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公开(公告)号：CN100567567C
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200710150229.3
申请日：2007-11-19
Applicant: 南开大学
IPC: C23C16/505
Abstract: 本发明公开了一种可获得均匀电场的大面积VHF-PECVD反应室背馈入式平行板功率电极，包括平行板功率电极板和功率馈入连接端口，其特征在于所述功率馈入连接端口位于功率电极板的背面，功率电极板的正面与衬底S相对。本发明利用电极功率馈入端口位置的优化分布，抑制了电极馈入端口附近电势的对数奇点效应和电势驻波效应，使电场分布均匀性得到较大的改善，因而可以避免由于采用电极边缘功率馈入方式造成的电场分布不均匀问题。本发明解决了大面积电极板电位分布的均匀性问题，为研发大面积VHF-PECVD薄膜沉积和刻蚀系统奠定了基础，可有力推动硅薄膜电池和薄膜晶体管矩阵技术产业化进程。
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公开(公告)号：CN101510575A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910068278.1
申请日：2009-03-27
Applicant: 南开大学
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 一种聚酰亚胺塑料衬底柔性硅基薄膜太阳电池集成组件的制造方法，将透光性好的浆体聚酰亚胺刮涂在普通玻璃上，分两部低温固化，形成玻璃－聚酰亚胺薄膜复合衬底，然后按着玻璃衬底硅基薄膜太阳电池组件的制备工艺形成电池组件，引线封装后采用室温下用水浸泡的方式将已制备好的太阳电池组件从玻璃上剥离，从而获得塑料衬底的柔性电池集成组件。本发明的优点是：可利用现已成熟的玻璃衬底硅基薄膜太阳电池组件的制备设备和加工技术制造新型塑料衬底柔性硅基薄膜太阳电池集成组件，节省了昂贵的柔性衬底太阳电池设备和工艺的设计、可大大降低了制造成本，有利于加快该类新型电池的产业化进程。
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公开(公告)号：CN100510169C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200710150227.4
申请日：2007-11-19
Applicant: 南开大学
IPC: C23C16/505
Abstract: 本发明公开了一种可获得均匀电场的大面积VHF-PECVD反应室电极。它包括功率电极板和功率馈入端口，所述功率电极板在功率电极面与功率电极馈入端口之间，设有电极槽。应用本发明的这种电极可获得具有均匀电场的大面积VHF-PECVD反应室。本发明通过优化大面积甚高频功率源馈入方式、电极结构等，解决大面积电极板电位分布均匀性，是研发大面积VHF-PECVD薄膜沉积和刻蚀系统的基础，这种刻槽式电极利用电极功率馈入端口沟槽分布改变电极表面电流的分布，可以抑制电极馈入端口附近电势的对数奇点效应。
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公开(公告)号：CN101136443A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710061326.5
申请日：2007-09-30
Applicant: 南开大学
IPC: H01L31/052 , H01L31/0232 , H01L31/0216 , H01L31/18
CPC classification number: Y02E10/52 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种具有增透保护膜的柔性转移衬底太阳电池及其制备方法，首先采用电解液对金属衬底进行表面处理，接着在金属衬底上制备增透保护薄膜，然后在具有增透保护薄膜的金属衬底表面制备前电极、然后激光切割、制备P－I－N层、激光切割、制备背电极、激光切割和层压聚合物衬底，最后去除金属衬底并进行电池封装处理，得到具有增透保护膜的柔性转移衬底太阳电池。本发明在金属衬底和前电极之间增加增透保护薄膜，既避免了电池在去除临时金属衬底时受腐蚀液的影响，又提高电池的光吸收，提高太阳电池效率。
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公开(公告)号：CN1287471C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200510014307.8
申请日：2005-07-01
Applicant: 南开大学
IPC: H01L31/042 , H01L31/18
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及一种硅薄膜太阳电池集成组件，它的结构和制备技术，特别是具有氧化锌(ZnO)背反射电极的硅薄膜太阳电池集成组件及其制备技术。而ZnO背反射电极是硅薄膜太阳电池陷光结构的重要组成部分，可大幅提高电池效率。它涉及硅薄膜太阳电池集成组件的关键工艺——子电池内联集成技术，属于新型能源中薄膜太阳电池的技术领域。本发明采用掩膜蒸镀金属电极，结合湿法腐蚀ZnO的方法，实现具有ZnO背反射电极的硅薄膜太阳电池子电池的内联集成技术，最终获得硅薄膜太阳电池集成组件。该方法简单、成品率高、成本低，有利展示硅薄膜太阳电池低成本的优势。是一个结构设计思想巧妙的制备技术。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1277318C
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200510013862.9
申请日：2005-06-20
Applicant: 南开大学
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及硅薄膜太阳电池的窗口层，特别是p型窗口层的结构和制备技术，属于新能源中薄膜太阳电池的技术领域。硅薄膜太阳电池用p型窗口层，由透明衬底、透明导电薄膜、p型窗口层等组成，其特点在于：P层分为P1和P2两层，P1层是具有高晶化率宽带隙纳米硅的薄膜，厚度比P2层要薄一个数量级。在设计p型窗口层时，采用双层p型掺杂层结构。调控两层的晶化率、掺杂浓度与厚度，来达到晶化和掺杂效果分别完成、最终合成一致达到高电导、高晶化率同时得以满足的效果，为随后微晶硅有源层的生长提供良好晶化基础，并以高电导的p型掺杂提供高开路电压和低的串联电阻，从而在保证稳定性基础上提高电池效率，有利展示薄膜电池低成本的优势。
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公开(公告)号：CN1273641C
公开(公告)日：2006-09-06
申请号：CN03103964.2
申请日：2003-02-13
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及生长硅基薄膜，尤其是在低温衬底上高速生长优质硅基薄膜的低成本技术，属于薄膜光伏电池与薄膜晶体管等光电子器件技术领域。本发明是克服常规生长硅基薄膜方法中或生长速率慢、或衬底温度高、或离子轰击严重等缺陷，整合其优点。方案是，硅烷等反应气体先经过热丝加热，再输运到施加超高频功率信号电极之间，只需施加较小功率的甚高频信号，使硅烷易充分分解，通过化学气相反应沉积成膜，降低了离子轰击，改善薄膜质量。本发明的有益效果：衬底温度低，便于采用玻璃、塑料等廉价衬底；离子轰击小，薄膜生长速度快(＞50A/s)、性能好；反应气体分解充分，节省原材料，提高生产效率，降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN1710723A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200510014307.8
申请日：2005-07-01
Applicant: 南开大学
IPC: H01L31/042 , H01L31/18
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及一种硅薄膜太阳电池集成组件，它的结构和制备技术，特别是具有氧化锌(ZnO)背反射电极的硅薄膜太阳电池集成组件及其制备技术。而ZnO背反射电极是硅薄膜太阳电池陷光结构的重要组成部分，可大幅提高电池效率。它涉及硅薄膜太阳电池集成组件的关键工艺——子电池内联集成技术，属于新型能源中薄膜太阳电池的技术领域。本发明采用掩膜蒸镀金属电极，结合湿法腐蚀ZnO的方法，实现具有ZnO背反射电极的硅薄膜太阳电池子电池的内联集成技术，最终获得硅薄膜太阳电池集成组件。该方法简单、成品率高、成本低，有利展示硅薄膜太阳电池低成本的优势。是一个结构设计思想巧妙的制备技术。
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公开(公告)号：CN1557989A
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：CN200410018611.5
申请日：2004-01-13
Applicant: 南开大学
IPC: C23C14/26
Abstract: 本发明涉及一种高温电加热器，特别是涉及一种适合高真空薄膜沉积室用的外热式高温加热器，可广泛应用于半导体薄膜、薄膜材料和器件技术领域。高温电加热器，它包括真空室体、热阱，耐高温直线电阻管式加热元件组成高密度加热元件阵列，并将其镶嵌入高导热金属散热块，在加热元件阵列与金属散热块间充填耐高温散热胶，以上加热组件通过耐高温散热胶和机械紧固机构与真空室加热阱的非真空侧紧密接触，以获得对真空室体受热面的均匀传热，并通过热辐射对与室体加热面平行的平面样品进行均匀传热，从而实现真空室内的大面积样品获得高度均匀的加热，提高了可达到的样品温度，并彻底避免了加热器对样品和真空室的污染。
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公开(公告)号：CN1510413A
公开(公告)日：2004-07-07
申请号：CN02158728.0
申请日：2002-12-26
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明公开了一种光学参数测量装置。解决了现有仪器在垂直入射光条件下不能测量材料的光反射率R、在不同角度测量时R与T不相关、光吸收率α出现负值等问题。技术方案是：主要包括光源、标准反射镜、分光器、检测器与计算机构成；其特征是在光源输出的光路中增设半透半反镜；标准反射镜安装在与通过半透半反镜的入射光成90°角处，并在光源与标准反射镜之间的垂直方位依次连接分光器、检测器、计算机。本发明实现了在垂直入射光条件下测量材料的光反射率R，保证与垂直光透过率T为相关数据；尤其是当材料为透明薄膜时，有光干涉也能保证R与T是相关数据。本发明为光学测量仪器家族增添了一种测量准确无误的光学参数测量装置。
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