物体与熔融池的第1方向上的位置关系，一面于熔融池中供给造型材料，而沿着第1方向来造型的造型物的与第1方向交叉的第2方向的尺寸，基于造型物的第1方向上的位置而改变。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115365657A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202211074010.0
申请日：2018-12-03
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供了一种处理装置及处理方法、加工方法、造型装置及造型方法，其进行对物体照射能量束的处理，其具备：对物体的表面的至少一部分照射能量束的能量束照射装置、以及变更物体的表面上的能量束的照射位置的位置变更装置，并且使用与物体的形状有关的形状信息来控制能量束的照射位置。
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公开(公告)号：CN111246963A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201880069008.X
申请日：2018-10-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B23K26/142
Abstract: 加工装置(1)包括：光照射装置(11)，对物体(S、SF)的表面照射加工光(EL)；及间隔壁构件(132)，包围包含使加工光通过的光照射装置的光学系统(112)中位于最靠物体侧的光学构件(1123)与物体的表面之间的光路的空间。
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公开(公告)号：CN100583394C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200680013662.6
申请日：2006-05-15
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 白石雅之
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70891 , G03F7/70258 , G03F7/70575
Abstract: 一种曝光装置，可准确把握由光的照射热而引起的光学系统的特性变动。本曝光装置是以自光源(1a)射出的光对被曝光物(7)进行曝光的曝光装置，其特征在于包括检测上述光的非曝光波长成分的光量的检测机构(12、13、9)。因此，即使曝光波长成分的光量与非曝光波长成分的光量单独变动，亦可准确把握由光学系统的照射热引起的特性变动。其结果，亦可实现高性能的镜片调整系统。
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公开(公告)号：CN100449690C
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN200480030249.1
申请日：2004-10-15
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 一种旨在降低反射率对入射角的依从性的多层膜反射镜。基底(1)由被抛光至表面(图中的顶表面)粗糙度为0.2nm RMS的低热膨胀玻璃制成。在基底(1)的表面上形成具有大的峰值反射率半宽度的Ru/Si多层膜(3)，在该Ru/Si多层膜(3)上形成具有高峰值反射率的Mo/Si多层膜(5)。因此，可以获得比只有Ru/Si时更高的反射率，和比只有Mo/Si多层膜(5)时具有更宽的半宽度的反射率峰。由于Ru提供比Mo更多的EUV射线吸收性，与在Mo/Si多层膜(5)上形成Ru/Si多层膜(3)的结构相比，能获得更高的反射率。因为具有宽的光谱反射率半宽度的多层膜具有小的反射率对入射角依从性，本发明在投影光学系统中可以保持高的成像性能。
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