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公开(公告)号:CN1557989A
公开(公告)日:2004-12-29
申请号:CN200410018611.5
申请日:2004-01-13
Applicant: 南开大学
IPC: C23C14/26
Abstract: 本发明涉及一种高温电加热器,特别是涉及一种适合高真空薄膜沉积室用的外热式高温加热器,可广泛应用于半导体薄膜、薄膜材料和器件技术领域。高温电加热器,它包括真空室体、热阱,耐高温直线电阻管式加热元件组成高密度加热元件阵列,并将其镶嵌入高导热金属散热块,在加热元件阵列与金属散热块间充填耐高温散热胶,以上加热组件通过耐高温散热胶和机械紧固机构与真空室加热阱的非真空侧紧密接触,以获得对真空室体受热面的均匀传热,并通过热辐射对与室体加热面平行的平面样品进行均匀传热,从而实现真空室内的大面积样品获得高度均匀的加热,提高了可达到的样品温度,并彻底避免了加热器对样品和真空室的污染。
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公开(公告)号:CN1281779C
公开(公告)日:2006-10-25
申请号:CN200410018611.5
申请日:2004-01-13
Applicant: 南开大学
IPC: C23C14/26
Abstract: 本发明涉及一种高温电加热器,特别是涉及一种适合高真空薄膜沉积室用的外热式高温加热器,可广泛应用于半导体薄膜、薄膜材料和器件技术领域.高温电加热器,它包括真空室体、热阱,耐高温直线电阻管式加热元件组成高密度加热元件阵列,并将其镶嵌入高导热金属散热块,在加热元件阵列与金属散热块间充填耐高温散热胶,以上加热组件通过耐高温散热胶和机械紧固机构与真空室加热阱的非真空侧紧密接触,以获得对真空室体受热面的均匀传热,并通过热辐射对与室体加热面平行的平面样品进行均匀传热,从而实现真空室内的大面积样品获得高度均匀的加热,提高了可达到的样品温度,并彻底避免了加热器对样品和真空室的污染。
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公开(公告)号:CN2714581Y
公开(公告)日:2005-08-03
申请号:CN200420028239.1
申请日:2004-01-13
Applicant: 南开大学
IPC: C23C14/26
Abstract: 本实用新型涉及一种高温电加热炉,特别是涉及一种适合高真空薄膜沉积室用的外热式高温加热炉,可广泛应用于半导体薄膜、薄膜材料和器件技术领域。高温电加热炉,它包括真空室体、热阱,耐高温直线电阻管式加热元件组成高密度加热元件阵列,并将其镶嵌入高导热金属散热块,在加热元件阵列与金属散热块间充填耐高温散热胶,以上加热组件通过耐高温散热胶和机械紧固机构与真空室加热阱的非真空侧紧密接触,以获得对真空室体受热面的均匀传热,并通过热辐射对与室体加热面平行的平面样品进行均匀传热,从而实现真空室内的大面积样品获得高度均匀的加热,提高了可达到的样品温度,并彻底避免了加热炉对样品和真空室的污染。
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