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公开(公告)号：CN114253089A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202210015194.7
申请日：2022-01-07
Applicant: 北京理工大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种变倍率极紫外光刻投影曝光光学系统，采用变倍率中继镜组在X方向上和Y方向上对外包络为圆形的二次光源进行不同倍率的放大，得到下一代光刻机的变倍率成像模块所需要的椭圆形光源；也就是说，为了获取下一代光刻机所需要的椭圆形光源，本发明采用变倍率中继镜组进行光源的转换，进而可以继续使用现有的非变倍率的照明组件，也即使用现有的外包络为圆形的二次光源，大大节约了研发成本。
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公开(公告)号：CN109612592A
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201811536372.0
申请日：2018-12-14
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开一种利用偏振调制离焦强度检测拓扑荷的方法，待测涡旋光束首先经过偏振调制系统，经调制后的待测涡旋光束通过高数值孔径透镜聚焦到其焦点区域；焦点的光斑经过4-f系统成像于CCD检测面；逐渐增大偏振调制系统的偏振阶数P，当待测涡旋光束的拓扑荷l与偏振调制系统上的偏振阶数P数值的绝对值相等时，CCD检测面上观测的光斑呈现最小实心形状，从而可知拓扑荷l的大小；观察CCD检测面上光斑的螺旋方向获取待测涡旋光束拓扑荷l的方向，本发明能够实现任意偏振涡旋光束的拓扑荷检测。
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公开(公告)号：CN102508353B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201110352225.X
申请日：2011-11-09
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种高分辨率福布斯非球面光刻物镜，属于高分辨力投影光刻物镜技术领域；具体包括前透镜组、后透镜组，数值孔径为0.75，共使用29片透镜，其中有6个表面使用了福布斯非球面；透镜材料使用熔石英和氟化钙，其中氟化钙的作用为校正色差；前后透镜组通过透镜外框上的机械组件按一定间距固定连接在一起，两个透镜组同光轴。本发明提高了现有投影光刻物镜的分辨力，确保每个非球面与非球面系数的有效性，使得系统设计在减少非球面个数与有效数字个数的同时提高了像质，并大幅降低了公差灵敏度；以中心光线为参考时单色均方根波像差小于0.5nm，畸变小于0.5nm；可以应用于照明光源波长为193nm的深紫外投影光刻装置中。
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公开(公告)号：CN101975983A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN201010279318.X
申请日：2010-09-13
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种高分辨率非球面光刻物镜，属于高分辨力投影光刻物镜技术领域。本发明的高分辨率非球面光刻物镜包括前透镜组、后透镜组，数值孔径为0.75，共使用29片透镜，其中有3个表面使用了10次非球面；透镜材料使用熔石英和氟化钙，其中氟化钙的作用为校正色差。本发明进一步提高了现有投影光刻物镜的分辨力，使用少量的低阶非球面大幅提高了成像质量，各个透镜元件的半径、厚度间距在优化中发生改变以配合非球面更好的校正像差。以中心光线为参考时单色均方根波像差小于1nm，畸变小于0.7nm。
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公开(公告)号：CN101950065A
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN201010278088.5
申请日：2010-09-10
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种深紫外全球面光刻物镜，属于高分辨力投影光刻物镜技术领域。本发明提出了一种照明系统工作波长为193nm，数值孔径达到0.75的深紫外光刻物镜，该物镜结构紧凑、大视场、成像质量优良，各镜片全部使用球面，降低了加工难度；包括前后透镜组，共使用29片全球面透镜；透镜材料使用熔石英和氟化钙，其中，氟化钙的作用为校正色差。系统双方远心，具有极高的远心度。各个透镜元件的半径、厚度间距在优化中进行改变以更好的补偿像差并得到良好的结构参数，最终像质畸变小于1nm，波像差小于3nm。本发明可以应用于照明光源波长为193nm的深紫外投影光刻装置中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101813894A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN201010151224.4
申请日：2010-04-16
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种具有测量精度标定功能的光刻机投影物镜波像差在线检测装置，属于光学检测领域。本发明利用PSPDI的系统误差随光栅分束方向旋转的特性，在PSPDI中多引入一个光栅和两个圆孔，将两个光栅和三个圆孔一同作为测量精度标定元件，根据Zernike多项式在单位圆域的正交特性和奇偶对称性质分离在标定PSPDI测量精度时的系统误差，得到标定表征PSPDI测量精度的圆孔衍射产生的球面参考波的波面误差，使光刻机投影物镜波像差在线检测装置不仅能够在线检测波像差，还具有测量精度标定功能。
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公开(公告)号：CN101221044A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200810057088.5
申请日：2008-01-29
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种大距离光线平行调整的装置和方法，利用高稳定性的准直激光器(1)发射准直激光经过偏振分光器(2)分光，在偏振分光器反射光路与透射光路上分别放置一个λ/4波片，波片的快轴方向与激光的偏振方向成45°，再入射到一个平面反射镜上。此平面反射镜放置在一个直线运动导轨副上，利用一个自准直仪(9)和一个电子水平仪(13)进行监测，使其在移动一个较大距离时，能保持同一状态。在光线调整过程中使光线逆向反射，先后入射到同一个测角探测器(8)上，通过调整二维反射镜(6)使两出射光线的平行性达到1弧秒以下。此方法还可以调整大距离多束光线之间的平行性，也可以进行直线运动导轨副本身的滚转角测量。
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公开(公告)号：CN117970751A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202311809040.6
申请日：2023-12-26
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种高效匹配计算光刻的深紫外光刻照明光源转换方法和系统。当照明光源的形状和强度分布改变时，本发明无需重新计算各个微反射镜的倾斜角，而从当前照明光源出发，通过调整少量的微反射镜的倾斜角即可实现新的目标光源，提高了照明模式之间的转换效率，同时也提高了光刻机的工作效率。本发明能够准确地计算出匹配计算光刻优化所需的任意形状和强度分布的照明光源的微反射镜数量和倾斜角，通过调整参与照明的微反射镜的倾斜角可精准实现目标光源，提高了光源的匹配精度。
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公开(公告)号：CN114217512B
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202210014886.X
申请日：2022-01-07
Applicant: 北京理工大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种极紫外光刻投影曝光光学系统，包含照明模块和成像模块两部分，其中成像模块的设计使用了基于真实光线追迹的分组移动双向构造法，分组设计可以将复杂的系统分解为多个简单的子系统分别进行设计，即将整体系统众多未知参数分解到每一组中进行求解，由于分组后子系统较原系统待求参数数量大大减小，因此可以根据每一组的结构特点，使用现有经典光学基础定律进行求解，大大的减小了系统求解的计算量，该方法可以快速有效的实现NA0.33成像模块的设计，满足极紫外光刻物镜系统高数值孔径、大视场、高分辨力的设计需求。
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公开(公告)号：CN114547855A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210049465.0
申请日：2022-01-17
Applicant: 北京理工大学
IPC: G06F30/20 , G06F30/17 , G06F111/04 , G06F111/06
Abstract: 本发明提供一种光学成像系统多目标自动优化方法，采用指标中间量Bl渐进式的逼近各待优化性能Tl对应的最优指标Al，使得本发明在进行多性能优化的时候，可以避免优化过程陷入某些待优化性能的最优指标已经实现，但是其余某些待优化性能的最优指标无法实现的局部最优解的过程，也即渐进式的逼近，可以确保所有待优化性能对应的最优指标均能实现；同时，本发明根据每轮迭代优化设计后的结果，自动更新每一轮待优化视场点位置与光学设计软件中采用的约束条件，通过各项待优化性能的最优指标在优化过程中的相互影响，实现了多种成像系统性能的综合优化，有效的提升了成像系统的成像质量。
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