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公开(公告)号:CN104593746A
公开(公告)日:2015-05-06
申请号:CN201410594553.4
申请日:2014-10-29
Applicant: 北京工业大学
CPC classification number: C23C16/26 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C23C14/14 , C23C16/325
Abstract: 一种制备3C-SiC纳米盘、制备方法,属于碳化硅碳纳米材料制备领域。所述的SiC纳米颗粒为圆盘型,直径为5-30nm,高度为1.5-5nm。先在硅片上垂直生长单壁碳纳米管阵列,在单壁碳纳米管垂直阵列的顶层蒸镀Si层;在单壁碳纳米管阵列的顶层完成3C-SiC纳米盘的制备,3C-SiC纳米盘的分离。工艺简化,样品均匀,高结晶质量。