利用MOCVD梯度掺杂技术生长ZnO:B薄膜及应用

    公开(公告)号:CN102168256A

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:CN201110066989.2

    申请日:2011-03-21

    Applicant: 南开大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种利用MOCVD梯度掺杂技术生长ZnO:B薄膜,利用MOCVD技术,以玻璃基片为衬底,以二乙基锌和水为原料,以硼烷作为掺杂气体,在玻璃基片上先生长未掺杂B或者低掺杂B的ZnO透明导电薄膜;然后同样利用MOCVD技术,在上述薄膜基础上分阶段梯度掺杂生长ZnO,制备玻璃基片/未掺杂B或低B掺杂ZnO/正常B掺杂ZnO透明导电薄膜。本发明的优点是:通过初期生长未掺杂或者低B掺杂ZnO薄膜,而后采用正常情况下的掺杂,实现大晶粒尺寸,高可见光及近红外透过率的ZnO薄膜。该薄膜适合应用于p-i-n型Si基薄膜太阳电池,尤其是a-Si/μc-Si叠层薄膜太阳电池,可进一步提高Si薄膜电池的性能。

    一种改善单室沉积微晶硅基薄膜太阳电池性能的方法

    公开(公告)号:CN101697364A

    公开(公告)日:2010-04-21

    申请号:CN200910071052.7

    申请日:2009-10-30

    Applicant: 南开大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种改善单室沉积微晶硅基薄膜太阳电池性能的方法,在微晶硅基薄膜太阳电池的制备方法中,在沉积完电池的n层后且下一个电池还没有进入到反应室中时,采用空腔室辉光方式进行反应腔室中含磷区域的处理,然后再沉积新电池的p层材料。本发明的优点和积极效果:本发明在单室内沉积完上一个电池的n层后,在下一个电池进入反应室前,仅采用原位微晶硅基(纳米硅基)薄膜太阳电池沉积所用的反应气体来进行空腔室辉光的磷污染处理技术,以便降低对随后沉积下一个电池的p层材料特性的影响。这种方法既不增加新的设备改造投资,又不需要引入额外的其它非反应气体,并且可以有效降低磷污染,同时提高电池效率。

    一种以聚乙烯吡咯烷酮为成膜剂的光阳极浆料及制备方法

    公开(公告)号:CN101430970A

    公开(公告)日:2009-05-13

    申请号:CN200810154057.1

    申请日:2008-12-15

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种以聚乙烯吡咯烷酮为成膜剂的光阳极浆料,原料包括乙醇、乙酰丙酮、聚乙二醇、曲拉通、松油醇,以聚乙烯吡咯烷酮为成膜剂;该浆料的制备步骤是:将聚乙烯吡咯烷酮在常温下溶解于酒精中;将光阳极粉、乙酰丙酮、曲拉通、松油醇放入上述溶剂中,研磨30分钟,使其成粘液状即可。本发明的优点是:用聚乙烯吡咯烷酮作为成膜剂,不但价钱便宜,而且使制备的光阳极浆料具有更优异的性能,如成膜性、粘接性;由于聚乙烯吡咯烷酮是一种水溶性的高分子化合物,具有优异的溶解性,吸湿性、热膨胀性和络合性好;利用PVP制备的薄膜,提高了TiO2薄膜吸附染料的数量和电池的短路电流密度,进而提高电池的光电转换效率。

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