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公开(公告)号：CN118168668A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202211583982.2
申请日：2022-12-10
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/53
Abstract: 本发明提供了一种采用磁吸限位摆镜进行光路切换的零平衡比对装置，包括标准黑体、光学系统、红外探测组件和综合控制系统，光学系统包括摆镜组件、光阑组件、衰减组件和汇聚镜头，光阑组件用于光路装调时调整被测黑体及标准黑体的通光光束以使两侧光路辐射亮度保持平衡，采用磁吸限位的摆镜组件包括反射镜组件、镜座、电动旋转组件、底座和磁吸定位限位组件，衰减组件用于对光束的辐射亮度进行衰减，红外探测组件用于实现对红外辐射能量的探测，综合控制系统用于完成对标准黑体、光学系统以及红外探测组件控制及数据采集处理以实现光学辐射比对。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中零平衡光学辐射比对装置结构均较复杂，成本高的技术问题。
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公开(公告)号：CN114353965B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202011059643.5
申请日：2020-09-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种黑体辐射源及其温度控制方法、温度控制设备，所述黑体辐射源包括黑体腔以及加热模块；所述黑体腔包括：侧壁、腔底以及开口端，所述侧壁的一端位于所述开口端，所述侧壁的另一端与所述腔底连接；其中，所述开口端与所述腔底相向设置；所述加热模块包括：第一加热部以及至少一个第二加热部；其中，所述第一加热部一体成型于所述腔底的内部，至少一个所述第二加热部一体成型于所述侧壁的内部；所述第一加热部以及第二加热部分别用于向所述黑体腔的侧壁以及腔底提供热能以均匀加热所述黑体腔。通过本发明的黑体辐射源可以实现腔体内部温度一致且均匀，能够较精准的对光谱辐射测量仪器进行量值溯源。
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公开(公告)号：CN114441036B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202011227760.8
申请日：2020-11-06
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明提供一种光学载荷绝对光谱响应度校准装置和方法，包括准直光学系统、隔振光学平台、标准成像辐射计、扫描控制系统、待测载荷、综合控制和数据处理系统、单色仪和宽光谱光源，宽光谱光源产生光束射入单色仪生成单色光束，当经过准直光学系统反射后通过标准成像辐射计，获得单色光束的强度信号；当单色光束直接被待测载荷接收，获得的单色光束强度信号，扫描控制系统控制待测载荷移动，综合控制和数据处理系统计算获得待测光学载荷每个像元的绝对光谱响应度。本发明进行大面阵的高分辨率光学载荷的校准，保证高分辨率光学载荷获取数据的准确性，这对后期数据的实际应用有着重大意义，是高分辨率光学载荷研制过程中不可或缺的重要环节。
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公开(公告)号：CN115493705A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202110672172.3
申请日：2021-06-17
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/12
Abstract: 本发明提供了一种弥散条件下高温物体表面温度测量装置及方法，装置包括光收集模块、分光模块、n个探测器、反演模型模块、温度获取模块和温度处理模块；光收集模块用于收集被测高温物体辐射的光，并将辐射的光入射至分光模块；分光模块用于将入射光分为n路不同波段的光，并分别投影至对应的探测器；反演模型模块用于获取被测高温物体对应的反演系数；温度获取模块用于获取n个探测器上每个像素点位置对应的辐射亮温，得到n个探测器上每个像素点位置对应的修正后的辐射亮温；温度处理模块用于获取被测高温物体的表面温度。本发明能解决现有测温方法无法满足航空航天热试验和冶金铸造生产等领域对水雾等弥散介质条件下的红外辐射测温需求的问题。
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公开(公告)号：CN113916386B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202010644796.X
申请日：2020-07-07
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J9/00
Abstract: 一种基于气体电离室的真空紫外波长校准装置，包括：真空紫外光源为气体放电光源，前端窗口为氟化镁窗口，用来提供覆盖120nm～200nm波段范围的光谱能量；真空紫外单色分光系统包括入射狭缝、分光光栅、出射狭缝，真空紫外光源的光经入射狭缝进入，经分光光栅分光形成单色光，经出射狭缝出射；真空紫外准直系统包括多片光学镜片，使得真空紫外准直系统的焦面位置与真空紫外单色分光系统的出射狭缝位置重合，对真空紫外单色分光系统的出射光进行准直，形成平行光出射；真空紫外漫射系统为长方形，铝基底材料进行打磨制成，其表面为漫反射表面；真空紫外切换机构为圆形转台或平移导轨，可将漫射系统移入移出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114688990A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202011576170.6
申请日：2020-12-28
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明提供了一种基于光场相机的多参数三维测量装置、系统及方法，所述装置包括：脉冲激光组件、滤光组件、光场相机以及处理单元；其中，所述脉冲激光组件发出脉冲光束以对待测目标进行周期性的照明，且所述待测目标能够在脉冲激光组件发出脉冲光束时，根据脉冲光束形成反射光；滤光组件用于根据脉冲光束对反射光进行滤光，以及对待测目标的自发光进行滤光；光场相机基于滤光后的反射光以及自发光采集待测目标的图像以分别获得速度光场图像以及温度光场图像；处理单元用于根据所述速度光场图像获取待测目标的速度，以及根据温度光场图像获取待测目标的温度。上述装置既可以获取温度，也可以获取速度，适用于发动机试车试验中开展多参数测量工作。
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公开(公告)号：CN114381709A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202011134111.3
申请日：2020-10-21
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提出涂层、用途及制备方法，包括催化剂中间层和碳基涂层，催化剂中间层为岛状结构，碳基涂层沉积在岛状结构的催化剂中间层上。本发明制备特殊的催化剂中间层，将等离子体增强化学气相沉积制备的碳纳米结构引入到黑体涂层中，使得涂层具有高吸光性能、高发射率，且与基底材料结合力好，提高稳定性和耐久性。
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公开(公告)号：CN114381147A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202011134103.9
申请日：2020-10-21
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提出一种涂层、用途及其制备方法，包括二氧化硅层和附着在二氧化硅层上的金属纳米层。本发明通过制备具有高粗糙度的二氧化硅中间涂层，将金属纳米涂层引入到黑体涂层中，使金属纳米涂层具有了高粗糙度，使得涂层具有高吸光性能、高发射率，满足黑体涂层的要求。
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公开(公告)号：CN114303686A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202011055301.6
申请日：2020-09-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: A01G7/06
Abstract: 本发明提供了一种农作物顶端优势去除装置及方法，所述装置包括：光纤激光器组件、传输光纤、扩束准直组件以及F‑θ镜；所述光纤激光器组件通过所述传输光纤将激光束传入所述扩束准直组件；所述扩束准直组件依据所述F‑θ镜与农作物顶芽之间的距离调整所述激光束的发散角、腰斑半径及腰斑位置，使所述激光束经过F‑θ镜后聚焦到所需去除的农作物顶芽所在的区域去除农作物顶芽。本发明的农作物顶端优势去除装置及方法，通过高能量的激光进行精准切割，不会对切割区域外的农作物植株造成损伤，精准控制激光的作用范围和强度，提高了打顶效率，保护农作物等植株，增加农作物的产量和品质。
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公开(公告)号：CN113465755A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202010241713.2
申请日：2020-03-31
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/52
Abstract: 本发明提供了一种稳态辐射温度的间接测试方法，包括监测待测物非辐射部位的接触温度Tc；监测待测物的环境温度Ta；监测待测物辐射面的辐射温度Tr；建立接触温度Tc、环境温度Ta与辐射温度Tr之间的初始数学模型；获取多个试验温度下稳态后的多组接触温度测量值、环境温度测量值和辐射温度测量值；基于获取的多组接触温度测量值、环境温度测量值和辐射温度测量值对初始数学模型进行实验标定，得到接触温度Tc、环境温度Ta与辐射温度Tr之间的最终数学模型；基于任一时刻的接触温度测量值、环境温度测量值和最终数学模型得到对应时刻的辐射温度计算值。本发明能够解决现有技术中无法通过单点或多点接触测温结果精确推演辐射面的辐射温度的技术问题。
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